【技术实现步骤摘要】
一种镀在半导体激光器腔面用于选模的超窄带超薄反射膜
本专利技术属于反射膜
,具体涉及一种镀在半导体激光器腔面用于选模的超窄带超薄反射膜。
技术介绍
激光器输出的选模技术分为两个部分,一部分是对激光纵模的选取,另一部分是对激光横模的选取,前者对激光的输出频率影响较大,能够大大提高激光的相干性,常常也叫作激光的选频技术;后者是主要影响激光输出的光强均匀性,提高激光的亮度。大多数激光器为了得到较大的输出能量使用较长的激光谐振腔,这就使得激光器的输出是多模的,然而,基横模与高阶模相比,具有亮度高、发散角小、径向光强分布均匀、振荡频率单一的特点,具有最佳的时间和空间相干性。现有技术通常选模用FP腔或光栅。FP腔选模成本低,线宽大,边模抑制比差,用途少,光栅选模线宽窄,用途广,成本高,用超窄带反射镜来选模,成本低,常规的超窄带反射镜的镀膜成本高,因膜层厚反射面距离腔面远损耗大。
技术实现思路
(1)技术方案为了克服现有技术的不足之处,本专利技术提供一种镀在半导体激光器腔面用于选模的超窄带 ...
【技术保护点】
1.一种镀在半导体激光器腔面用于选模的超窄带超薄反射膜,包括巴条(1),其特征在于,所述超窄带超薄反射膜包含金属诱导膜(2)、窄带滤光膜(3)、高反膜(4)和耦合部分反射膜(6),所述巴条(1)的中间是激活区(5),所述超窄带超薄反射膜膜系结构从靠近所述激活区(5)起依次是所述金属诱导膜(2)、所述窄带滤光膜(3)、所述高反膜(4),所述的超窄带超薄反射率峰值波长的半高全宽小于2nm,所述激活区(5)的另一端面是所述耦合部分反射膜(6)。/n
【技术特征摘要】
1.一种镀在半导体激光器腔面用于选模的超窄带超薄反射膜,包括巴条(1),其特征在于,所述超窄带超薄反射膜包含金属诱导膜(2)、窄带滤光膜(3)、高反膜(4)和耦合部分反射膜(6),所述巴条(1)的中间是激活区(5),所述超窄带超薄反射膜膜系结构从靠近所述激活区(5)起依次是所述金属诱导膜(2)、所述窄带滤光膜(3)、所述高反膜(4),所述的超窄带超薄反射率峰值波长的半高全宽小于2nm,所述激活区(5)的另一端面是所述耦合部分反射膜(6)。
2.根据权利要求1所述的一种镀在半导体激光器腔面用于选模的超窄带超薄反射膜,其特征在于,所述窄带滤光膜(3)的高低折射率比大于2。
3.根据权利要求2所述的一种镀...
【专利技术属性】
技术研发人员:王启平,
申请(专利权)人:腾景科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:福建;35
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