输送用于等离子体消减的等离子体流的喷嘴及相关方法技术

公开了一种用于输送等离子体流的喷嘴和方法。该喷嘴用于将等离子体流从等离子体发生器输送到反应腔室，该喷嘴包括：导管，该导管在入口与出口之间延伸，入口被布置成接收等离子体流，出口被布置成与反应腔室流体联接，该等离子体流由导管在入口与出口之间沿轴向方向输送，其中该喷嘴是导热的并且布置成接收水以由该喷嘴加热，该喷嘴中具有至少一个孔，该孔被布置成沿轴向方向递送加热的水以与等离子体流混合。以这种方式，水被引入喷嘴内的等离子体流中，这产生了氢和氧自由基，氢和氧自由基有助于提高消减装置的破坏率效率。这提供了一种特别安全和方便的方法来提高破坏率效率，因为不需要向喷嘴提供可燃材料来产生那些自由基。

Nozzle and related methods for delivering plasma flow for plasma reduction

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】输送用于等离子体消减的等离子体流的喷嘴及相关方法
本专利技术涉及一种用于输送等离子体流的喷嘴和方法。
技术介绍
热等离子体炬是已知的，并且通常用于处理来自例如半导体或平板显示器制造工业中使用的制造处理工具的流出气流。在这种制造过程中，残留的氟化或全氟化合物(PFC)和其他化合物存在于从处理工具泵出的流出气流中。这些化合物难以从流出气流中去除，并且它们释放到环境中是不希望的，因为已知它们具有相对高的温室活性。一种从流出气流中去除PFC和其他化合物的方案是使用辐射燃烧器，例如在EP1773474中所描述。然而，当通常用于通过燃烧而消减的燃料气体是不希望的或不容易获得时，还已知使用等离子体炬消减装置。用于消减装置的等离子体可以以多种方式形成。微波等离子体消减装置可以连接到若干处理腔室的排气口。每个装置都需要自己的微波发生器，这会给系统增加相当大的成本。等离子体炬消减装置在可扩展性和处理粉末(存在于流出物流中或由消减反应产生)方面优于微波等离子消减装置。事实上，对于微波等离子体，如果存在粉末，它可以修改反应管的介电特性，使维持放电的微波本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于将等离子体流从等离子体发生器输送到反应腔室的喷嘴，所述喷嘴包括:/n导管，其在入口与出口之间延伸，/n所述入口被布置成接收所述等离子体流；以及/n所述出口被布置成与所述反应腔室流体联接，所述等离子体流由所述导管在所述入口和所述出口之间沿轴向方向递送，其中所述喷嘴是导热的，并且布置成接收水以由所述喷嘴加热，所述喷嘴具有在其中的至少一个孔，所述孔被布置成沿所述轴向方向递送所述加热的水，以与所述等离子体流混合。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171004 GB 1716185.21.一种用于将等离子体流从等离子体发生器输送到反应腔室的喷嘴，所述喷嘴包括:
导管，其在入口与出口之间延伸，
所述入口被布置成接收所述等离子体流；以及
所述出口被布置成与所述反应腔室流体联接，所述等离子体流由所述导管在所述入口和所述出口之间沿轴向方向递送，其中所述喷嘴是导热的，并且布置成接收水以由所述喷嘴加热，所述喷嘴具有在其中的至少一个孔，所述孔被布置成沿所述轴向方向递送所述加热的水，以与所述等离子体流混合。


2.根据权利要求1所述的喷嘴，其中所述导管由壁限定，所述壁在其中限定所述孔，并且所述孔被布置成将所述加热的水递送到所述导管中，以在所述等离子体流传送经过所述导管时与所述等离子体流混合。


3.根据权利要求1或2所述的喷嘴，其中，所述孔被布置成递送所述加热的水，以在所述等离子体流传送到所述反应腔室中时与所述等离子体流混合。


4.根据前述权利要求中任一项所述的喷嘴，其中所述孔被定向成将所述加热的水在径向和切向中的至少一个方向递送到所述导管和所述反应腔室中的至少一个中。


5.根据前述权利要求中任一项所述的喷嘴，其中所述孔被定向成将所述加热的水轴向递送到所述导管和所述反应腔室中的至少一个中。


6.根据前述权利要求中任一项所述的喷嘴，包括多个所述孔。


7.根据权利要求6所...

【专利技术属性】
技术研发人员：S马尼，崔奫修，高灿奎，
申请(专利权)人：爱德华兹有限公司，
类型：发明
国别省市：英国;GB