用于制造液晶取向膜的方法技术

本发明专利技术涉及与连续工艺相容的用于制造液晶取向膜的方法。

Method for manufacturing liquid crystal orientation film

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于制造液晶取向膜的方法
本说明书要求于2017年9月25日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2017-0123422号的优先权和权益，其全部内容通过引用并入本文。本专利技术涉及用于制造液晶取向膜的方法。
技术介绍
对于可以应用于柔性电子设备产品例如显示器、智能窗或天窗的液晶变色装置的研究正在进行。特别地，用于液晶变色装置的膜具有其中导电层设置在基底和介电膜的上部上，具有电或电光功能的光取向膜、间隙间隔物等设置在导电层的上部和下部上的液晶取向膜的形式。此外，相对于液晶设置在上部和下部上的用于液晶变色装置的膜通过现有的基于辊对辊(R2R，roll-to-roll)的连续工艺来制造。在用于液晶变色装置的膜中包括的导电层中，透明且导电的金属氧化物层形成在基底膜的上部上以形成用于控制液晶的取向的电场并阻挡在高温和高湿度条件下产生的气泡(气体屏障)，并且液晶取向层可以向液晶赋予取向功能。虽然根据产品的用途在加工用于液晶变色装置的膜的步骤中诸如电短路和切割(electricalshort-circuitingandcutting)的过程也是重要的，但如下过程是特别重要的：向相对于液晶设置在上部和下部上的用于液晶变色装置的膜赋予粘合性和耐久性。此外，为了使上下液晶变色装置膜以液晶为中心彼此粘结，液晶取向膜应与设置在上下液晶变色装置膜之间的密封剂具有优异的粘合力，但当液晶取向层与密封剂不具有优异的粘合强度时，另外需要通过选择性地除去液晶取向层来使导电层暴露的过程。这不仅利用基于导电层中包含的金属氧化物的透明电极的导电性，而且还利用与密封剂的优异的粘合特性以及在高温和高湿度临界环境下在塑料基底中可能发生的脱气的阻挡特性。作为相关技术中的用于选择性地除去液晶取向层的方法，使用湿蚀刻例如有机溶剂处理，但湿蚀刻不仅阻碍连续工艺的效率，而且由于使用有机溶剂还具有经济和环境问题。此外，为了提高显示装置的耐久性，考虑到对于液晶取向层需要用于耐化学性和高温稳定性的固化特性的最近技术趋势，需要开发可以代替湿法的方法。为了解决由于使用有机溶剂而引起的问题，尝试了用于通过使用图案化过程例如光刻、喷墨、狭缝染料(slotdye)、丝网印刷等来形成液晶取向层而不除去已经形成的液晶取向层的方法。然而，形成液晶取向层的方法具有所述方法与基于辊对辊的连续工艺不相容的问题。具体地，形成液晶取向层的方法具有如下问题：用于确保用于实现从小型液晶装置到柔性装置的大区域的工艺设施的制造工艺设施的价格增加，并且生产率降低。因此，需要对通过开发简单且与辊对辊连续工艺相容的加工方法而可以节省制造成本的用于制造液晶取向膜(具体地，液晶变色装置膜)的方法的研究。[现有技术文献][专利文献]日本专利未审查公开第JP1997-266234A号
技术实现思路
技术问题本专利技术致力于提供用于制造液晶取向膜的方法。然而，本专利技术要解决的目的不限于前述目的和以上未提及的、根据以下描述对于本领域普通技术人员将显而易见的其他目的。技术方案本专利技术的一个实施方案提供了用于制造液晶取向膜的方法，其包括：制备其中依次设置有基底、导电层、液晶取向层和钝化膜的多层结构；通过向多层结构照射脉冲激光来蚀刻液晶取向层的一个区域；以及通过除去钝化膜而使导电层的一个区域暴露，其中从钝化膜向液晶取向层照射脉冲激光。有益效果根据本专利技术的一个实施方案，存在本专利技术的实施方案与辊对辊连续工艺相容的优点。具体地，由于本专利技术的一个实施方案不伴随通过使用有机溶剂来清洁蚀刻残留物的另外的过程，因此本专利技术的实施方案与连续工艺相容，环境友好并且经济。根据本专利技术的一个实施方案制造的液晶取向膜可以提供其中使导电层的损坏最小化以使根据外部环境的变化的水分和/或气泡的阻挡特性最大化的液晶变色装置。用于制造根据本专利技术的一个实施方案制造的液晶取向膜的方法使存在于导电层上的经蚀刻的液晶取向层残留物的量最小化。根据本专利技术的一个实施方案制造的液晶取向膜与密封剂具有高粘合力。附图说明图1是根据本专利技术的一个实施方案的用于制造液晶取向膜的方法的示意图。图2是根据本专利技术的一个实施方案的液晶取向膜的平面图。图3示出了根据本专利技术的一个实施方案的向其照射脉冲激光的多层结构，除去多层结构中的钝化膜的过程，液晶取向膜和钝化膜的数码相机图像。图4是用于使用根据本专利技术的一个实施方案制造的液晶取向膜制造液晶变色装置的方法的示意图。图5示出了根据实施例1-1至1-3的液晶取向膜的表面和钝化膜的表面的光学显微镜图像。图6示出了根据实施例2-1至2-3的液晶取向膜的表面和钝化膜的表面的光学显微镜图像。图7示出了根据实施例3-1至3-3的液晶取向膜的表面和钝化膜的表面的光学显微镜图像。图8示出了根据比较例1-2至1-4的液晶取向膜的表面的光学显微镜图像。图9示出了根据比较例2-3和2-4的液晶取向膜的表面的光学显微镜图像。图10示出了根据比较例3-1至3-4的液晶取向膜的表面的光学显微镜图像。图11示出了在高温/高湿度耐久性测试中使用的试样的示意图及其数码相机图像。图12示出了实施例1-4和3-4的高温/高湿度耐久性评估结果的数码相机图像。图13示出了比较例4的高温/高湿度耐久性评估结果的数码相机图像。具体实施方式在整个本说明书中，应理解，当一个构件被称为在另一构件“上”时，其可以直接在另一构件上，或者还可以存在介于中间的构件。在整个本说明书中，除非明确相反地描述，否则任一部分“包括”任一部件的情况将被理解为隐含包括所述部件，但不排除任何其他部件。在整个本说明书中，使用某种程度的术语“……(的)步骤”或“……的步骤”不意指“用于……的步骤”。在下文中，将更详细地描述本说明书。本专利技术的一个实施方案提供了用于制造液晶取向膜的方法，其包括：制备其中依次设置有基底、导电层、液晶取向层和钝化膜的多层结构；通过向多层结构照射脉冲激光来蚀刻液晶取向层的一个区域；以及通过除去钝化膜而使导电层的一个区域暴露，其中从钝化膜向液晶取向层照射脉冲激光。在下文中，将详细地描述制造方法的各步骤。制备多层结构的步骤根据本专利技术的一个实施方案，用于制造液晶取向膜的方法包括制备包括依次设置的基底、导电层、液晶取向层和钝化膜的多层结构的步骤。根据本专利技术的一个实施方案，多层结构可以包括基底。基底可以为聚合物基底。具体地，聚合物基底可以包含以下的至少一者：聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、乙烯乙酸乙烯酯(EVA)、环烯烃聚合物(COP)、环烯烃共聚物(COC)、聚丙烯酸酯(PAC)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚醚醚酮(PEEK)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚酰亚胺(PI)、三乙酰纤维素(TAC)、甲本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于制造液晶取向膜的方法，所述方法包括：/n制备其中依次设置有基底、导电层、液晶取向层和钝化膜的多层结构；/n通过向所述多层结构照射脉冲激光来蚀刻所述液晶取向层的一个区域；以及/n通过除去所述钝化膜而使所述导电层的一个区域暴露，/n其中从所述钝化膜向所述液晶取向层照射所述脉冲激光。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170925 KR 10-2017-01234221.一种用于制造液晶取向膜的方法，所述方法包括：
制备其中依次设置有基底、导电层、液晶取向层和钝化膜的多层结构；
通过向所述多层结构照射脉冲激光来蚀刻所述液晶取向层的一个区域；以及
通过除去所述钝化膜而使所述导电层的一个区域暴露，
其中从所述钝化膜向所述液晶取向层照射所述脉冲激光。


2.根据权利要求1所述的方法，其中所述基底为聚合物基底。


3.根据权利要求1所述的方法，其中所述钝化膜在343nm的波长下的透光率为50％或更大。


4.根据权利要求1所述的方法，其中所述导电层的一个区域的所述暴露通过除去所述钝化膜连同通过所述脉冲激光的照射而蚀刻的所述液晶取向层的残留物来进行。


5.根据权利要求1所述的方法，其中所述多层结构还包括所述钝化膜与所述液晶取向层之间的粘合剂层。


6.根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴正岵，辛富建，许殷奎，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国;KR