具有优异的散热特性的用于柔性显示装置基底的聚酰亚胺膜制造方法及图纸

本发明专利技术通过提供由其中添加作为二胺的p‑PDA超过作为酸二酐的s‑BPDA并且添加含有邻苯二甲酸酐(PA)的封端剂的聚合成分的聚合获得的聚酰亚胺，可以提供用于柔性显示装置的基底，所述基底即使在350℃或更高的温度下也具有正CTE值且耐热性不劣化。此外，这样的制造方法允许制造透射率比用仅具有过量二胺的组合物制造的聚酰亚胺膜高的聚酰亚胺膜，使得当在聚酰亚胺基底上制造器件时可以更容易地通过对准键制造TFT器件。

Polyimide film for flexible display device with excellent heat dissipation

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有优异的散热特性的用于柔性显示装置基底的聚酰亚胺膜
本申请要求于2018年5月14日提交的韩国专利申请第10-2018-0054983号和2018年12月18日提交的第10-2018-0164186号的优先权的权益，其全部公开内容通过引用并入本文。本专利技术涉及具有改善的散热特性的用于柔性显示装置基底的聚酰亚胺膜及其制造方法。
技术介绍
聚酰亚胺(PI)是具有相对低的结晶度或大部分是非晶结构的聚合物，其具有易于合成、可以形成为薄膜以及不需要用于固化的交联基团的优点。此外，聚酰亚胺是这样的聚合物材料：除了其透明性之外，其由于其刚性链结构而具有优异的耐热性和耐化学性，以及良好的机械特性、电特性和尺寸稳定性。因此，它被广泛用作用于汽车、航空航天、柔性电路板、LCD用液晶取向膜的电气和电子材料以及粘合剂和涂料。特别地，聚酰亚胺是具有高的热稳定性、机械特性、耐化学性和电特性的高性能聚合物材料，并且作为用于柔性显示装置的基底材料越来越受到关注。然而，为了在显示应用中使用，其必须是透明的，并且为了减少在用于制造显示装置的热处理过程中由基底的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种聚酰亚胺膜，由包含3,3’,4,4’-联苯羧酸二酐(s-BPDA)、4,4’-对苯二胺(pPDA)和2,2’-双(三氟甲基)联苯胺(TFMB)作为聚合组分并且经邻苯二甲酸酐封端的聚酰亚胺制造，并且具有0.5或更大的结晶度。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180514 KR 10-2018-0054983;20181218 KR 10-2018-011.一种聚酰亚胺膜，由包含3,3’,4,4’-联苯羧酸二酐(s-BPDA)、4,4’-对苯二胺(pPDA)和2,2’-双(三氟甲基)联苯胺(TFMB)作为聚合组分并且经邻苯二甲酸酐封端的聚酰亚胺制造，并且具有0.5或更大的结晶度。


2.根据权利要求1所述的聚酰亚胺膜，其中所述膜的热扩散率为0.07mm2/秒或更大。


3.根据权利要求1所述的聚酰亚胺膜，其中所述膜的热导率为0.2W/m·K或更大。


4.根据权利要求1所述的聚酰亚胺膜，其中4,4’-对苯二胺(pPDA)与2,2’-双(三氟甲基)联苯胺(TFMB)的摩尔比为90:10至95:5。


5.根据权利要求1所述的聚酰亚胺膜，其中4,4’-对苯二胺(pPDA)和2,2’-双(三氟甲基)联苯胺(TFMB)的总和与3,3’,4,4’-联苯羧酸二酐(s-BPDA)的摩尔比为100:98.9至100:98.75。


6.根据权利要求1所述的聚酰亚胺膜，其中相对于1摩尔的4,4’-对苯二胺(pPDA)和2,2’-双(三氟甲基)联苯胺(TFMB)的总和，所述邻苯二甲酸酐以0.02至0.025的摩尔比反应。


7.一种用于制造聚酰亚胺膜的方法，包...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴珍永，金炅焕，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国;KR