一种钨掺杂二氧化钒薄膜及其制备方法和应用技术

本发明专利技术公开一种钨掺杂二氧化钒薄膜及其制备方法和应用，该钨掺杂二氧化钒薄膜的膜厚为20～40nm，相变温度为25～45℃，可见光透过率为50～60％。本发明专利技术的钨掺杂二氧化钒薄膜相变温度低，能在人类生活最适宜的温度下发生相转变，满足智能玻璃窗的需求；本发明专利技术的制备方法采用金属钒靶和钨靶同时混合溅射，溅射时间短，简单易操作，后续退火时不需要加入其他气体，便于大规模生产。

A tungsten Doped Vanadium Dioxide Film and its preparation and Application

【技术实现步骤摘要】
一种钨掺杂二氧化钒薄膜及其制备方法和应用
本专利技术涉及薄膜材料
，具体涉及一种钨掺杂二氧化钒薄膜及其制备方法和应用。
技术介绍
随着人类社会的发展，我们将面临许多的困难和挑战，而气候变化会是我们在不久的将来要克服的主要挑战之一。在过去的40年里，全球平均气温迅速上升，导致人们对能源利用效率更加关注。为减少能源消耗，可通过使用智能窗提高建筑能源利用效率。智能窗是通过在玻璃表面加镀具有热致变色性能的薄膜材料的窗户，该具有热致变色性能的薄膜材料可根据不同季节温度的变化，对室内进行光热调控、达到冬暖夏凉的效果，从而减少能源消耗，其操作简单、成本相对较低。近年来，二氧化钒作为一种热致变色材料已被广泛的研究，其热致变色的机理在于二氧化钒发生相变，从而改变其光学性质。具体地，当温度增加超过转变温度时，单斜结构变成四方金红石结构，禁带变成导带呈金属特性，对近中红外波段(400～4000cm-1)透过率发生明显的改变，对可见和红外的波段的电磁波的吸收和反射增强，透过率降低；低于转变温度时，由于单斜结构存在0.7eV宽度的禁带，对可见光、红外波段都本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种钨掺杂二氧化钒薄膜，其特征在于，所述钨掺杂二氧化钒薄膜的膜厚为20～40nm，相变温度为25～45℃，可见光透过率为50～60％。/n

【技术特征摘要】
1.一种钨掺杂二氧化钒薄膜，其特征在于，所述钨掺杂二氧化钒薄膜的膜厚为20～40nm，相变温度为25～45℃，可见光透过率为50～60％。


2.根据权利要求1所述钨掺杂二氧化钒薄膜，其特征在于，所述钨掺杂二氧化钒薄膜的膜厚为20～30nm，相变温度为25～35℃。


3.一种如权利要求1或2所述钨掺杂二氧化钒薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
采用双靶磁控溅射在基底表面形成钨掺杂钒薄膜；
将所述钨掺杂钒薄膜进行退火处理，得到钨掺杂二氧化钒薄膜。


4.根据权利要求3所述钨掺杂二氧化钒薄膜的制备方法，其特征在于，所述基底为FTO玻璃、石英玻璃、蓝宝石或云母片中的一种。


5.根据权利要求3所述钨掺杂二氧化钒薄膜的制备方法，其特征在于，所述双靶磁控溅射的过程具体为：将所述基底置于磁控溅射真空室中，以钒靶和钨靶作为靶材，通入氩气，对所述钒靶和钨靶进行预溅射和共溅射。


6.根据权利要求5所述钨掺杂二氧化钒薄膜的制备方法，其特征在于，所述预溅射的过程中，真空室的真空度...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘保顺，张军，
申请(专利权)人：武汉理工大学，
类型：发明
国别省市：湖北;42