【技术实现步骤摘要】
一种滤光片生产用清洗架
本技术涉及一种滤光片生产用清洗架。
技术介绍
在滤光片的生产过程中,滤光片的表面被污染形成污迹;需要进行清理。目前常采用的清理方式为超声波清洗;超声波清洗是使在清洗槽中的清洗液收到超声波辐射,使液体中的气泡破坏附着在滤光片表面的污物,从而达到滤光片表面清洗的目的。在滤光片清洗时,可将滤光片单独清洗或多个同时清洗;采用单个清洗时,清洗效率低;采用多个同时清洗时,滤光片在清洗槽内杂乱放置,极易造成滤光片相互割伤,以及滤光片之间相互遮挡造成清洗不完全。
技术实现思路
为了解决滤光片清洗过程中杂乱放置造成滤光片相互割伤和清洗不完全的问题;本技术提供一种滤光片生产用清洗架;为了解决上述问题,本技术采用以下技术方案,具体如下:一种滤光片生产用清洗架,包括由横梁与纵梁围合而成框架,和两端可拆连接在所述框架的两纵梁的承载梁,承载梁的数量至少为2根,沿所述纵梁的长度方向均匀间隔布置;所述框架包括上层框架和下层框架,上层框架与下层框架之间通过立柱固定连接;上层框架的承载梁的两侧开设有供滤光 ...
【技术保护点】
1.一种滤光片生产用清洗架,其特征在于,包括由横梁与纵梁围合而成框架,和两端可拆连接在所述框架的两纵梁的承载梁,承载梁的数量至少为2根,沿所述纵梁的长度方向均匀间隔布置;所述框架包括上层框架和下层框架,上层框架与下层框架之间通过立柱固定连接;上层框架的承载梁的两侧开设有供滤光片插入的斜槽;所述斜槽的数量为多个,沿承载梁的长度方向间隔布置;下层框架的承载梁的横截面为倒“T”形,在下层框架的承载梁两侧上端面设置有与所述斜槽适配的挡台。/n
【技术特征摘要】
1.一种滤光片生产用清洗架,其特征在于,包括由横梁与纵梁围合而成框架,和两端可拆连接在所述框架的两纵梁的承载梁,承载梁的数量至少为2根,沿所述纵梁的长度方向均匀间隔布置;所述框架包括上层框架和下层框架,上层框架与下层框架之间通过立柱固定连接;上层框架的承载梁的两侧开设有供滤光片插入的斜槽;所述斜槽的数量为多个,沿承载梁的长度方向间隔布置;下层框架的承载梁的横截面为倒“T”形,在下层框架的承载梁两侧上端面设置有与所述斜槽适配的挡台。
2.根据权利要求1所述的滤光片生产用清洗架,其特征在于,所述承载梁与纵梁之间的可拆连接为卡接,承载梁的上端面上开设有卡槽,承载梁的两端插入所述卡槽内实现承载梁与纵梁之间的卡接。
3.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:何剑坪,周登科,
申请(专利权)人:信阳市图丽光电有限公司,
类型:新型
国别省市:河南;41
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