光学构件的制造方法及制造装置制造方法及图纸

[课题]提供一种研磨屑等粉体的附着少的光学构件的制造方法和制造装置。[解决手段]光学构件的制造方法包括：准备具有光学膜(50)及在光学膜(50)的一个面设置的粘合剂层(80)、且在其端面(E)附着有粉体(f)的层叠体(100)的工序；以及使干冰粒子(d)冲击层叠体(100)的端面(E)而将粉体(f)从端面(E)去除的工序。

Manufacturing method and device of optical components

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学构件的制造方法及制造装置
本专利技术涉及光学构件的制造方法及制造装置。
技术介绍
以往，已知具备偏振片等光学膜及粘合剂层的光学构件。作为得到期望尺寸的光学构件的方法，已知将具有光学膜及粘合剂层的原材层叠体用激光、刀片进行切割(参照专利文献1、2)。现有技术文献专利文献专利文献1：WO2014/189078号公报专利文献2：日本特开2009-86675号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题然而，近年来，对于使用了光学膜及粘合剂层的光学构件的尺寸精度的要求越来越严格。因此，仅对原材层叠体进行切割难以获得期望的尺寸精度。于是，有时对切割后的层叠体的端面进行研削及研磨等加工。然而，若对层叠体的端面进行研磨等加工，则会有研磨屑等粉体附着于层叠体的端面的情况。若粉体残留于层叠体，则引起包含层叠体的最终产品的污染等，故而不优选。本专利技术是鉴于上述课题而作出的，其目的在于，提供研磨屑等粉体的附着少的光学构件的制造方法及制造装置。用于解决课题的手段本专利技术所述的光学构件的制造方法包括：准备具有光学膜及在所述光学膜的一个面设置的粘合剂层、且在其端面附着有粉体的层叠体的工序(准备工序)；以及通过使干冰粒子冲击所述层叠体的所述端面而将所述粉体从所述端面去除的工序(冲击工序)。根据本专利技术，利用干冰粒子，将切割屑、切削屑、研磨屑等粉体从层叠体(光学构件)的端面合适地去除。此处，所述干冰粒子的平均粒径可以为100～1000μm。由此，能够合适地去除研削屑等粉体，并且能够抑制端面的粘合剂的缺损。另外，在所述冲击工序中，能够使所述干冰粒子冲击将所述层叠体层叠多个而得的层叠结构体的端面。由此，能够进行层叠体的大量处理。另外，能够使所述干冰粒子冲击所述端面的一部分，同时对所述层叠体的所述端面的其它部分进行选自由切割、切削及研磨组成的组中的至少一种。由此，能够同时并行地进行多个工序，可以缩短工序时间。另外，能够在所述准备工序中对所述端面进行选自由切割、切削及研磨组成的组中的至少一种处理，在使所述干冰粒子冲击所述端面的一部分时，不对所述端面进行选自所述组中的任一种处理。由此，能够区分成通过干冰粒子的冲击来去除粉体的气氛(空间)和产生粉体的加工的气氛(空间)，因此，能够抑制因端面的加工而产生的粉体污染干冰所冲击的部分。所述光学膜可以为选自偏振片、保护膜、相位差膜、亮度提高膜、窗膜、触控传感器中的至少一种；包含2个以上的选自所述组中的至少1种的层叠膜、或者包含选自所述组中的至少2种的层叠膜。所述冲击工序中的气氛的相对湿度可以为30～75％。本专利技术所述的光学构件的制造装置具备：对具有光学膜及在所述光学膜的一个面设置的粘合剂层的层叠体的端面进行切割、切削或研磨的端面加工部；以及使干冰粒子冲击所述层叠体中的被加工成所述端面加工部的部分的干冰粒子供给部。上述光学构件的制造装置可以还具备：使所述层叠体在所述端面加工部与所述干冰粒子供给部之间发生移动的运送部。专利技术的效果根据本专利技术，能够提供研磨屑等粉体的附着少的光学构件的制造方法及制造装置。附图说明图1的(a)及(b)是本专利技术的1个实施方式所述的层叠体100的截面图。图2的(a)及(b)分别是层叠体的另一例的截面图。图3是干冰粒子供给部的概要构成图。图4是示出使干冰粒子冲击具有多个层叠体100的层叠结构体120的端面的方式的概念图。图5是本专利技术的1个实施方式所述的光学构件的制造装置的立体图。图6是示出图5中的端面加工部的另一例的立体图。图7是示出使干冰粒子冲击具有贯通孔H’的层叠结构体120的内侧的端面的方式的概念图。具体实施方式参照附图，对本专利技术的实施方式所述的光学构件的制造方法及制造装置进行说明。(在端面附着有粉体的层叠体的准备)首先，如图1的(a)所示那样地，准备具有光学膜50及在光学膜50的一个面设置的粘合剂层80、且在其端面E附着有粉体f的层叠体100。需要说明的是，端面E不限于层叠体100的外侧的端面。例如，如图1的(b)所示那样地，层叠体100具有在层叠方向上贯通的孔H的情况下，会有在孔H的内壁、即层叠体100的内侧的端面E也附着有开孔屑等粉体f的情况。(光学膜)光学膜50是指使可见光的至少一部分透射的膜。光学膜50的例子为偏振片、保护膜、相位差膜、亮度提高膜、窗膜、触控传感器，光学膜50可以具有具备多个这些膜中的单一种类的层叠结构，也可以具有具备这些膜中的多种的层叠结构。(偏振片)偏振片是指直线偏振光的透射率在面内的正交的2个方向上互不相同的膜。作为偏振片的材料，可以使用一直以来在偏振片的制造中使用的公知材料，可举出例如聚乙烯醇系树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、乙烯/乙酸乙烯酯(EVA)树脂、聚酰胺树脂、聚酯系树脂等。其中，优选聚乙烯醇系树脂。通过将这些树脂膜进行拉伸处理后，施加基于碘或二色性染料的染色及硼酸处理，由此可以得到膜状的偏振片(膜型偏振片)。膜型偏振片的厚度例如可以为1～75μm。另外，作为所述偏振片的另一例，可以为由液晶性化合物形成的液晶涂布型偏振片。该液晶涂布型偏振片例如可以通过使用合适的基材，并在该基材上涂布液晶偏振光组合物来制造。在该基材上涂布液晶偏振光组合物之前，也可以形成取向膜。所述液晶偏振光组合物可以包含液晶性化合物及二色性色素化合物。作为所述液晶性化合物，只要具有显示液晶状态的性质即可，特别是优选具有近晶相等高阶的液晶状态，这是因为所得到的液晶涂布型偏振片能够发挥出高的偏振性能。另外，所述液晶性化合物还优选具有聚合性官能团。所述二色性色素化合物是与所述液晶化合物一起取向而显示二色性的色素，二色性色素自身也可以具有液晶性，也可以具有聚合性官能团。液晶偏振光组合物所含的任意化合物优选具有聚合性官能团。所述液晶偏振光组合物还可以包含引发剂、溶剂、分散剂、流平剂、稳定剂、表面活性剂、交联剂、硅烷偶联剂等。此处，示出通过在基材上形成取向膜，并在形成有取向膜的基材上涂布液晶偏振光组合物，从制造液晶涂布型偏振片的方法的典型例。利用该方法制造的液晶涂布光型偏振片与所述膜型偏振片相比，能够使厚度变薄。所述液晶涂布光型偏振片的厚度为0.5～10μm、优选为1～5μm。对于所述取向膜，通过例如在基材上涂布取向膜形成组合物而形成涂布膜，并利用摩擦、偏振光照射等对该涂布膜赋予取向性，从而可以在所述基材上形成取向膜。所述取向膜形成组合物包含取向剂，除了取向剂之外，也可以包含溶剂、交联剂、引发剂、分散剂、流平剂、硅烷偶联剂等。作为所述取向剂，可举出例如聚乙烯醇类、聚丙烯酸酯类、聚酰胺酸类、聚酰亚胺类。作为赋予所述取向性的方法，应用光取向的情况下，优选包含肉桂酸酯基的取向剂。所述取向剂可以为高分子。对于高分子的取向剂，其重均分子量为10本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学构件的制造方法，其包括：/n准备具有光学膜及在所述光学膜的一个面上设置的粘合剂层、且在其端面附着有粉体的层叠体的工序；以及/n通过使干冰粒子冲击所述层叠体的所述端面而将所述粉体从所述端面去除的工序。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171005 JP 2017-195222;20180919 JP 2018-1749741.一种光学构件的制造方法，其包括：
准备具有光学膜及在所述光学膜的一个面上设置的粘合剂层、且在其端面附着有粉体的层叠体的工序；以及
通过使干冰粒子冲击所述层叠体的所述端面而将所述粉体从所述端面去除的工序。


2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述干冰粒子的平均粒径为100μm～1000μm。


3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，在所述冲击工序中，使所述干冰粒子冲击将多个所述层叠体层叠而得的层叠结构体的端面。


4.根据权利要求1或2所述的方法，其中，使所述干冰粒子冲击所述端面的一部分，同时对所述层叠体的所述端面的其它部分进行选自由切割、切削及研磨组成的组中的至少一种。


5.根据权利要求1或2所述的方法，其中，在所述准备工序中，对...

【专利技术属性】
技术研发人员：芦田丈行，西幸二朗，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP