本实用新型专利技术公开了一种传送辊清理装置，用于清理磁控溅射设备的传送辊表面的溅射物，所述传送辊清理装置包括装置本体、以及至少一个清理凸条，所述清理凸条设置在所述装置本体的底部且向下凸起，各个所述清理凸条的延伸方向相互平行。直接将该传送辊清理装置放置在传送辊道上往复传送就能实现溅射物的清理，无需磁控溅射设备停机和更换传送辊，清理方法十分简单，大大地减少了传送辊的清理时间和清理成本，提高了生产效率和设备利用率。
Conveyor roller cleaning device
【技术实现步骤摘要】
传送辊清理装置
本技术涉及传送辊清理装置。
技术介绍
真空磁控溅射镀膜玻璃是利用真空磁控溅射原理在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能，满足某种特定要求的玻璃产品。镀膜玻璃按产品的不同特性，可分为热反射玻璃、低辐射玻璃、导电膜玻璃等。在连续生产过程中，用于传送玻璃的传送辊受到工艺溅射物的沉积累积，传送辊的表面逐渐变得凹凸不平，玻璃在这样的传送辊上运输，会产生划痕等缺陷。因此需要定期对传送辊进行清理。但由于传送辊处于真空环境下，每次清理都需要经过回气更换靶材、更换轨道、重新抽真空等多个步骤，费时费力，影响生产计划且成品率较低，严重影响设备产能发挥。
技术实现思路
本技术的目的是提供传送辊清理装置，其可以在磁控溅射设备不停机的条件下，清理传送辊表面沉积的溅射物。为达到上述目的，本技术采用的技术方案是：一种传送辊清理装置，用于清理磁控溅射设备的传送辊表面的溅射物，所述传送辊清理装置包括装置本体、以及至少一个清理凸条，所述清理凸条设置在所述装置本体的底部且向下凸起，各个所述清理凸条的延伸方向相互平行。优选地，所述清理凸条的底部包括延伸方向与所述清理凸条平行的两个棱边，至少一个所述的棱边设有倒角。进一步优选地，所述倒角的斜度为45°。优选地，相邻的两个所述清理凸条的间距不小于所述传送辊的直径。优选地，所述清理凸条的高度不大于所述传送辊的半径。优选地，所述清理凸条的长度不大于所述传送辊的长度。优选地，所述装置本体在清理凸条延伸方向的尺寸为所述传送辊长度的一半，所述清理凸条的长度也为所述传送辊长度的一半。优选地，所述装置本体为板状，所有的所述清理凸条都设置在所述装置本体的同一侧部。优选地，所述装置本体的顶部设置有若干向上突起的所述顶部清理凸条，所述顶部清理凸条的延伸方向与所述清理凸条的延伸方向平行。进一步优选地，在垂直于所述顶部清理凸条的方向上，所述装置本体的两端部各设置有一个所述顶部清理凸条。由于上述技术方案的运用，本技术与现有技术相比具有下列优点：直接将该传送辊清理装置放置在传送辊道上往复传送就能实现溅射物的清理，无需磁控溅射设备停机和更换传送辊，清理方法十分简单，大大地减少了传送辊的清理时间和清理成本，提高了生产效率和设备利用率。附图说明附图1为传送辊清理装置的轴测示意图；附图2为传送辊清理装置的侧视示意图；附图3为图2在A处的放大视图；附图4为传送辊清理装置设置在传送辊道上时的轴测示意图；其中：1、装置本体；2、清理凸条；3、传送辊；4、限位板；5、顶部清理凸条；10、传送辊清理装置；20、传送辊道。具体实施方式下面结合附图来对本技术的技术方案作进一步的阐述。参见图1至图4所示为传送辊清理装置10，其包括装置本体1、以及至少一个清理凸条2，清理凸条2设置在装置本体1的底部且向下凸起，各个清理凸条2的延伸方向相互平行。参见图4所示，传送辊道20由多个平行的传送辊3所组成，其设置在磁控溅射设备中，传送辊3能够主动绕自身轴心线旋转、带动其上方的物体传送。当需要对辊道20进行清理时，将该传送辊清理装置10放置在传送辊道20上，并使得清理凸条2的延伸方向与传送辊3的轴心线平行，传送辊道20在对传送辊清理装置10进行传送时，传送辊3会与清理凸条2发生摩擦，因此附着在传送辊3上的溅射物会被磨掉，随着传送辊清理装置10在传送辊道20上不断往复运动，传送辊3上的溅射物逐渐被清除干净。使用该传送辊清理装置10对传送辊3进行清理，无需磁控溅射设备停机和更换传送辊3，清理方法十分简单，大大地减少了传送辊3的清理时间和清理成本，提高了生产效率和设备利用率。具体地，清理凸条2的底部包括延伸方向与清理凸条2的延伸方向平行的两个棱边，至少一个棱边设有倒角21，传送辊3在与倒角21处接触时产生的摩擦力较大，对溅射物的清除效果最好。在本实施例中，两个棱边都设置有倒角21，因此传送辊清理装置10在传送辊道20上向两个方向运动时，都能有较好的清楚效果。作为优选的实施方式，倒角21的角度为45°。相邻的两个清理凸条2的间距不小于传送辊3的直径，保证传送辊3能够与清理凸条2，特别是能够与倒角21充分接触，保证溅射物的去除效果。清理凸条2的高度不宜过高，否则传送辊道20难以传送该传送辊清理装置10，优选地，清理凸条2的高度不大于传送辊3的半径。为便于运输玻璃，传送辊道20的轴向端部设置有限位板4，限位板4的延伸方向与传送辊3垂直，因此清理凸条2的长度不大于传送辊3的长度，否则无法放到传送辊道20上。在许多磁控溅射设备中，传送辊道20设置在一腔体中，玻璃在传送辊道20与腔体的上表面直接传送，这一空间一般较为狭小，因此装置本体1设置为板形，所有的清理凸条2都设置在装置本体1的同一侧部上。若腔体的上表面积累了较多的溅射物，这些溅射物也会损伤玻璃表面。为此，装置本体1的顶部设置有若干顶部清理凸条5，顶部清理凸条5的延伸方向与清理凸条2的延伸方向平行。顶部清理凸条5的结构与清理凸条2也相同，其能够刮掉腔体上表面的溅射物。在垂直于顶部清理凸条5的方向上，装置本体1的两端部各设置有一个顶部清理凸条5，因此清理装置的结构较为对称，传送时较为稳定，清理效果较好。作为优选的实施方式，传送辊清理装置10在传送辊道20上设置有多个，传送辊清理装置10沿着传送辊3的延伸方向依次排布。这样传送辊清理装置10的体积较小，易于操作，且清理效率较高。在本实施例中，装置本体1在清理凸条2延伸方向的尺寸为传送辊3长度的一半，清理凸条2的长度也为传送辊3长度的一半。传送辊道20上设置有两个传送辊清理装置10，两个传送辊清理装置10位于传送方向同一侧的边沿之间存在间距，也就是说，两个传送辊清理装置10并排但不对齐地设置。这是因为，若两个传送辊清理装置10并排对齐，其容易受到传送辊3上溅射物的影响发生扭转，二者扭在一起卡在传送辊道20上，造成传送困难。若两个传送辊清理装置10不对齐地设置，则可以相互地纠正扭转的错位。上述实施例只为说明本技术的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本技术的内容并据以实施，并不能以此限制本技术的保护范围。凡根据本技术精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种传送辊清理装置，用于清理磁控溅射设备的传送辊表面的溅射物，其特征在于：所述传送辊清理装置包括装置本体、以及至少一个清理凸条，所述清理凸条设置在所述装置本体的底部且向下凸起，各个所述清理凸条的延伸方向相互平行，相邻的两个所述清理凸条的间距不小于所述传送辊的直径，所述清理凸条的高度不大于所述传送辊的半径，所述清理凸条的长度不大于所述传送辊的长度。/n
【技术特征摘要】
1.一种传送辊清理装置，用于清理磁控溅射设备的传送辊表面的溅射物，其特征在于：所述传送辊清理装置包括装置本体、以及至少一个清理凸条，所述清理凸条设置在所述装置本体的底部且向下凸起，各个所述清理凸条的延伸方向相互平行，相邻的两个所述清理凸条的间距不小于所述传送辊的直径，所述清理凸条的高度不大于所述传送辊的半径，所述清理凸条的长度不大于所述传送辊的长度。
2.根据权利要求1所述的传送辊清理装置，其特征在于：位于所述清理凸条的底部包括延伸方向与所述清理凸条平行的两个棱边，至少一个所述的棱边设有倒角。
3.根据权利要求2所述的传送辊清理装置，其特征在于：所述倒角的斜度为45°。
...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴壮，解孝辉，俞亚军，张青涛，
申请(专利权)人：吴江南玻华东工程玻璃有限公司，中国南玻集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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