曝光用照明装置、曝光装置以及曝光方法制造方法及图纸

积分器部(90)具备2枚复眼透镜(91、92)，复眼透镜间隔调整机构(95)变更2枚复眼透镜(91、92)在光轴方向上的间隔(d)。根据由反射镜弯曲机构(70)实现的平面反射镜(68)的反射面的形状变更，来变更2枚复眼透镜(91、92)在光轴方向上的间隔(d)，对由反射镜弯曲引起的曝光面的平均照度值的变化进行校正。本发明专利技术提供能够通过对由反射镜弯曲引起的曝光面的平均照度值的变化进行校正从而抑制节拍时间的偏差的曝光用照明装置、曝光装置以及曝光方法。

Lighting device, exposure device and exposure method for exposure

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】曝光用照明装置、曝光装置以及曝光方法
本专利技术涉及曝光用照明装置、曝光装置以及曝光方法，更详细而言，涉及能够对为了曝光图案校正而实施的反射镜弯曲所引起的平均照度的变化进行校正的曝光用照明装置、曝光装置以及曝光方法。
技术介绍
在现有的曝光装置中，设计有如下结构：在照明装置中设置有对反射镜的曲率进行校正的曲率校正机构，通过使反射镜弯曲而使反射镜的偏角发生变化，从而校正曝光图案的形状，得到高精度的曝光结果(例如，参照专利文献1)。另外，专利文献2记载了一种照明光学系统和曝光装置，两者设置为独立地调整被照射面的光强度分布，并且具备：第一光学积分器，其具有在与照明光学系统的光轴交叉的面内排列的多个第一单位波阵面分割面；第二光学积分器，其具有与多个第一单位波阵面分割面分别对应的第二单位波阵面分割面；以及移动机构，其使第二单位波阵面分割面的分割积分器在光轴方向移动，以使第一光学积分器与第二光学积分器之间的间隔变更。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2012-155086号公报专利文献2：日本专利第5453804号公报
技术实现思路
专利技术欲解决的技术问题然而，曝光图案的校正量取决于反射镜的弯曲量，校正形状依赖于反射镜形状，因此，当利用曲率校正机构(反射镜弯曲机构)对反射镜的曲率进行校正时，在反射镜的反射面向外侧(凸面状)弯曲时反射光会发散而照度降低(变暗)，在反射镜的反射面向内侧(凹面状)弯曲时反射光会会聚而照度变高(变亮)，曝光面的照度分布、平均照度值发生变化。平均照度值的变化影响曝光量，进而影响曝光时间乃至节拍时间。而根据曝光量来变更曝光时间、节拍时间的方案的控制又非常繁杂。在专利文献2的照明光学系统和曝光装置中，根据基于来自该光瞳强度分布测量装置的检测信号计算出的测量结果、即与标线的照明区域内的各点对应的各光瞳强度分布，使分割积分器沿Y轴方向分别移动，调节至各光瞳强度分布为期望的分布，因此，需要复杂的机构和控制装置，导致照明装置的成本增大。本专利技术是鉴于上述课题而完成的，其目的在于提供一种能够通过对反射镜弯曲引起的曝光面的平均照度值的变化进行校正从而抑制节拍时间的偏差的曝光用照明装置、曝光装置以及曝光方法。用于解决问题的技术手段本专利技术的上述目的通过下述的结构来实现。(1)一种曝光用照明装置，其特征在于，具备：光源；积分器部，所述积分器部具备分别具有矩阵状排列的多个透镜元件的2枚复眼透镜，并且使来自所述光源的光的照度分布均匀化；以及反射镜，所述反射镜具备能够使反射面的形状变更的反射镜弯曲机构，并且对从所述积分器部出射的所述光进行反射，所述曝光用照明装置用于将来自所述光源的曝光光经由形成有曝光图案的掩模照射到工件上而将所述曝光图案曝光转印至所述工件，所述曝光用照明装置具备复眼透镜间隔调整机构，所述复眼透镜间隔调整机构能够改变所述2枚复眼透镜在光轴方向上的间隔，根据由所述反射镜弯曲机构实现的所述反射镜的反射面的形状变更，变更所述2枚复眼透镜在光轴方向上的间隔。(2)根据(1)所述的曝光用照明装置，其特征在于，具备多个反射镜，所述多个反射镜对从所述积分器部出射的所述光进行反射，所述反射镜弯曲机构设置于所述多个反射镜中的最后反射所述光的平面反射镜。(3)根据(1)所述的曝光用照明装置，其特征在于，具备表格，所述表格表示由所述反射镜弯曲机构实现的所述反射镜的反射面的形状与所述2枚复眼透镜在所述光轴方向上的间隔之间的关系，使用该表，根据由所述反射镜弯曲机构实现的所述反射镜的反射面的形状变更，变更所述2枚复眼透镜在光轴方向上的间隔。(4)根据(1)所述的曝光用照明装置，其特征在于，根据由所述反射镜弯曲机构实现的所述反射镜的反射面的形状变更前与形状变形后在所述曝光面获得的平均照度值，变更所述2枚复眼透镜在光轴方向上的间隔。(5)一种曝光装置，其特征在于，具备：掩模支承部，所述掩模支承部支承掩模；工件支承部，所述工件支承部支承工件；以及所述(1)～(4)中任一项所述的曝光用照明装置，将来自所述光源的曝光光经由所述掩模向所述工件照射，将所述掩模的曝光图案曝光转印至所述工件。(6)一种曝光方法，其特征在于，所述曝光装置使用(5)所述的曝光装置，将来自所述光源的曝光光经由所述掩模向所述工件照射，将所述掩模的曝光图案曝光转印至所述工件。专利技术效果根据本专利技术的曝光用照明装置，积分器部具备2枚复眼透镜，复眼透镜间隔调整机构变更2枚复眼透镜在光轴方向上的间隔。根据由反射镜弯曲机构实现的反射镜的反射面的形状变更，变更2枚复眼透镜在光轴方向上的间隔，因此能够校正由反射镜弯曲引起的曝光面的平均照度值的变化。由此，能够抑制曝光时间、节拍时间的偏差。另外，根据本专利技术的曝光装置和曝光方法，设置了一种曝光用照明装置，该曝光用照明装置具备：支承掩模的掩模支承部；支承工件的工件支承部；以及复眼透镜间隔调整机构，该复眼透镜间隔调整机构能够根据由反射镜弯曲机构实现的反射镜的反射面的形状变更，来变更2枚复眼透镜在光轴方向上的间隔，因此，本专利技术的曝光装置和曝光方法能够通过对反射镜弯曲引起的曝光面的平均照度值的变化进行校正，从而抑制曝光时间、节拍时间的偏差。附图说明图1为应用了本专利技术涉及的曝光用照明装置的曝光装置的主视图。图2为示出本专利技术涉及的曝光用照明装置的结构的示意图。图3中，(a)是示出曝光用照明装置的反射镜支承结构的俯视图，(b)是沿着(a)的III-III线的剖视图，(c)是沿着(a)的III′-III′线的剖视图。附图标记说明3曝光用照明装置60灯单元(光源)67准直镜(反射镜)68平面反射镜(反射镜)70反射镜弯曲机构90积分器部91、92复眼透镜93A、93B透镜元件95复眼透镜间隔调整机构d2枚复眼透镜在光轴方向上的间隔M掩模W工件具体实施方式以下，基于附图对本专利技术涉及的曝光装置的一个实施方式进行详细说明。如图1所示，接近式曝光装置PE使用比被曝光件即工件W小的掩模M，利用掩模载台(掩模支承部)1保持掩模M并利用工件载台(工件支承部)2保持工件W。然后，使掩模M与工件W接近而在以规定曝光间隙对置配置的状态下，从曝光用照明装置3向掩模M照射图案曝光用的光，由此掩模M的图案被曝光转印到工件W。另外，使工件载台2相对于掩模M在X轴方向和Y轴方向的双轴方向步进移动，在每一步进行曝光转印。在装置基座4上设置有使X轴进给台座5a沿X轴方向步进移动的X轴载台进给机构5，以使工件载台2沿X轴方向步进移动。在X轴载台进给机构5的X轴进给台座5a上设置有使Y轴进给台座6a沿Y轴方向步进移动的Y轴载台进给机构6，以使工件载台2沿Y轴方向步进移动。在Y轴载台进给机构6的Y轴进给台本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光用照明装置，其特征在于，具备：/n光源；/n积分器部，所述积分器部具备分别具有矩阵状排列的多个透镜元件的2枚复眼透镜，并且使来自所述光源的光的照度分布均匀化；以及/n反射镜，所述反射镜具备能够使反射面的形状变更的反射镜弯曲机构，并且对从所述积分器部出射的所述光进行反射，/n所述曝光用照明装置用于将来自所述光源的曝光光经由形成有曝光图案的掩模照射到工件上而将所述曝光图案曝光转印至所述工件，/n所述曝光用照明装置具备复眼透镜间隔调整机构，所述复眼透镜间隔调整机构能够改变所述2枚复眼透镜在光轴方向上的间隔，/n根据由所述反射镜弯曲机构实现的所述反射镜的反射面的形状变更，来变更所述2枚复眼透镜在光轴方向上的间隔。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170922 JP 2017-1828031.一种曝光用照明装置，其特征在于，具备：
光源；
积分器部，所述积分器部具备分别具有矩阵状排列的多个透镜元件的2枚复眼透镜，并且使来自所述光源的光的照度分布均匀化；以及
反射镜，所述反射镜具备能够使反射面的形状变更的反射镜弯曲机构，并且对从所述积分器部出射的所述光进行反射，
所述曝光用照明装置用于将来自所述光源的曝光光经由形成有曝光图案的掩模照射到工件上而将所述曝光图案曝光转印至所述工件，
所述曝光用照明装置具备复眼透镜间隔调整机构，所述复眼透镜间隔调整机构能够改变所述2枚复眼透镜在光轴方向上的间隔，
根据由所述反射镜弯曲机构实现的所述反射镜的反射面的形状变更，来变更所述2枚复眼透镜在光轴方向上的间隔。


2.根据权利要求1所述的曝光用照明装置，其特征在于，
具备多个反射镜，所述多个反射镜对从所述积分器部出射的所述光进行反射，
所述反射镜弯曲机构设置于所述多个反射镜中的在光路的最后配置的平面反射镜。


3.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：榎本芳幸，川岛洋德，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：发明
国别省市：日本;JP