光学感应器及其形成方法技术

本发明专利技术实施例提供一种光学感应器及其形成方法，该光学感应器包括：位于基板中的多个像素以及位于基板之上的光准直层。上述光准直层包括：第一遮光层、第一透光柱、第二遮光层及第二透光柱。第一遮光层位于基板之上。第一透光柱穿过第一遮光层，对应设置于像素上。第二遮光层位于第一遮光层及第一透光柱上方；以及第二透光柱，穿过第二遮光层，对应设置于第一透光柱上；第一透光柱的顶面积不等于第二透光柱的底面积。该光学感应器可避免工艺能力限制，提高透光柱的总高宽比，改善多层透光柱之间的对准问题，以提升工艺良率。

Optical sensor and its forming method

【技术实现步骤摘要】
光学感应器及其形成方法
本专利技术是有关于一种光学元件，特别是有关于一种光学感应器。
技术介绍
光学感应器中的光学元件可包括光准直器(lightcollimator)、分束器、聚焦镜以及线性感测器。其中，光准直器的功能在于准直光线，以减少因光发散所导致的能量损失。举例而言，光准直器可被应用于光学感应器中，以增加指纹辨识装置的效能。光准直器包括透光柱及包围透光柱的遮光层，以达到准直光线的效果。因设计需求，需要高高宽比(aspectratio)的透光柱时，可能因工艺能力限制而容易使透光柱倒塌变形，影响光准直器的准直效果，进一步影响光学感应器的良率。虽然现有的光学感应器大致符合需求，但并非各方面皆令人满意，特别是提高光学感应器的光准直器透光柱的高宽比仍需进一步改善。
技术实现思路
根据一实施例，本专利技术提供一种光学感应器，包括：像素，位于基板中；光准直(collimating)层，位于基板之上，包括：第一遮光层，位于基板上方；第一透光柱，穿过第一遮光层，对应设置于像素上；第二遮光层，位于第一遮光层及第一透光柱上方本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学感应器，其特征在于，包括：/n多个像素，位于一基板中；/n一光准直层，位于所述基板之上，包括：/n一第一遮光层，位于所述基板上方；/n多个第一透光柱，穿过所述第一遮光层，对应设置于所述像素上；/n一第二遮光层，位于所述第一遮光层及所述第一透光柱上方；以及/n多个第二透光柱，穿过所述第二遮光层，对应设置于所述第一透光柱上；/n其中所述第一透光柱的顶面积不等于所述第二透光柱的底面积。/n

【技术特征摘要】
1.一种光学感应器，其特征在于，包括：
多个像素，位于一基板中；
一光准直层，位于所述基板之上，包括：
一第一遮光层，位于所述基板上方；
多个第一透光柱，穿过所述第一遮光层，对应设置于所述像素上；
一第二遮光层，位于所述第一遮光层及所述第一透光柱上方；以及
多个第二透光柱，穿过所述第二遮光层，对应设置于所述第一透光柱上；
其中所述第一透光柱的顶面积不等于所述第二透光柱的底面积。


2.根据权利要求1所述的光学感应器，其特征在于，所述第一透光柱及所述第二透光柱在剖面图中的形状相同。


3.根据权利要求1所述的光学感应器，其特征在于，所述第一透光柱及所述第二透光柱在剖面图中的形状不同。


4.根据权利要求1所述的光学感应器，其特征在于，所述第一透光柱及所述第二透光柱在剖面图中的大小相同。


5.根据权利要求1所述的光学感应器，其特征在于，所述第一透光柱及所述第二透光柱在剖面图中的大小不同。


6.根据权利要求1所述的光学感应器，其特征在于，所述第一透光柱及所述第二透光柱各自的底面积不等于其各自的顶面积。


7.根据权利要求1所述的光学感应器，其特征在于，所述第一透光柱及所述第二透光柱各自的底面积等于其各自的顶面积。


8.根据权利要求1所述的光学感应器，其特征在于，所述第一透光柱及所述第二透光柱各自的侧壁与其各自的底表面不垂直。


9.根据权利要求1所述的光学感应器，其特征在于，所述第一透光柱及所述第二透光柱的侧壁与其各自的底表面垂直。


10.根据权利要求1所述的光学感应器，其特征在于，所述第一透光柱及所述第二透光柱的总高宽比介于1:1至30:1之间。


11.根据权利要求1所述的光学感应器，其特征在于，所述第一透光柱与所述第二透光柱材料相同，及所述第一遮光层与所述第二遮光层材料相同。


12.根据权利要求1所述的光学感应器，其特征在于，更包括：
一底遮光层，位于所述第一遮光层下，且位于所述像素之间的所述基板上方。

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【专利技术属性】
技术研发人员：李新辉，曾汉良，余俊良，林光明，陈茵，陈子端，林学荣，吕文志，吕定蓉，
申请(专利权)人：世界先进积体电路股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71