一种薄膜光谱反应池制造技术

本实用新型专利技术公开了光谱分析技术领域的一种薄膜光谱反应池。所述薄膜光谱反应池包括反应池密封盖和反应池主体，反应池主体是由第一挡板、第二挡板、第三挡板、第四挡板、薄膜材料固定板围成的立方体，第二挡板为反应池主体的底板，第一挡板、第三挡板、第四挡板与薄膜材料固定板为反应池主体的四壁，薄膜材料固定板高度超出反应池主体高度，用于配合光谱仪安装固定，薄膜材料固定板上有卡槽位，卡槽位内固定薄膜材料。本实用新型专利技术在薄膜材料与气体或液体进行化学反应的同时对薄膜材料的荧光光谱、紫外可见光谱等光学性质进行实时连续监测，本实用新型专利技术操作简单、安全，在薄膜荧光传感器、薄膜光敏太阳能电池等方面具有较大商业价值。

A thin film spectral reaction pool

【技术实现步骤摘要】
一种薄膜光谱反应池
本技术属于光谱分析
，尤其涉及一种薄膜光谱反应池。
技术介绍
从荧光传感器到新型光敏太阳能电池的研发和制备，荧光材料的制备和应用越来越广泛，荧光发光光谱、紫外可见光谱等光谱学分析研究手段在材料和器件研究中逐渐占据越来越重要的位置。但是目前谱学测试工具以主要是传统比色皿，没有针对薄膜材料的测试装置，因而更不能针对薄膜材料的气相或液相反应进行连续测试，这远远不能够满足应用和研发需求，尤其是在薄膜材料光谱学、薄膜材料光谱反应动力学等新兴领域。为了填补领域空白，现在迫切需要专利技术创造一种反应装置来满足这方面的研发和应用需求。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种薄膜材料光谱反应池，其特征在于，所述反应池结构包括：反应池密封盖和光谱反应池主体，所述反应池密封盖包括上、下连接的容器密封层和容器固定层，所述反应池密封盖外侧周向尺寸等于溶剂反应池主体外侧周向尺寸，容器固定层盖入所述反应池主体内，容器固定层侧面与反应池主体内壁相贴合，使反应池主体达到密封效果。所述反应池主体是由第一挡板、第二挡板、第三挡板、第四挡板、薄膜材料固定板围成的立方体，其中，第二挡板为反应池主体的底板，第一挡板、第三挡板、第四挡板与薄膜材料固定板为反应池主体的四壁，薄膜材料固定板内壁上设置卡槽位。所述卡槽位由竖直相向固定的两根固定框构成。所述卡槽位尺寸配合薄膜材料基底尺寸。所述反应池主体、第一挡板、第三挡板、第四挡板的高度均相等。所述反应池主体高度为30～50mm，长度为20mm或30mm或50mm，宽度为20～30mm。所述薄膜材料固定板上端超出反应池主体高度4mm，下端超出反应池主体高度2mm。所述第一挡板、第二挡板、第三挡板、第四挡板、薄膜材料固定板厚度均为1.5mm。所述容器密封层厚度为2mm，所述容器固定层厚度为2mm。本技术的有益效果在于：1.本技术是针对薄膜材料光学性质的测试装置，可以在薄膜材料与气体或液体进行化学反应的同时，对薄膜材料的荧光光谱、紫外可见光谱等光学性质进行实时连续监测，克服了目前光谱学测试中传统比色皿只能测定溶液的限制和必须分离测定的缺点，充分捕捉到实验过程中的相关数据，为实验结果提供了更有力的数据与证明。2.薄膜材料固定板高度超出反应池主体高度，可以方便配合光谱仪安装固定。本技术操作简单、安全，尤其在薄膜荧光传感器、薄膜光敏太阳能电池等方面具有较大商业价值。附图说明图1为本技术一种薄膜光谱反应池的结构示意图；图2为本技术薄膜材料固定板和卡槽位的主视图；图3为本技术薄膜材料固定板和卡槽位的俯视图；附图标记：1-反应池密封盖，101-容器密封层，102-容器固定层，2-反应池主体，201-第一挡板，202-第二挡板，203-第三挡板，204-第四挡板，3-薄膜材料固定板，4-卡槽位，401-固定框。具体实施方式本技术提供一种薄膜材料光谱反应池，以下结合附图和具体实施例对本技术作进一步的详细说明：如图1所示，一种薄膜材料光谱反应池，包括：反应池密封盖1和光谱反应池主体2，反应池密封盖1为聚四氟乙烯材料，光谱反应池主体2为光学石英片，反应池各连接处通过光胶连接。反应池密封盖1包括上、下连接的容器密封层101和容器固定层102，反应池密封盖1外侧周向尺寸等于溶剂反应池主体2外侧周向尺寸，容器固定层102盖入所述反应池主体2内，容器固定层102侧面与反应池主体2内壁相贴合，使反应池主体2达到密封效果。反应池主体2是由第一挡板201、第二挡板202、第三挡板203、第四挡板204、薄膜材料固定板3围成的立方体，其中，第二挡板202为反应池主体2的底板，第一挡板201、第三挡板203、第四挡板204与薄膜材料固定板3为反应池主体2的四壁。薄膜材料固定板3内壁上设置卡槽位4，卡槽位4由竖直相向固定的两根固定框401构成，如图3所示，固定框401俯视图为L型，卡槽位4尺寸配合薄膜材料基底尺寸。反应池主体2、第一挡板201、第三挡板203、第四挡板204的高度均相等，反应池主体2高度为30～50mm，长度为20mm或30mm或50mm，宽度为20～30mm。薄膜材料固定板3上端超出反应池主体2高度4mm，下端超出反应池主体2高度2mm，用于配合光谱仪基底固定夹，使反应池主体2固定，反应池密封盖1尺寸配合光谱反应池主体2。第一挡板201、第二挡板202、第三挡板203、第四挡板204、薄膜材料固定板3厚度均为1.5mm。容器密封层101厚度为2mm，容器固定层102厚度为2mm。实施例1：根据卡槽位大小制备相应尺寸的带300nm厚氧化层的硅片，将10mg/mL聚-3-已基噻吩(简称：P3HT)氯仿溶液旋涂在硅片表面，制备荧光薄膜材料，将硅片附着P3HT的一侧朝外放置于反应池卡槽位4中，盖上反应池密封盖1，将薄膜材料固定板3固定在FLS920稳态瞬态荧光/磷光光谱仪薄膜测试固定夹内，使反应池主体2固定，进行荧光光谱测试，记录该次荧光峰强度，作为第一次荧光强度数据。随后打开反应池密封盖1，滴入2-3滴硝基苯溶液，重新盖上反应池密封盖1，再次进行荧光光谱测试，记录第二次荧光强度数据。通过两次试验结果对比发现，第二次荧光峰强度相比较于第一次荧光强度逐渐减弱，由此可知，P3HT分子在硝基苯气氛中的发生荧光淬灭。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种薄膜光谱反应池，其特征在于，所述反应池包括反应池密封盖（1）和反应池主体（2），反应池密封盖（1）包括上、下连接的容器密封层（101）和容器固定层（102）；/n所述反应池密封盖（1）外侧周向尺寸等于溶剂反应池主体（2）外侧周向尺寸，容器固定层（102）盖入所述反应池主体（2）内，容器固定层（102）侧面与反应池主体（2）内壁相贴合；/n所述反应池主体（2）是由第一挡板（201）、第二挡板（202）、第三挡板（203）、第四挡板（204）、薄膜材料固定板（3）围成的立方体，其中，第二挡板（202）为反应池主体（2）的底板，第一挡板（201）、第三挡板（203）、第四挡板（204）与薄膜材料固定板（3）为反应池主体（2）的四壁；/n所述薄膜材料固定板（3）内壁上设置卡槽位（4）。/n

【技术特征摘要】
1.一种薄膜光谱反应池，其特征在于，所述反应池包括反应池密封盖（1）和反应池主体（2），反应池密封盖（1）包括上、下连接的容器密封层（101）和容器固定层（102）；
所述反应池密封盖（1）外侧周向尺寸等于溶剂反应池主体（2）外侧周向尺寸，容器固定层（102）盖入所述反应池主体（2）内，容器固定层（102）侧面与反应池主体（2）内壁相贴合；
所述反应池主体（2）是由第一挡板（201）、第二挡板（202）、第三挡板（203）、第四挡板（204）、薄膜材料固定板（3）围成的立方体，其中，第二挡板（202）为反应池主体（2）的底板，第一挡板（201）、第三挡板（203）、第四挡板（204）与薄膜材料固定板（3）为反应池主体（2）的四壁；
所述薄膜材料固定板（3）内壁上设置卡槽位（4）。


2.根据权利要求1所述一种薄膜光谱反应池，其特征在于：所述卡槽位（4）由竖直相向固定的两根固定框（401）构成。


3.根据权利要求1所述一种薄膜光谱反应池，其特征在于：...

【专利技术属性】
技术研发人员：李明亮，李硕，王国治，魏峰，
申请(专利权)人：有研工程技术研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11