一种光谱仪制造技术

本实用新型专利技术公开一种光谱仪，包括依次设置的第一狭缝，准直单元，第一色散单元，聚焦单元，第二狭缝，第二色散单元及二维阵列探测器；第一狭缝设置于准直单元的物面焦点上或附近；第二狭缝设置于聚焦单元的像面焦点上或附近；入射光经第一色散单元和第二色散单元的二次色散后，成像至二维阵列探测器接收面，第一色散单元的主截面和第二色散单元的主截面相互垂直；第一狭缝垂直于第一色散单元的主截面，第二狭缝垂直于第二色散单元的主截面，第一狭缝和第二狭缝相互垂直。本实用新型专利技术可使不同波长的光在二维阵列探测器接收面的平面上呈倾斜分离，消除了相近波长光在测试过程中反射到目标波长区域带来的误差，剔除杂散光对测试结果的影响。

A spectrometer

【技术实现步骤摘要】
一种光谱仪
本技术涉及光电测试领域，具体涉及一种光谱仪。
技术介绍
光谱仪用来测量分析光谱辐射功率分布和光谱组成的设备，广泛应用于光源辐射测量、颜色测量、元素鉴定、化学分析等领域。采用阵列探测器，如CCD、二极管阵列等作为探测元件的快速光谱仪可在毫秒级的时间内迅速测量被测光源的光谱功率分布，近几十年来得到了快速发展和广泛应用。杂散光控制水平是评价快速光谱仪最重要指标之一，针对快速光谱仪，杂散光是指照射在某个特定波长点所对应的象元上的其他光谱成分，其大小决定着阵列光谱仪的测量准确度。杂散光主要由于周围环境的光辐射、不同级次光谱的重叠和光学元件缺陷或非光学元件的反射等原因产生的。现有的基于阵列探测器的快速光谱仪即一次测量即可获得整个待测波段的光谱功率分布，这种测量方法虽然测试速度快，成本也较低，但杂散光较大，准确度相对较低。此外，光栅作为色散元件时，由于光栅的零级光谱能量最大但不能发生色散，光谱仪实际测量的是光栅发生色散的一级光谱，但由于其能量较低，限于探测器的灵敏度，往往需要较大能量的入射光，才能保证一级光谱被探测器探测到；但入射光能量增本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光谱仪，其特征在于，包括/n依照光线入射顺序设置的第一狭缝，准直单元，第一色散单元，聚焦单元，第二狭缝，第二色散单元及二维阵列探测器；/n所述第一狭缝设置于所述准直单元的物面焦点上或附近；所述第二狭缝设置于所述聚焦单元的像面焦点上或附近；/n入射光经所述第一色散单元和所述第二色散单元的二次色散后，成像至所述二维阵列探测器接收面，其中，所述第一色散单元的主截面和所述第二色散单元的主截面为相互垂直的；/n所述第一狭缝垂直于所述第一色散单元的主截面，所述第二狭缝垂直于所述第二色散单元的主截面，且所述第一狭缝和所述第二狭缝相互垂直。/n

【技术特征摘要】
1.一种光谱仪，其特征在于，包括
依照光线入射顺序设置的第一狭缝，准直单元，第一色散单元，聚焦单元，第二狭缝，第二色散单元及二维阵列探测器；
所述第一狭缝设置于所述准直单元的物面焦点上或附近；所述第二狭缝设置于所述聚焦单元的像面焦点上或附近；
入射光经所述第一色散单元和所述第二色散单元的二次色散后，成像至所述二维阵列探测器接收面，其中，所述第一色散单元的主截面和所述第二色散单元的主截面为相互垂直的；
所述第一狭缝垂直于所述第一色散单元的主截面，所述第二狭缝垂直于所述第二色散单元的主截面，且所述第一狭缝和所述第二狭缝相互垂直。


2.如权利要求1所述的光谱仪，其特征在于，所述第一色散单元和所述第二色散单元为棱镜和光栅的任意组合。


3.如权利要求1所述的光谱仪，其特征在于，所述第一色散单元和...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘建根，蔡欢庆，沈思月，
申请(专利权)人：杭州远方光电信息股份有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33