【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有光学水印的检查设备
本专利技术涉及一种用于对容器在污物方面进行检查的设备。所述设备包括辐射源，其中，所述辐射源构造用于发射辐射，所述辐射透射待检查的容器。此外，所述设备包括检测装置，所述检测装置构造用于检测已由辐射源发射的且已透射所述容器的辐射。所述设备还包括评估装置，所述评估装置构造用于评估由检测装置检测到的辐射。
技术介绍
本专利技术尤其是用于自动灌装设施，在该灌装设施中容器以高的速度被运输。本专利技术尤其是用于检查空的容器。在自动灌装设施中，在灌装之前对空的容器在可能的污物或异物方面进行检查。为此，通常将容器引导通过检查设备，该检查设备包括用于可见光的光源和半导体摄像机。在此，容器被透视并且从不同的视角进行检查。在检查中，确定亮度差异、颜色差异或对比度差异。将存在的差异识别为容器的污物或污染，并且随后将容器拣出。这样被拣出的容器可以被输送给清洁设施或被回收利用。除了所述待检查的容器之外，检查设备的光学部件也可能被污染或具有故障。尤其是，检查设备的光学部件可能会起雾。在光学部件如保护片、反射镜和物镜中也出现其...
【技术保护点】
1.一种用于对容器在污物方面进行检查的设备，所述设备包括：/n-辐射源，其中，所述辐射源构造用于发射辐射，所述辐射透射待检查的容器，/n-检测装置，所述检测装置构造用于检测已由辐射源发射的且已透射所述容器的辐射，以及/n-评估装置，所述评估装置构造用于评估由检测装置检测到的辐射，/n其中，在辐射源与检测装置之间的光路中设有具有光学水印的识别元件。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170907 DE 102017008383.51.一种用于对容器在污物方面进行检查的设备，所述设备包括：
-辐射源，其中，所述辐射源构造用于发射辐射，所述辐射透射待检查的容器，
-检测装置，所述检测装置构造用于检测已由辐射源发射的且已透射所述容器的辐射，以及
-评估装置，所述评估装置构造用于评估由检测装置检测到的辐射，
其中，在辐射源与检测装置之间的光路中设有具有光学水印的识别元件。
2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述识别元件设置在辐射源与所述待检查的容器之间。
3.根据权利要求1所述的设备，其中，所述识别元件设置在所述待检查的容器与检测装置之间。
4.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，具有第一光学水印的第一识别元件设置在辐射源与所述待检查的容器之间的光路中，而具有第二光学水印的第二识别元件设置在所述待检查的容器与检测装置之间的光路中。
5.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述光学水印构造成，不影响或仅以不显著的方式影响由评估装置对所述待检查的容器的污物的检测，并且其中，所述水印构造成，使得通过评估装置能够检测出检查设备的在辐射源与检测装置之间的光路中的光学部件的污物或故障。
6.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述水印具有线图案或点图案。
7.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述水印在所述水印的频谱中具有在固定频带中的合适的频率。
8.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述水印的频谱被选择成，使得在所述水印的频谱中的最低频率大于在待检查的容器的污物的频谱中的最高的期望频率。
9.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述水印的频谱被选择成，使得在所述水印的频谱中的最高频率小于由检测装置在没有伪像的情...
【专利技术属性】
技术研发人员：B·霍伊夫特，W·伯斯特尔，M·乌恩格，
申请(专利权)人：霍伊夫特系统技术有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE
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