OLED显示面板的像素的共振腔结构和OLED显示面板制造技术

技术编号:24297117 阅读:37 留言:0更新日期:2020-05-26 21:26
一种OLED显示面板(1000)的像素(100)的共振腔结构(10)。共振腔结构(10)包括形成有通槽(122)并具有通槽侧面(1222)的PDL(12)、形成于通槽(122)内的共振腔(14)和形成于通槽(122)内且覆盖通槽侧面(1222)的反射膜(16)。共振腔(14)通过在PDL(12)上覆盖反射膜(16),可将射向PDL(12)的光线反射回共振腔(14)从而能最终出光,提高出光效率。

Resonant cavity structure of OLED display panel and OLED display panel

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】OLED显示面板的像素的共振腔结构和OLED显示面板
本专利技术涉及显示器
,特别涉及一种有机发光二极管(organic light emitting diode,OLED)显示屏的像素的共振腔结构和OLED显示面板。
技术介绍
相关技术中的OLED显示面板的像素的共振腔结构在像素定义层(Pixel Define Layer,PDL)形成的通槽内形成有共振腔。工作时,共振腔内的部分光线可能射向PDL并被PDL材料吸收或折射出共振腔,无法最终出射,导致OLED显示面板的像素的出光效率下降。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术提供了一种OLED显示面板的像素的共振腔结构。本专利技术实施方式的共振腔结构可以用于OLED显示面板的像素。共振腔结构包括PDL、共振腔和反射膜。PDL形成有通槽并包括有通槽侧面。共振腔形成于通槽内,反射膜形成于通槽内且覆盖通槽侧面。本专利技术实施方式的OLED显示面板包括TFT基板和多个形成于TFT基板上且呈阵列排布的像素,每个像素包括共振腔结构。本专利技术实施方式的共振腔结构和OLED显示面板通过在通槽侧面覆盖反射膜,将射向PDL的光线反射回共振腔从而提升像素的光线出射率。本专利技术实施方式的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本专利技术的实践了解到。附图说明本专利技术的实施方式的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施方式的描述中将变得明显和容易理解,其中:图1是本专利技术实施方式的OLED显示面板的部分剖面示意图。图2是本专利技术实施方式的OLED显示面板的平面示意图。图3是相关技术的共振腔结构的工作原理示意图。图4是本专利技术实施方式的共振腔结构的工作原理示意图。图5是本专利技术实施方式的反射膜材料堆叠顺序与厚度的示意图。图6是本专利技术实施方式的反射膜材料搭配共振腔结构的出光频谱图。主要元件符号说明:OLED显示面板1000、像素100、共振腔结构10、阳极层11、阳极层顶面112、PDL 12、通槽122、通槽侧面1222、PDL顶面124、反射膜16、空穴层13、腔内部分132、外延部分134、发光层15、电子层17、阴极层18、共振腔14、TFT基板200、光取出层300。具体实施方式下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本专利技术的实施方式的不同结构。为了简化本专利技术的实施方式的公开,下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然,它们仅仅为示例,并且目的不在于限制本专利技术。此外,本专利技术的实施方式可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母,这种重复是为了简化和清楚的目的,其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外,本专利技术的实施方式提供了的各种特定的工艺和材料的例子,但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。流程图中或在此以其他方式描述的任何过程或方法描述可以被理解为,表示包括一个或更多个用于实现特定逻辑功能或过程的步骤的可执行指令的代码的模块、片段或部分,并且本专利技术的优选实施方式的范围包括另外的实现,其中可以不按所示出或讨论的顺序,包括根据所涉及的功能按基本同时的方式或按相反的顺序,来执行功能,这应被本专利技术的实施例所属
的技术人员所理解。请参阅图1和图2,本专利技术实施方式的共振腔结构10可以应用于OLED显示面板1000的像素100。共振腔结构10包括PDL 12、共振腔14和反射膜16。PDL 12形成有通槽122并包括有通槽侧面1222。共振腔14形成于通槽122内。反射膜16形成于通槽122内且覆盖通槽侧面1222。本专利技术实施方式OLED显示面板1000包括TFT基板200和多个形成于TFT基板200上且呈阵列排布的像素100。本专利技术实施方式的共振腔结构10和OLED显示面板1000通过在PDL 12上覆盖反射膜16,可将射向PDL 12的光线反射回共振腔14从而能最终出光,提高出光效率。OLED显示面板1000属于有机发光二极管、有机电激光显示或者有机发光半导体技术,具有自发光、广视角、高对比度、低耗电、较高反应速度等优点,已经越来越受到欢迎,并得到越来越广泛的应用,例如,本专利技术实施方式的OLED显示面板1000可以应用于手机或平板电脑等消费性电子产品,具有较高的经济价值。工作的时候,OLED显示面板1000可以用于显示画面,而每个像素100可以用于显示画面的一个像素100的颜色和亮度等画面信息。在某些实施方式中,PDL 12可以由有机光刻胶制成,但不仅限于上述材料,可根据具体需求采用合适的材料。有机光刻胶又称光致抗蚀剂,是一种有机化合物,由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后,在曝光区能很快地发生光固化反应,使得这种材料的物理性能,特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理,溶去可溶性部分,能够得到所需图像。有机光刻胶是微制造领域重要的材料,是半导体工业核心的工艺技术,现广泛用于光电信息产业精细图形线路的加工制作,是精细加工技术的重要材料。在某些实施方式中,通槽122呈倒圆台形,通槽122形成有通槽侧面1222,通槽侧面1222为向上向外倾斜的斜面。如此,通槽122形状规则,易于加工、制造。而通槽侧面1222可以缩短光线在OLED显示面板1000内的传输距离,减少光线在传输过程中的能量损耗,提高传输效率。当然,PDL 12可以不限于上述实施方式提到的材料,通槽122和通槽侧面1222的形状也可以根据具体需求采用合适的材料和形状,并不限于上述实施方式讨论的形状。在某些实施方式中,反射膜16对预定波长范围的光线的反射率大于预定值而对所述预定波长范围外的光线的反射率小于所述预定值。如此,反射膜16可以与共振腔结构10配合调整出光光谱,从而使OLED显示面板1000具有突出显示的效果。具体的,对于OLED显示面板1000,为了获得彩色显示效果,一般包括有彩色像素100阵列,例如以拜耳阵列(Bayer pattern)。因此,对于每个像素100,要求只能输出预定颜色(即预定波长范围),例如红色(R)、绿色(G)或蓝色(B)。一般自发光的光线都具有较宽的光谱,而共振腔14通过预定设计(例如设计共振腔14的光程长度)就可以筛选预定波长的光线出射。本专利技术实施方式在叠加反射膜16的辅助波长调整效果,可以进一步改善共振腔14的出射光线的光谱,提升OLED显示面板1000的彩色显示效果。下面以OLED显示面板1000的绿色的像素100为例说明增加反射膜16对出光光谱的改善效果。请参阅图3,图3为增加反射膜16前绿色的像素100的共振腔结构10的出光光谱曲线示意图。其中,横轴表示光线的波长,纵轴表示出光效率,其中,曲线A为自发光的光谱曲线,或者说,未经过共振腔14筛选波长的光谱曲线,而曲线B为经过共振腔14筛选波长后的光谱曲线。可见,在未经过共振腔14筛选前,近乎整个可见光都可以出射,而本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种共振腔结构,用于OLED显示面板的像素,其特征在于,所述共振腔结构包括:/nPDL,所述PDL形成有通槽并包括有通槽侧面;/n形成于所述通槽内的共振腔;和/n形成于所述通槽内且覆盖所述通槽侧面的反射膜。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】一种共振腔结构,用于OLED显示面板的像素,其特征在于,所述共振腔结构包括:
PDL,所述PDL形成有通槽并包括有通槽侧面;
形成于所述通槽内的共振腔;和
形成于所述通槽内且覆盖所述通槽侧面的反射膜。


如权利要求1所述的共振腔结构,其特征在于,所述PDL由有机光刻胶制成。


如权利要求1所述的共振腔结构,其特征在于,所述通槽呈倒圆台形,所述通槽侧面为向上向外倾斜的斜面。


如权利要求1所述的共振腔结构,其特征在于,所述反射膜对预定波长范围的光线的反射率大于预定值,而对所述预定波长范围外的光线的反射率小于所述预定值。


如权利要求4所述的共振腔结构,其特征在于,所述反射膜包括高折射率层和低折射率层交替堆叠结构,所述高折射率的折射率大于等于1.97,所述低折射率层的低折射率小于等于1.38。


如权利要求4所述的共振腔结构,其特征在于,所述高折射率层的厚度为68.52nm,所述低折射率层厚度为97.83nm。


如权利要求4所述的共振腔结构,其特征在于,所述高折射率层采用ZrO2制成,所述低折射率层采用MgO2制成。


如权利要求4所述的共振腔结构,其特征在于,所述高折射率层包括第1、3、5、7、9层,所述低折射率层包括第2、4、6、8层。


如权利要求1所述的共振腔结构,其特征在于,所述共振腔结构包括:
阳极层,所述PDL形成于所述阳极层上;
空穴层,所述空穴层形成于所述阳极层上;
发光层,所述发光层形成于所述空穴层上;
电子层,所述电子层形成于所述发光层上;
阴极层,所述阴极层形成于所述电子层上;
所述阳极层和所述阴极层构成...

【专利技术属性】
技术研发人员:洪定洋
申请(专利权)人:深圳市柔宇科技有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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