【技术实现步骤摘要】
一类具有光致变色性能的无机-有机杂化超晶格材料及其制备和用途
本专利技术属于无机-有机杂化超晶格材料
,具体涉及一种具有光致变色性能的无机-有机杂化超晶格材料及其制备和用途。
技术介绍
无机-有机杂化材料是将无机组分和有机组分在分子水平上组装,经过精心设计和结构调控不仅可以达到充分发挥无机材料和有机材料各自性能优点的“杂交优势”的效果,而且有机组分可以通过化学键与无机组分发生协同作用,使杂化材料呈现单一组分不具有的新颖功能。这类材料在光电子器件、太阳能电池、催化、离子交换和快离子导体等方面具有重要的应用价值。因此,制备分子基无机-有机杂化材料,实现对其光、电、磁及催化性能的调控,深入研究材料结构与物性的关联、对最终实现材料的实际应用具有重要的意义。金属卤化物无机-有机杂化材料,由于其具有优异的电学性能并且容易制备成薄膜,在发光二极管、场效应晶体管以及太阳能电池等方面有潜在的应用前景,成为最受关注的分子基杂化材料之一。尤其是以甲胺为阳离子的卤化铅杂化材料(CH3NH3PbX3,X=Cl,Br,I),近几年 ...
【技术保护点】
1.一类无机-有机杂化超晶格材料,其中,所述超晶格材料包括至少一层有机层和至少一层无机层,所述有机层为EtDAB层、MeDAB层或MeBEN层中的至少一种;所述无机层为PbI
【技术特征摘要】
1.一类无机-有机杂化超晶格材料,其中,所述超晶格材料包括至少一层有机层和至少一层无机层,所述有机层为EtDAB层、MeDAB层或MeBEN层中的至少一种;所述无机层为PbI2层;所述至少一层有机层与所述至少一层无机层交替堆叠。
2.根据权利要求1所述的超晶格材料,其中,所述有机层插层在无机层中形成交替堆叠的无机-有机杂化超晶格材料。
3.根据权利要求1或2所述的超晶格材料,其中,所述超晶格材料中一层有机层的厚度为例如所述超晶格材料中一层无机层的厚度为例如例如,一层有机层的厚度为一层无机层的厚度为
4.根据权利要求1-3任一项所述的超晶格材料,其中,所述无机-有机杂化超晶格材料中,有机层与无机层的摩尔比为1:0.1-5,优选为1:1-4.5,例如1:2-4。示例性地,所述有机层和无机层的摩尔比为1:4。
优选地,所述无机-有机杂化超晶格材料的单胞参数为α=90°,β=95.72(2)°,γ=90°,
5.根据权利要求1-4任一项所述的超晶格材料,其中,所述无机-有机杂化超晶格材料的厚度为10-1000nm,如200-800nm,如300-600nm。
6.根据权利要求1-5任一项所述的超晶格材料,其中,所述超晶格材料具有变色性能。
优选地,所述超晶格材料具有光电导响应性能,所述超晶格材料对光电导的响应可以拓宽到红外区,但加热变色后的超晶格材料只在波长小于645nm的光下才具有光电导响应。
优选地,所述超晶格材料的电导率为10-4S·cm-1量级,经加热变色后的超晶格材料的电导率下降5个量级,即为10-9S·cm-1量级。
7.权利要求1-6任一项所述的无机-有机杂化...
【专利技术属性】
技术研发人员:王观娥,徐刚,王明盛,
申请(专利权)人:中国科学院福建物质结构研究所,
类型:发明
国别省市:福建;35
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