耐高温氨氧化菌培养装置及其方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种耐高温氨氧化菌培养装置及其方法。该装置中，承托皿用于容纳放置培养容器；培养容器包括内培养皿和外培养皿，内培养皿和外培养皿共用同一底面，两者的侧面之间夹持形成环形蓄积空间；内培养皿的侧壁底部与底面相接位置周向设有若干连通孔，内培养皿的内腔通过连通孔与环形蓄积空间连通；内培养皿的内腔底部铺设由一层吸水滤纸；补料盖包括外培养皿盖体和补料管，外培养皿盖体上开设有通孔，补料管穿过通孔后伸入所述环形蓄积空间中。本发明专利技术可采用分批补料，提高固体培养基的含水率和营养含量，可有效解决传统固体培养基长时间培养造成干裂等问题，延长耐热氨氧化微生物的培养时间。

Culture equipment and method of thermotolerant ammonia oxidizing bacteria

【技术实现步骤摘要】
耐高温氨氧化菌培养装置及其方法
本专利技术属于环境微生物用具
，涉及一种器皿，尤其涉及一种耐高温氨氧化菌培养装置。
技术介绍
随着国内外水体富营养化趋势的日益严重以及相关部门对此问题的高度重视，消减外源成为控制水体富营养化的首要措施，为此兴建了大量的污水处理厂，通过具体工艺对污水进行有效处理从而减少污染物质输入自然水体。污水处理厂的出水排放是水体氮污染的重要来源，为有效控制和缓解水体富营养化现象，污水处理厂对氮的去除要求越发严格，目前我国污水处理厂普遍要求执行《城镇污水处理厂污染物排放标准》一级A或一级B标准，其中出水氨氮浓度需要控制在5mg/L或8mg/L以下。目前国内外普遍采用生物法进行脱氮，活性污泥法连续流运行的自养硝化-异养反硝化为主流工艺，以A2/O为代表形式。一般而言，常见的脱氮过程包括硝化和反硝化两个阶段。硝化阶段的主要功能微生物是硝化细菌，作为自养微生物，其生长缓慢，且较容易受到水质条件和环境因素的影响。硝化过程又可分为两个步骤，其中第一个步骤称为氨氧化过程，即氨(NH3)在氨氧化微生物的作用下转化为亚硝酸盐(NO2-)的过程；第二个步骤称为亚硝酸盐氧化过程，即亚硝酸盐(NO2-)在亚硝酸盐氧化微生物的作用下进一步转化为硝酸盐(NO3-)的过程。考虑到自养微生物的世代周期及代谢类型等特性，一般认为氨氧化过程是硝化过程的限速步骤，影响整个脱氮过程的顺利进行。由此可见，加强对氨氧化过程功能微生物的研究，将有助于加深对污水处理中脱氮过程的理解。氨氧化菌作为氨氧化过程的功能微生物，就需要通过提升氨氧化菌的氨氧化性能来促进活性污泥的氨氧化过程。由于部分的工业废水的温度往往高于35℃，而一般氨氧化菌的最适生长温度为30℃左右，所以在超过35℃的环境中，氨氧化菌的氨氧化性能就会减弱，甚至停止生长。同时氨氧化菌是一种自养型细菌，生长缓慢，倍增时间长，其倍增时间需数天。因此，我们就需要筛选出能在35℃以上较快生长且效能较好的氨氧化菌。目前，常用的细菌培养皿多采用常规的单一的圆盒结构，其功能单一，存在较多不足，在高温条件下，培养基容易失水造成开裂，无法正常培养细菌，为此，需要一种耐高温氨氧化菌培养装置，使其能在高温条件下正常长时间培养氨氧化细菌。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术的不足，提供一种耐高温氨氧化菌培养装置。本专利技术所采用的具体技术方案如下：一种耐高温氨氧化菌培养装置，其包括承托皿、培养容器和补料盖；所述的承托皿用于容纳放置培养容器；所述培养容器包括内培养皿和外培养皿，内培养皿和外培养皿共用同一底面，两者的侧面之间夹持形成环形蓄积空间；内培养皿的侧壁底部与底面相接位置周向设有若干连通孔，内培养皿的内腔通过所述连通孔与所述环形蓄积空间连通，内培养皿的侧壁其余位置密闭不透水；内培养皿的内腔底部铺设由一层吸水滤纸，吸水滤纸的外壁贴合内培养皿的内壁；所述的补料盖包括外培养皿盖体和补料管；所述外培养皿盖体的直径大于所述外培养皿的直径，能够罩于外培养皿上；所述外培养皿盖体上开设有通孔，补料管穿过通孔后伸入所述环形蓄积空间中。作为优选，所述吸水滤纸的厚度大于所述连通孔高度。作为优选，所述承托皿、培养容器和补料盖均采用透明玻璃材质。作为优选，所述承托皿、培养容器和补料盖的横截面外轮廓均呈圆形。作为优选，所述外培养皿盖体的直径为6～8.5cm，高度为1.8～2cm。作为优选，所述通孔位于距离盖体边缘5～8mm处，补料管的入口处呈倒钩形式，补料管从入口到出口由细变粗，管口直径由1.5～2mm逐渐增大至5～6mm；补料管的高度为4～5cm，位于外培养皿盖体下面部分高度为0.8～1cm，上面部分高度为3.2～4cm。作为优选，所述内培养皿的直径为5～7cm，高度为1.5～1.8cm；所述外培养皿的直径为5.5～8cm，高度为1.5～1.8cm。作为优选，所述连通孔为矩形孔，矩形孔的长度为1～1.2cm，高度为0.1～0.2mm，相邻矩形孔之间的圆周间隔为0.2～0.4cm。作为优选，所述承托皿的直径为6.5～9cm，高度为2～2.2cm。本专利技术的另一目的在于提供一种如上述任一方案所述耐高温氨氧化菌培养装置的氨氧化菌培养高温培养方法，其步骤如下：将所述培养容器以开口朝上的形式置于所述承托皿内，再将所述吸水滤纸满铺于内培养皿的底部；然后将培养基倒入内培养皿中，等培养基冷却固定后，通过涂布棒或者接种环在培养基平面进行氨氧化菌分离培养；最后，向内培养皿和外培养皿之间的环形蓄积空间中注入一层培养液，将所述补料盖罩于培养容器上方后，放入培养箱进行高温培养，并在培养过程中通过所述补料管对环形蓄积空间定期补充培养液，使吸水滤纸通过毛细作用不断吸收培养液用于向培养基补充水分和营养成分。相对于现有技术而言，本专利技术中的耐高温氨氧化菌培养装置在传统培养皿的基础上，设计了由内培养皿和外培养皿组成的双层结构，并利用内培养皿底部的吸水滤纸与连通孔配合，使吸水滤纸通过毛细作用不断吸收内培养皿和外培养皿之间的环形蓄积空间中的培养液。由此，该培养装置能够不断向培养基补充水分和营养成分，使培养基在高温条件下不易开裂，同时氨氧化菌获得更长的分离培养时间。该培养装置，结构简单，使用方便，能在高温条件下长期培养氨氧化菌，适用于氨氧化菌的培养实验。附图说明图1为耐高温氨氧化菌培养装置的结构分解示意图。图2为耐高温氨氧化菌培养装置的整体结构示意图。图3为耐高温氨氧化菌培养装中承托皿的结构示意图。图4为耐高温氨氧化菌培养装中培养容器的结构示意图。图5为耐高温氨氧化菌培养装中培养容器的纵剖面示意图(无吸水滤纸)。图6为耐高温氨氧化菌培养装中培养容器的纵剖面示意图(有吸水滤纸)。图7为耐高温氨氧化菌培养装在使用状态下的培养容器示意图。图8为耐高温氨氧化菌培养装中补料盖的结构示意图。图中附图标记为：承托皿1、培养容器2、补料盖3、内培养皿201、外培养皿202、支撑点203、吸水滤纸204、培养基205、培养液206、外培养皿盖体301和补料管302。具体实施方式下面结合附图和具体实施方式对本专利技术做进一步阐述和说明。本专利技术中各个实施方式的技术特征在没有相互冲突的前提下，均可进行相应组合。如图1所示，为本专利技术的一较佳实施例中提供的一种耐高温氨氧化菌培养装置，其主要结构可以分为承托皿1、培养容器2和补料盖3三部分，三个部分在使用时组装成图2所示的状态，使用完毕又可重新拆分。在本实施例中，承托皿1、培养容器2和补料盖3均采用透明玻璃材质，三者的横截面外轮廓均呈圆形，当然其具体的材质和性质也可以根据实际需要进行改变，并不限定。需要特别说明的是，本专利技术中的“高温”仅仅是一个相对概念，是一个高于室温容易导致水分蒸发的温度，并不指代某个绝对温度。一般来说，氨氧化菌的培养温度在35℃及以上。承托皿1为整个培养装置的基础，参见本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种耐高温氨氧化菌培养装置，其特征在于，包括承托皿(1)、培养容器(2)和补料盖(3)；/n所述的承托皿(1)用于容纳放置培养容器(2)；/n所述培养容器(2)包括内培养皿(201)和外培养皿(202)，内培养皿(201)和外培养皿(202)共用同一底面，两者的侧面之间夹持形成环形蓄积空间；内培养皿(201)的侧壁底部与底面相接位置周向设有若干连通孔，内培养皿(201)的内腔通过所述连通孔与所述环形蓄积空间连通，内培养皿(201)的侧壁其余位置密闭不透水；内培养皿(201)的内腔底部铺设由一层吸水滤纸(204)，吸水滤纸(204)的外壁贴合内培养皿(201)的内壁；/n所述的补料盖(3)包括外培养皿盖体(301)和补料管(302)；所述外培养皿盖体(301)的直径大于所述外培养皿(202)的直径，能够罩于外培养皿(202)上；所述外培养皿盖体(301)上开设有通孔，补料管(302)穿过通孔后伸入所述环形蓄积空间中。/n

【技术特征摘要】
1.一种耐高温氨氧化菌培养装置，其特征在于，包括承托皿(1)、培养容器(2)和补料盖(3)；
所述的承托皿(1)用于容纳放置培养容器(2)；
所述培养容器(2)包括内培养皿(201)和外培养皿(202)，内培养皿(201)和外培养皿(202)共用同一底面，两者的侧面之间夹持形成环形蓄积空间；内培养皿(201)的侧壁底部与底面相接位置周向设有若干连通孔，内培养皿(201)的内腔通过所述连通孔与所述环形蓄积空间连通，内培养皿(201)的侧壁其余位置密闭不透水；内培养皿(201)的内腔底部铺设由一层吸水滤纸(204)，吸水滤纸(204)的外壁贴合内培养皿(201)的内壁；
所述的补料盖(3)包括外培养皿盖体(301)和补料管(302)；所述外培养皿盖体(301)的直径大于所述外培养皿(202)的直径，能够罩于外培养皿(202)上；所述外培养皿盖体(301)上开设有通孔，补料管(302)穿过通孔后伸入所述环形蓄积空间中。


2.如权利要求1所述的耐高温氨氧化菌培养装置，其特征在于：所述吸水滤纸(204)的厚度大于所述连通孔高度。


3.如权利要求1所述的耐高温氨氧化菌培养装置，其特征在于：所述承托皿(1)、培养容器(2)和补料盖(3)均采用透明玻璃材质。


4.如权利要求1所述的耐高温氨氧化菌培养装置，其特征在于：所述承托皿(1)、培养容器(2)和补料盖(3)的横截面外轮廓均呈圆形。


5.如权利要求1所述的耐高温氨氧化菌培养装置，其特征在于：所述外培养皿盖体(301)的直径为6～8.5cm，高度为1.8～2cm。


6.如权利要求1所述的耐高温氨氧化菌培养装置，其特征在于：所述通孔位于距离盖体边缘5～8mm处，补料管(302)...

【专利技术属性】
技术研发人员：厉巍，马彦蓉，郭平均，王浩，刘勇弟，
申请(专利权)人：华东理工大学，
类型：发明
国别省市：上海;31