【技术实现步骤摘要】
一种激光抛光设备
本专利技术涉及一种激光抛光设备。
技术介绍
激光抛光技术是伴随着激光技术的发展而出现的一种对新型材料表面进行处理的技术，它通过采用激光光束扫描加工工件表面，利用激光与材料之间的相互作用，去掉工件表面多余物质，从而形成光滑平面。目前，传统的激光抛光设备大多会在氩气保护气氛下对工件进行激光抛光，但是，现有的激光抛光设备在对工件进行上料和下料的过程中，外界的空气会进入抛光工作室从而会影响氩气保护的效果。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种激光抛光设备，其结构合理，有效隔离外界空气的干扰，提高了氩气保护的效果。为实现上述目的，本专利技术的技术方案是设计一种激光抛光设备，包括机架，以及设置在机架上的上料装置、激光抛光装置、下料装置和氩气供应装置，所述上料装置和下料装置分别位于激光抛光装置的两侧；所述激光抛光装置包括抛光密封工作室，以及设置抛光密封工作室内的双轴变位机和激光振镜，所述双轴变位机包括回转工作台，该回转工作台上设有第一安装槽，该第一安装槽中安装有通电后可产生磁性的
【技术保护点】
1.一种激光抛光设备，其特征在于，包括机架，以及设置在机架上的上料装置、激光抛光装置、下料装置和氩气供应装置，所述上料装置和下料装置分别位于激光抛光装置的两侧；/n所述激光抛光装置包括抛光密封工作室，以及设置抛光密封工作室内的双轴变位机和激光振镜，所述双轴变位机包括回转工作台，该回转工作台上设有第一安装槽，该第一安装槽中安装有通电后可产生磁性的第一电磁吸块；/n所述上料装置包括上料密封工作室，以及设置在上料密封工作室内的上料驱动机构、上料电动门一和上料电动门二，所述上料密封工作室的顶部设有上料口一，所述上料电动门一用于打开或封闭上料口一，所述上料密封工作室的一端延伸至抛光密...
【技术特征摘要】
1.一种激光抛光设备，其特征在于，包括机架，以及设置在机架上的上料装置、激光抛光装置、下料装置和氩气供应装置，所述上料装置和下料装置分别位于激光抛光装置的两侧；
所述激光抛光装置包括抛光密封工作室，以及设置抛光密封工作室内的双轴变位机和激光振镜，所述双轴变位机包括回转工作台，该回转工作台上设有第一安装槽，该第一安装槽中安装有通电后可产生磁性的第一电磁吸块；
所述上料装置包括上料密封工作室，以及设置在上料密封工作室内的上料驱动机构、上料电动门一和上料电动门二，所述上料密封工作室的顶部设有上料口一，所述上料电动门一用于打开或封闭上料口一，所述上料密封工作室的一端延伸至抛光密封工作室内并设有上料口二，所述上料电动门二用于打开或封闭上料口二，所述上料驱动机构包括上料基板、设置在上料基板侧部的上料导轨，以及滑动连接于上料导轨的上料平移板，该上料平移板的侧部设有上料板，该上料板的上表面与回转工作台的上表面齐平，且该上料板上设有第二安装槽，该第二安装槽中安装有通电后可产生磁性的第二电磁吸块；
所述下料装置包括下料密封工作室，以及设置在下料密封工作室内的下料驱动机构、下料电动门一和下料电动门二，所述下料密封工作室的一端延伸至抛光密封工作室内并设有下料口一，所述下料电动门一用于打开或封闭下料口一，所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：田劲松，
申请(专利权)人：苏州协同创新智能制造装备有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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