【技术实现步骤摘要】
一种液体收集装置、显影/刻蚀机台和显影/刻蚀方法
本申请涉及半导体加工
，特别是涉及一种液体收集装置、显影/刻蚀机台和显影/刻蚀方法。
技术介绍
在对处理物进行显影/刻蚀时，需在液体收集装置中对处理物的表面喷洒药液以显影/刻蚀，并使用清洗液来冲洗处理物的表面。其中，液体收集装置用于将药液回收循环利用，并将使用过的清洗液排出。而对不同尺寸的处理物进行显影/刻蚀时，通常需配备相应尺寸的液体收集装置，因此现有的液体收集装置通用性和适配度较差。
技术实现思路
本申请主要解决的技术问题是提供一种液体收集装置、显影/刻蚀机台和显影/刻蚀方法，能够提高液体收集装置处理不同尺寸的处理物时的通用性和适配度。为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种液体收集装置，该液体收集装置包括：收集槽、第一环形遮挡件和第二环形遮挡件；其中，第一环形遮挡件和第二环形遮挡件设置于所述收集槽中，且所述第二环形遮挡件间隔套设于所述第一环形遮挡件的外围，以将所述收集槽分割为独立的内腔室、中间腔室和外腔室；所述内...
【技术保护点】
1.一种液体收集装置，其特征在于，包括：/n收集槽；/n第一环形遮挡件和第二环形遮挡件，设置于所述收集槽中，且所述第二环形遮挡件间隔套设于所述第一环形遮挡件的外围，以将所述收集槽分割为独立的内腔室、中间腔室和外腔室；所述内腔室用于容纳承载平台，所述承载平台用于承载不同尺寸范围的处理物；/n其中，所述第一环形遮挡件匹配第一尺寸范围的处理物，所述第二环形遮挡件匹配第二尺寸范围的处理物，所述第一尺寸范围小于所述第二尺寸范围，且所述第一环形遮挡件和所述第二环形遮挡件的高度分别可受控调整，以使所述内腔室或者所述中间腔室中的一个收集从所述第一尺寸范围的处理物的外边缘流出的药液，所述外腔...
【技术特征摘要】
1.一种液体收集装置，其特征在于，包括：
收集槽；
第一环形遮挡件和第二环形遮挡件，设置于所述收集槽中，且所述第二环形遮挡件间隔套设于所述第一环形遮挡件的外围，以将所述收集槽分割为独立的内腔室、中间腔室和外腔室；所述内腔室用于容纳承载平台，所述承载平台用于承载不同尺寸范围的处理物；
其中，所述第一环形遮挡件匹配第一尺寸范围的处理物，所述第二环形遮挡件匹配第二尺寸范围的处理物，所述第一尺寸范围小于所述第二尺寸范围，且所述第一环形遮挡件和所述第二环形遮挡件的高度分别可受控调整，以使所述内腔室或者所述中间腔室中的一个收集从所述第一尺寸范围的处理物的外边缘流出的药液，所述外腔室或者所述中间腔室中的一个收集从所述第二尺寸范围的处理物的外边缘流出的药液，剩余腔室收集从所述第一尺寸范围或所述第二尺寸范围的处理物的外边缘流出的清洗液。
2.根据权利要求1所述的液体收集装置，其特征在于，
当所述承载平台承载所述第一尺寸范围的处理物，且所述第一环形遮挡件位于所述承载平台的上方时，所述处理物上的药液收集至所述内腔室中；
当所述承载平台承载所述第二尺寸范围的处理物，且所述第一环形遮挡件位于所述承载平台的下方，所述第二环形遮挡件与所述处理物的外边缘靠近设置时，所述处理物上的药液收集至所述外腔室中；
当所述承载平台承载所述第一尺寸范围或所述第二尺寸范围的处理物，且所述第一环形遮挡件位于所述承载平台的下方，所述第二环形遮挡件位于所述承载平台的上方时，所述处理物上的清洗液收集至所述中间腔室中。
3.根据权利要求1所述的液体收集装置，其特征在于，所述第一环形遮挡件包括：
第一环形挡板，固定设置于所述收集槽内；
第二环形挡板，套设于所述第一环形挡板的外壁或内壁，且可相对所述第一环形挡板上下移动；
第三环形挡板，与所述第二环形挡板固定连接，且所述第三环形挡板在远离所述第二环形挡板方向上逐渐靠近所述内腔室的中心线。
4.根据权利要求1所述的液体收集装置，其特征在于，所述第二环形遮挡件包括：
第四环形挡板，固定设置于所述收集槽内；
第五环形挡板，套设于所述第四环形挡板的外壁或内壁，且可相对所述第四环形挡板上下移动；
第六环形挡板，与所述第五环形挡板固定连接，且所述第六环形挡板在远离所述第五环形挡板方向上逐渐靠近所述内腔室的中心线。
5.根据权利要求2所述的液体收集装置，其特征在于，
所述内腔室、所述中间腔室和所述外腔室的底部分别设置有第一出口、第二出口和第三出口，所述液体收集装置还设置有分别与所述第一出口、所述第二出口和所述第三出口连接的第一管路、第二管路和第三管路，且所述第一管路、所述第二管路和所述第三管路上分...
【专利技术属性】
技术研发人员：汪锋，简永幸，张雷，沈克，
申请(专利权)人：厦门通富微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。