一种大棚机械制造技术

技术编号:24149793 阅读:28 留言:0更新日期:2020-05-15 21:40
一种大棚机械,所述大棚内安装有多个传感器组件,所述大棚外安装有监测台,所述大棚内还安装有调控组件。其有益效果是:准确测量基质湿度、成分、pH值、温度以及空气湿度、气压、光照强度、二氧化碳浓度等,再通过模型分析,自动调控温室环境、控制灌溉和施肥作业,从而获得植物生长的最佳条件。

A kind of shed machine

【技术实现步骤摘要】
一种大棚机械
本专利技术涉及农业
,特别是涉及一种大棚机械。
技术介绍
大棚蔬菜种植的过程中通过人的判断来进行棚内环境的控制,这种控制存在着滞后性和人为误差,从而使棚内环境与蔬菜生长环境不一致,造成蔬菜的损失,如有害气体和温度的控制。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决上述问题,设计了一种大棚机械。具体设计方案为:一种大棚机械,所述大棚内安装有多个传感器组件,所述大棚外安装有监测台,所述大棚内还安装有调控组件。所述传感器组件包括基质传感器组件和空气传感器组件。所述监测台为电脑,且所述监测台通过无线网络与传感器组件、调控组件进行连接。所述调控组件包括基质调控组件和空气调控组件。所述基质传感器组件包括基质湿度传感器、成分分析器、pH值测量器、基质温度传感器、基质数据采集器、基质信号发射器。所述空气传感器组件包括空气湿度传感器、气压传感器、光传感器、二氧化碳浓度测量器、空气数据采集器、基质信号发射器。所述基质调控组件包括灌溉喷头、营养液喷头。所述空气调控组件包括喷雾器、二氧化碳发生器、日光灯、风机。所述罐盖喷头的底端安装有电加热棒。通过本专利技术的上设计术方案得到的一种大棚,其有益效果是:准确测量基质湿度、成分、pH值、温度以及空气湿度、气压、光照强度、二氧化碳浓度等,再通过模型分析,自动调控温室环境、控制灌溉和施肥作业,从而获得植物生长的最佳条件。附图说明图1是本专利技术所述一种大棚机械的结构示意图;图2是本专利技术所述一种大棚机械传感器组件、监测台、调控组件的原理结构示意图;图中,1、大棚;2、传感器组件;21、基质传感器组件;22、空气传感器组件;3、监测台;4、调控组件;41、基质调控组件;42、空气调控组件。具体实施方式下面结合附图对本专利技术进行具体描述。图1是本专利技术所述一种大棚机械的结构示意图;图2是本专利技术所述一种大棚机械传感器组件、监测台、调控组件的原理结构示意图。如图1、图2所示,一种大棚机械,包括大棚1,所述大棚1内安装有多个传感器组件2,所述大棚1外安装有监测台3,所述大棚1内还安装有调控组件4。所述传感器组件2包括基质传感器组件21和空气传感器组件22。所述监测台3为电脑,且所述监测台3通过无线网络与传感器组件2、调控组件4进行连接。所述调控组件4包括基质调控组件41和空气调控组件42。所述基质传感器组件21包括基质湿度传感器、成分分析器、pH值测量器、基质温度传感器、基质数据采集器、基质信号发射器。所述空气传感器组件22包括空气湿度传感器、气压传感器、光传感器、二氧化碳浓度测量器、空气数据采集器、基质信号发射器。所述基质调控组件41包括灌溉喷头、营养液喷头。所述空气调控组件42包括喷雾器、二氧化碳发生器、日光灯、风机。所述罐盖喷头的底端安装有电加热棒。所述传感器组件2对大棚内基质和空气的各项指标进行检测,并传输给监测台3,所述监测台3根据模型作出精准的判断,并操控调控组件4对大棚内环境进行调控。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种大棚机械,其特征在于所述大棚内安装有多个传感器组件,所述大棚外安装有监测台,所述大棚内还安装有调控组件,所述传感器组件包括基质传感器组件和空气传感器组件,所述监测台为电脑,且所述监测台通过无线网络与传感器组件、调控组件进行连接,所述调控组件包括基质调控组件和空气调控组件。/n

【技术特征摘要】
1.一种大棚机械,其特征在于所述大棚内安装有多个传感器组件,所述大棚外安装有监测台,所述大棚内还安装有调控组件,所述传感器组件包括基质传感器...

【专利技术属性】
技术研发人员:田旺
申请(专利权)人:天津久鑫瑞农业科技开发有限公司
类型:发明
国别省市:天津;12

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