一种滤光片、成像装置及电子设备制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种滤光片、成像装置及电子设备，包括间隔体、第一电极和第二电极；间隔体，设置在所述第一电极和所述第二电极之间，包括第一表面、第二表面以及设置在所述第一表面和第二表面之间的法布里珀罗干涉层；所述第一表面和所述第二表面包括高反射率膜；所述第一电极和所述第二电极用于通电以提供所述法布里珀罗干涉层两端的电势差，根据所述电势差改变所述法布里珀罗干涉层的体积。通过基于法布里珀罗干涉原理设计的可调波长滤光片提供电势差使法布里珀罗干涉层膨胀或收缩，导致滤光片的中心波长发生改变，对上下反射面的平整度以及倾斜度均要求不高，不易引起误差，且总体厚度仅为毫米级别，使用磁控溅射等常规生产方式，生产成本较低，易于大规模生产。

A kind of filter, imaging device and electronic equipment

【技术实现步骤摘要】
一种滤光片、成像装置及电子设备
本专利技术涉及光学成像
，尤其涉及一种滤光片、成像装置及电子设备。
技术介绍
光谱成像技术基于不同物体对不同电磁波谱的吸收或辐射特性不同，获取目标的空间图形信息和光谱特性，得到目标的数据立方体，有助于对目标的研读、判断等工作，是光学探测技术中的重要组成部分。常见的获取目标光谱信息的技术包括：色散型光谱成像、干涉型光谱成像、计算层析型光谱成像、滤光型光谱成像。其中，应用较广泛的是色散型光谱成像和滤光型光谱成像。色散型光谱成像技术是利用棱镜或衍射光栅作为分光元件，将通过狭缝的入射光按波长分散开来，再由成像系统成像到探测器上。在拍摄过程中需要不断移动样品进行扫描拍摄获得完整的数据立方体，而且，通常需要在狭缝后设置准直镜将光束入射到衍射光栅中，造成系统体积较大、扫描分辨率不高且成本较高的问题。滤光型光谱成像技术是利用滤光片做分光元件，常用的有液晶可调谐滤光片和线性渐变滤光片，这种方式需要光谱调制以获得完整的数据立方体。其中，线性渐变滤光片是在一片晶元上镀制各种不同波长的光学薄膜形成连续的光谱通道，镀本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种滤光片，其特征在于，包括间隔体、第一电极和第二电极；/n间隔体，设置在所述第一电极和所述第二电极之间，包括第一表面、第二表面以及设置在所述第一表面和所述第二表面之间的法布里珀罗干涉层；所述第一表面和所述第二表面包括高反射率膜；/n所述第一电极和所述第二电极用于通电以提供所述法布里珀罗干涉层两端的电势差，根据所述电势差改变所述法布里珀罗干涉层的体积。/n

【技术特征摘要】
1.一种滤光片，其特征在于，包括间隔体、第一电极和第二电极；
间隔体，设置在所述第一电极和所述第二电极之间，包括第一表面、第二表面以及设置在所述第一表面和所述第二表面之间的法布里珀罗干涉层；所述第一表面和所述第二表面包括高反射率膜；
所述第一电极和所述第二电极用于通电以提供所述法布里珀罗干涉层两端的电势差，根据所述电势差改变所述法布里珀罗干涉层的体积。


2.如权利要求1所述的滤光片，其特征在于，所述法布里珀罗干涉层包括透明或半透明状态的压电陶瓷材料。


3.如权利要求2所述的滤光片，其特征在于，所述法布里珀罗干涉层包括至少一种压电陶瓷材料和至少一种透明材料混合而成，所述透明材料包括二氧化硅、三氧化二铝、二氧化钛或五氧化二铌。


4.如权利要求1所述的滤光片，其特征在于，所述法布里珀罗干涉层根据所述电势差而膨胀或收缩，所述滤光片的中心波长随所述法布里珀罗干涉层的体积而变。


5.如权利要求1-4任一所述的滤光片，其特征在于，所述法布里珀罗干涉层采用磁控溅射、晶圆的长晶技术沉积而成...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄杰凡，
申请(专利权)人：深圳奥比中光科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44