当前位置: 首页 > 专利查询>唐玲玲专利>正文

一种可除垢保洁的二次供水设备制造技术

技术编号:24235628 阅读:42 留言:0更新日期:2020-05-21 04:40
本实用新型专利技术公开了一种可除垢保洁的二次供水设备,包括底板,所述底板的顶部设置有支撑架,底板的顶部设置有储水箱,且储水箱位于支撑架的内侧,所述储水箱的一侧设置有支撑板,所述支撑板的顶部安装有电机,所述电机的输出端设置有第一转轴,所述第一转轴远离电机的一侧安装有第一电动伸缩杆。本实用新型专利技术通过第一电动伸缩杆向左运动,从而带动第三转轴向左运动,从而使第一卡块与第二卡块分离,且通过第二电动伸缩杆带动顶盖向上运动,从而将第二转轴和过滤网同时移出储水箱,使该种可除垢保洁的二次供水设备对污垢的清理方法更为简单,从而提高了二次供水设备的使用效果,且提高了工作效率。

A kind of secondary water supply equipment which can remove scale and keep clean

【技术实现步骤摘要】
一种可除垢保洁的二次供水设备
本技术涉及二次供水设备除垢保洁
,具体为一种可除垢保洁的二次供水设备。
技术介绍
二次供水是指单位或个人将城市公共供水或自建设施供水经储存、加压,通过管道再供用户或自用的形式,因此,二次供水是高层供水的唯一选择方式。然而现有的二次供水设备在储存水的过程中,容易使水中的产生大量的杂质,从而降低了水的纯净度,且在储存水的过程中水中的杂质容易沉淀在二次供水设备的内部,对二次供水设备造成一定的堵塞,从而降低了二次供水设备的使用寿命,且现有的二次供水设备在清理时,对污垢的清理方法较为复杂,从而降低了二次供水设备的使用效果,且降低了工作效率。
技术实现思路
本技术的目的在于:为了解决现有的二次供水设备在储存水的过程中,容易使水中的产生大量的杂质,从而降低了水的纯净度,且在储存水的过程中水中的杂质容易沉淀在二次供水设备的内部,对二次供水设备造成一定的堵塞,从而降低了二次供水设备的使用寿命,且现有的二次供水设备在清理时,对污垢的清理方法较为复杂,从而降低了二次供水设备的使用效果,且降低了工作效率的问题本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可除垢保洁的二次供水设备,包括底板(1),其特征在于:所述底板(1)的顶部设置有支撑架(2),底板(1)的顶部设置有储水箱(3),且储水箱(3)位于支撑架(2)的内侧,所述储水箱(3)的一侧设置有支撑板(4),所述支撑板(4)的顶部安装有电机(5),所述电机(5)的输出端设置有第一转轴(6),所述第一转轴(6)远离电机(5)的一侧安装有第一电动伸缩杆(7),所述第一电动伸缩杆的输出端固定有贯穿至储水箱(3)内部一侧的第三转轴(16),所述第三转轴(16)远离电机(5)的一侧设置有第一卡块(12),所述储水箱(3)的内部远离第三转轴(16)的一侧设置有第三卡块(14),所述储水箱(3)的...

【技术特征摘要】
1.一种可除垢保洁的二次供水设备,包括底板(1),其特征在于:所述底板(1)的顶部设置有支撑架(2),底板(1)的顶部设置有储水箱(3),且储水箱(3)位于支撑架(2)的内侧,所述储水箱(3)的一侧设置有支撑板(4),所述支撑板(4)的顶部安装有电机(5),所述电机(5)的输出端设置有第一转轴(6),所述第一转轴(6)远离电机(5)的一侧安装有第一电动伸缩杆(7),所述第一电动伸缩杆的输出端固定有贯穿至储水箱(3)内部一侧的第三转轴(16),所述第三转轴(16)远离电机(5)的一侧设置有第一卡块(12),所述储水箱(3)的内部远离第三转轴(16)的一侧设置有第三卡块(14),所述储水箱(3)的顶部安装有顶盖(8),所述顶盖(8)底部的两侧皆设置有支撑杆(9),所述顶盖(8)的下方设置有贯穿至支撑杆(9)一侧的第二转轴(10),所述第二转轴(10)的外侧均匀设置有多组过滤网(11),所述第二转轴(10)靠近支撑杆(9)的两侧皆设置有第二卡块(13),所述顶盖(8)顶部的两侧皆安装有第二电动伸缩杆(17),所述支撑架(2)内侧的顶端设置安装有电磁滑轨(18)。


2.根据权利要求1所述的一种可除垢保洁的二次供水设备,其特征在于:所述储水箱(3)的内部远离第三转轴(16)的一侧设置有第一轴承座(15),且第一轴承座(15)的内部设置有轴承,所述第三卡块(14)通过第一轴承座(15)和轴承的相互配合与储水箱(3)转动连接。


3.根据权利要求1所述的一...

【专利技术属性】
技术研发人员:唐玲玲
申请(专利权)人:唐玲玲
类型:新型
国别省市:广东;44

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1