灭弧室以及断路器制造技术

本发明专利技术提供了一种灭弧室以及断路器，包括底座和设于底座上的中座以及盖合于底座和中座上的盖体，灭弧片垂直于底座设置，且相邻的灭弧片之间具有灭弧间隙，中座在远离磁支架的一端设有用于封堵灭弧间隙的挡弧筋组，上层挡弧筋和下层挡弧筋分别遮挡相邻的两个灭弧间隙的上部和下部。电弧可以经过灭弧间隙形成灭弧通道，且灭弧片的尾端并未完全封堵，其通过相互交错的上层挡弧筋和下层挡弧筋分别对灭弧片的尾端进行封堵，即灭弧间隙的仅上部分封堵或下部分封堵，能够对灭弧气流引导形成连通的通气通道，从而加快气体的流动，使得电弧容易从磁支架上移动至灭弧室内并朝向灭弧室的尾部移动，减小电弧的熄灭时间。

Arc extinguishing chamber and circuit breaker

【技术实现步骤摘要】
灭弧室以及断路器
本专利技术涉及断路器结构的
，具体涉及一种灭弧室以及断路器。
技术介绍
对于现有技术中的断路器，其一般都需要设置灭弧室进行灭弧，其中，灭弧室一般采用传统的金属栅片灭弧室，灭弧室上部的灭弧片及周边采用三聚氢胺层压板。电弧产生时，三聚氢胺层压板受热释放出一种气体，该气体由助于熄灭电弧。灭弧室上部的灭弧片层压板冲出若干个大小均等的孔，通过该孔释放气流和热量，从而达到灭弧的目的。但是，现有的灭弧室中的灭弧通道一般位于灭弧室的尾部，此时无论灭弧室外部的缓冲区空间的大小，其一般都是仅通过外壳上凸起的筋条和灭弧室外缘的夹板进行遮挡，且外壳上凸起的筋条以及灭弧室外缘的夹板和灭弧片之间的距离不等，导致缓冲区的空间分布不均匀，且部分区域的缓冲区存在气流通道不顺畅的问题，若将灭弧室的尾部完全进行遮挡，会导致电弧不易进入灭弧室，灭弧室的利用效率较低，进入灭弧室的电弧还可以出现背后击穿的现象，从而降低断路器的开断性能。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种灭弧室，以解决现有技术中存在的技术问题。为实现上述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.灭弧室，包括底座(1)和设于所述底座(1)上的中座(2)以及盖合于所述底座(1)和所述中座(2)上的盖体(3)，所述中座(2)内开设有用于容纳若干灭弧片(4)的容纳腔(21)，所述灭弧片(4)垂直于所述底座(1)设置，且相邻的所述灭弧片(4)之间具有灭弧间隙(41)，磁支架(5)可延伸至所述灭弧片(4)上，其特征在于：所述中座(2)在远离所述磁支架(5)的一端设有用于封堵所述灭弧间隙(41)的挡弧筋组(22)，所述挡弧筋组(22)包括相互交错设置的上层挡弧筋(221)和下层挡弧筋(222)，所述上层挡弧筋(221)和所述下层挡弧筋(222)分别遮挡相邻的两个所述灭弧间隙(41)的上部和下部...

【技术特征摘要】
1.灭弧室，包括底座(1)和设于所述底座(1)上的中座(2)以及盖合于所述底座(1)和所述中座(2)上的盖体(3)，所述中座(2)内开设有用于容纳若干灭弧片(4)的容纳腔(21)，所述灭弧片(4)垂直于所述底座(1)设置，且相邻的所述灭弧片(4)之间具有灭弧间隙(41)，磁支架(5)可延伸至所述灭弧片(4)上，其特征在于：所述中座(2)在远离所述磁支架(5)的一端设有用于封堵所述灭弧间隙(41)的挡弧筋组(22)，所述挡弧筋组(22)包括相互交错设置的上层挡弧筋(221)和下层挡弧筋(222)，所述上层挡弧筋(221)和所述下层挡弧筋(222)分别遮挡相邻的两个所述灭弧间隙(41)的上部和下部。


2.如权利要求1所述的灭弧室，其特征在于：所述中座(2)上横设有隔板(23)，所述隔板(23)平行于所述底座(1)设置，且所述隔板(23)的外缘朝向所述盖体(3)凸设有上缓冲壁(231)，所述隔板(23)、所述盖体(3)以及所述上缓冲壁(231)之间围合形成有上缓冲区(24)，所述灭弧间隙(41)的上部可与所述上缓冲区(24)相连通；
所述隔板(23)的外缘朝向所述底座(1)的一侧凸设有下缓冲壁(232)，所述隔板(23)、所述底座(1)和所述下缓冲壁(232)之间形成有下缓冲区(25)，所述灭弧间隙(41)的下部可与所述下缓冲区(25)相连通；
靠近所述磁支架(5)的一侧的所述下层挡弧筋(222)具有缺口，且靠近所述磁支架(5)的一侧的所述灭弧间隙(41)的下部未封堵。


3.如权利要求2所述的灭弧室，其特征在于：所述上缓冲区(24)在远离所述磁支架(5)的一侧开设有第一出气口(233)，所述下缓冲区(25)在远离所述磁支架(5)的一侧开设有第二出气口(234)。


4.如权利要求2所述的灭弧室，...

【专利技术属性】
技术研发人员：史胜余，陈百胜，程荣利，李海茭，
申请(专利权)人：德力西电气有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33