【技术实现步骤摘要】
传送辊清理装置
本技术涉及传送辊清理装置。
技术介绍
真空磁控溅射镀膜玻璃是利用真空磁控溅射原理在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能，满足某种特定要求的玻璃产品。镀膜玻璃按产品的不同特性，可分为热反射玻璃、低辐射玻璃、导电膜玻璃等。在连续生产过程中，用于传送玻璃的传送辊受到工艺溅射物的沉积累积，传送辊的表面逐渐变得凹凸不平，玻璃在这样的传送辊上运输，会产生划痕等缺陷。因此需要定期对传送辊进行清理。但由于传送辊处于真空环境下，每次清理都需要经过回气更换靶材、更换轨道、重新抽真空等多个步骤，费时费力，影响生产计划且成品率较低，严重影响设备产能发挥。
技术实现思路
本技术的目的是提供传送辊清理装置，其可以在磁控溅射设备不停机的条件下，清理传送辊表面沉积的溅射物。为达到上述目的，本技术采用的技术方案是：一种传送辊清理装置，用于清理磁控溅射设备的传送辊表面的溅射物，所述传送辊清理装置包括装置本体、以及至少一个清理凸条，所述清理凸条设置在所述装置本体的底部且向下凸起，各个所...
【技术保护点】
1.一种传送辊清理装置，用于清理磁控溅射设备的传送辊表面的溅射物，其特征在于：所述传送辊清理装置包括装置本体、以及至少一个清理凸条，所述清理凸条设置在所述装置本体的底部且向下凸起，各个所述清理凸条的延伸方向相互平行，相邻的两个所述清理凸条的间距不小于所述传送辊的直径，所述清理凸条的高度不大于所述传送辊的半径，所述清理凸条的长度不大于所述传送辊的长度。/n
【技术特征摘要】
1.一种传送辊清理装置，用于清理磁控溅射设备的传送辊表面的溅射物，其特征在于：所述传送辊清理装置包括装置本体、以及至少一个清理凸条，所述清理凸条设置在所述装置本体的底部且向下凸起，各个所述清理凸条的延伸方向相互平行，相邻的两个所述清理凸条的间距不小于所述传送辊的直径，所述清理凸条的高度不大于所述传送辊的半径，所述清理凸条的长度不大于所述传送辊的长度。
2.根据权利要求1所述的传送辊清理装置，其特征在于：位于所述清理凸条的底部包括延伸方向与所述清理凸条平行的两个棱边，至少一个所述的棱边设有倒角。
3.根据权利要求2所述的传送辊清理装置，其特征在于：所述倒角的斜度为45°。
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【专利技术属性】
技术研发人员：吴壮，解孝辉，俞亚军，张青涛，
申请(专利权)人：吴江南玻华东工程玻璃有限公司，中国南玻集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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