等离子体处理设备制造技术

技术编号:24021486 阅读:107 留言:0更新日期:2020-05-02 05:33
本发明专利技术涉及一种等离子体处理,其用于实施介电阻挡等离子体放电的设备,所述等离子体处理设备包括一具有处理侧(5)的电极单元(1)和一供给单元(10),电极单元(1)能够与所述供给单元机械连接并且电接触,以便被供给用于产生等离子体所需的供给电压,其中,电极单元(1)具有电极组件,所述电极组件至少朝所述处理侧(5)通过面状的电介质(2)屏蔽,能够通过如下方式使用具有同一个供给单元(10)的不同的电极单元(1):电极单元(1)具有编码,并且供给单元(10)具有用于所述编码的识别装置,并且所述识别装置与控制装置连接,所述控制装置根据识别出的编码来控制用于产生等离子体的供给电压。

Plasma treatment equipment

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】等离子体处理设备
本专利技术涉及一种用于实施对表面的介电阻挡等离子体处理的等离子体处理设备,其包括具有处理侧的电极单元和供给单元,所述电极单元能够与供给单元机械连接并且电接触,以便被供给用于产生等离子体所需的供给电压,其中,所述电极单元具有电极组件,所述电极组件至少朝所述处理侧通过面状的电介质屏蔽。
技术介绍
由DE102014013716A1公知了这种等离子体处理设备。电极单元在此构造为具有面状的电极组件和面状的电介质的平面单元。在此,材料可以这样选择,以使得能放置到伤口表面或皮肤表面上的电极单元可以柔性地适配表面。在此,电极单元设置有延续部,不仅电极组件而且电介质在所述延续部中延伸。电极单元的延续部能够插入到供给单元的接收部中,并且在那里可以通过杠杆夹紧机构被机械地保持。在此,电极组件同时与供给单元电接触。在此,供给单元包含高压级,所述高压级由所提供的电网电压规律地以高压交替脉冲序列的形式产生电介质阻碍的等离子体处理所需的高压。在公知的处理装置中,电极单元能够可更换地与供给单元连接,因为电极单元设置用于一次性使用。这具有的优点是,电本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子体处理设备,其用于实施电阻挡等离子体放电,所述等离子体处理设备包括一具有处理侧(5)的电极单元(1)和一供给单元(10),所述电极单元(1)能够与所述供给单元机械连接并且电接触,以便被供给用于产生等离子体所需的供给电压,其中,所述电极单元(1)具有电极组件,所述电极组件至少朝所述处理侧(5)通过面状的电介质(2)屏蔽,其特征在于,所述电极单元(1)具有编码,并且所述供给单元(10)具有用于所述编码的识别装置,并且所述识别装置与控制装置连接,所述控制装置根据识别出的编码来控制用于产生等离子体的供给电压。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170719 DE 102017116305.01.一种等离子体处理设备,其用于实施电阻挡等离子体放电,所述等离子体处理设备包括一具有处理侧(5)的电极单元(1)和一供给单元(10),所述电极单元(1)能够与所述供给单元机械连接并且电接触,以便被供给用于产生等离子体所需的供给电压,其中,所述电极单元(1)具有电极组件,所述电极组件至少朝所述处理侧(5)通过面状的电介质(2)屏蔽,其特征在于,所述电极单元(1)具有编码,并且所述供给单元(10)具有用于所述编码的识别装置,并且所述识别装置与控制装置连接,所述控制装置根据识别出的编码来控制用于产生等离子体的供给电压。


2.根据权利要求1所述的等离子体处理设备,其特征在于,所述电极单元(1)具有延续部(6),所述延续部能够插入到所述供给单元(10)的接收部(11)中,并且所述延续部(6)承载编码。


3.根据权利要求1或2所述的等离子体处理设备,其特征在于,所述编码以凸起...

【专利技术属性】
技术研发人员:D·万德克M·哈恩尔KO·施托克L·特鲁特威格M·里克
申请(专利权)人:奇诺格有限责任公司
类型:发明
国别省市:德国;DE

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