【技术实现步骤摘要】
光投影校正装置
本专利技术关于一种光投影校正装置，尤指一种光投影校正装置，用以判断发光组件及光学组件是否对齐至可接受程度。
技术介绍
在三维侦测领域，已有发射光点并将光点通过光学组件衍射到被侦测物体的表面(如用户的脸部)的解决方案，之后可观察光点位于被侦测物体上的分布，从而建立被侦测物体的表面的三维模型。为了达成上述目的，发光组件及上述光学组件须重叠，以产生光点。然而，对齐发光组件及对应的光学组件并非易事。虽然组装发光组件及光学组件时，发光组件及光学组件可被置于辅助框架治具，以期对齐两组件，但欲将对齐的误差降低到可接受的程度，仍甚为困难。若发光组件及光学组件无法妥适对齐，则后续的三维侦测的质量将恶化。
技术实现思路
实施例提供一种光投影校正装置，该光投影校正装置包含一发光组件及一光学组件。该发光组件用以发射光线，包含复数个第一发光点，用以发射该光线及有序地排列以形成一预定图形。该光学组件根据该发光组件的位置而设置，用以衍射该光线以产生衍射光线。该衍射光线投影于一远场平面以在该远场平面上...
【技术保护点】
1.一种光投影校正装置，包含：/n一发光组件，用以发射至少第一光线，包含：/n复数个第一发光点，用以发射所述的第一光线及有序地排列以形成一预定图形；及/n一光学组件，根据所述的发光组件的位置而设置，用以衍射至少所述的第一光线以产生衍射光线；/n其中所述的衍射光线投影于一远场平面以在所述的远场平面上产生至少复数个第一扇出点，所述的复数个第一扇出点被分析以取得一光强度波形，所述的光强度波形用以判断所述的发光组件及所述的光学组件是否对齐至一可接受程度。/n
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
20181029 US 16/172,8691.一种光投影校正装置，包含：
一发光组件，用以发射至少第一光线，包含：
复数个第一发光点，用以发射所述的第一光线及有序地排列以形成一预定图形；及
一光学组件，根据所述的发光组件的位置而设置，用以衍射至少所述的第一光线以产生衍射光线；
其中所述的衍射光线投影于一远场平面以在所述的远场平面上产生至少复数个第一扇出点，所述的复数个第一扇出点被分析以取得一光强度波形，所述的光强度波形用以判断所述的发光组件及所述的光学组件是否对齐至一可接受程度。
2.根据权利要求1所述的光投影校正装置，还包含：
一处理单元，用以感应投影于所述的远场平面的所述的复数个第一扇出点，产生所述的光强度波形，分析所述的光强度波形，及判断所述的发光组件及所述的光学组件是否对齐至所述的可接受程度。
3.根据权利要求2所述的光投影校正装置，其中所述的处理单元包含：
一影像传感器，用以感应分布于所述的远场平面的所述的复数个第一扇出点以产生感应数据；及
一处理器，耦接于所述的影像传感器，用以处理所述的感应数据，据以产生及分析所述的光强度波形，及判断所述的发光组件及所述的光学组件是否对齐至所述的可接受程度。
4.根据权利要求2所述的光投影校正装置，还包含：
一旋转单元，用以旋转所述的发光组件及/或所述的光学组件直到所述的发光组件及所述的光学组件对齐至所述的可接受程度。
技术研发人员：刘逸秾，纪政宏，萧名淑，
申请(专利权)人：奇景光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71
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