曝光用照明装置、曝光装置以及曝光方法制造方法及图纸

积分器部(90)具备2枚复眼透镜(91、92)，复眼透镜间隔调整机构(95)变更2枚复眼透镜(91、92)在光轴方向上的间隔(d)。根据由反射镜弯曲机构(70)实现的平面反射镜(68)的反射面的形状变更，来变更2枚复眼透镜(91、92)在光轴方向上的间隔(d)，对由反射镜弯曲引起的曝光面的平均照度值的变化进行校正。本发明专利技术提供能够通过对由反射镜弯曲引起的曝光面的平均照度值的变化进行校正从而抑制节拍时间的偏差的曝光用照明装置、曝光装置以及曝光方法。

Lighting device, exposure device and exposure method for exposure

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】曝光用照明装置、曝光装置以及曝光方法
本专利技术涉及曝光用照明装置、曝光装置以及曝光方法，更详细而言，涉及能够对为了曝光图案校正而实施的反射镜弯曲所引起的平均照度的变化进行校正的曝光用照明装置、曝光装置以及曝光方法。
技术介绍
在现有的曝光装置中，设计有如下结构：在照明装置中设置有对反射镜的曲率进行校正的曲率校正机构，通过使反射镜弯曲而使反射镜的偏角发生变化，从而校正曝光图案的形状，得到高精度的曝光结果(例如，参照专利文献1)。另外，专利文献2记载了一种照明光学系统和曝光装置，两者设置为独立地调整被照射面的光强度分布，并且具备：第一光学积分器，其具有在与照明光学系统的光轴交叉的面内排列的多个第一单位波阵面分割面；第二光学积分器，其具有与多个第一单位波阵面分割面分别对应的第二单位波阵面分割面；以及移动机构，其使第二单位波阵面分割面的分割积分器在光轴方向移动，以使第一光学积分器与第二光学积分器之间的间隔变更。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2012-155086号公报专利文献2：日本专利第54本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光用照明装置，其特征在于，具备：/n光源；/n积分器部，所述积分器部具备分别具有矩阵状排列的多个透镜元件的2枚复眼透镜，并且使来自所述光源的光的照度分布均匀化；以及/n反射镜，所述反射镜具备能够使反射面的形状变更的反射镜弯曲机构，并且对从所述积分器部出射的所述光进行反射，/n所述曝光用照明装置用于将来自所述光源的曝光光经由形成有曝光图案的掩模照射到工件上而将所述曝光图案曝光转印至所述工件，/n所述曝光用照明装置具备复眼透镜间隔调整机构，所述复眼透镜间隔调整机构能够改变所述2枚复眼透镜在光轴方向上的间隔，/n根据由所述反射镜弯曲机构实现的所述反射镜的反射面的形状变更，来变更所述2枚复眼...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170922 JP 2017-1828031.一种曝光用照明装置，其特征在于，具备：
光源；
积分器部，所述积分器部具备分别具有矩阵状排列的多个透镜元件的2枚复眼透镜，并且使来自所述光源的光的照度分布均匀化；以及
反射镜，所述反射镜具备能够使反射面的形状变更的反射镜弯曲机构，并且对从所述积分器部出射的所述光进行反射，
所述曝光用照明装置用于将来自所述光源的曝光光经由形成有曝光图案的掩模照射到工件上而将所述曝光图案曝光转印至所述工件，
所述曝光用照明装置具备复眼透镜间隔调整机构，所述复眼透镜间隔调整机构能够改变所述2枚复眼透镜在光轴方向上的间隔，
根据由所述反射镜弯曲机构实现的所述反射镜的反射面的形状变更，来变更所述2枚复眼透镜在光轴方向上的间隔。


2.根据权利要求1所述的曝光用照明装置，其特征在于，
具备多个反射镜，所述多个反射镜对从所述积分器部出射的所述光进行反射，
所述反射镜弯曲机构设置于所述多个反射镜中的在光路的最后配置的平面反射镜。


3.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：榎本芳幸，川岛洋德，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：发明
国别省市：日本;JP