像素结构及其制备方法、显示器件技术

本发明专利技术涉及一种像素结构及其制备方法、显示器件。其中，像素结构包括：TFT基板；像素定义层，包括形成于所述TFT基板上的像素定义层主体和像素隔离柱；所述像素定义层主体上设有多个第一像素凹槽，所述像素隔离柱位于所述第一像素凹槽内并将所述第一像素凹槽至少分隔成两个第二像素凹槽，且所述像素定义层主体的高度大于所述像素隔离柱的高度；所述像素定义层主体远离所述TFT基板的表面、及所述像素隔离柱远离所述TFT基板的表面均经过氟等离子体处理形成疏水层。该能实现高分辨率显示器件的印刷。

Pixel structure, preparation method and display device

【技术实现步骤摘要】
像素结构及其制备方法、显示器件
本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种像素结构及其制备方法、显示器件。
技术介绍
市场对显示器分辨率的要求越来越高，高分辨率的像素图案化技术对于显示器来说是一项至关重要的技术。目前，喷墨打印技术正在发展成为下一代的OLED像素图案化技术。在印刷工艺中，需要制备像素定义层(pixeldefinitionlayer，PDL，或者被称为Bank)，常用的bank制备采用黄光工艺，利用曝光显影等工艺来形成深度统一、形状基本固定的像素凹槽，用作容纳印刷墨水的“容器”。由于受打印设备精度以及墨水液滴尺寸的影响，对于传统的RGB条状排列的像素结构，很难实现高分辨率显示器件的制备。虽然，通过将相连像素的子像素共用掩膜(mask)上的开口，可以有效提高显示器件的分辨率，但是随着分辨率的增大，各子像素的尺寸就会减小，相应地各子像素凹槽的体积变小，像素凹槽内的墨水还是会因为体积变小而溢出像素凹槽，与相邻不同颜色的子像素发生颜色串扰，引起显示效果下降。而且，为了使像素凹槽内的印刷墨水干燥之后形成厚度均匀的薄膜，通常要本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种像素结构，其特征在于，包括：/nTFT基板；/n像素定义层，包括形成于所述TFT基板上的像素定义层主体和像素隔离柱；所述像素定义层主体上设有多个第一像素凹槽，所述像素隔离柱位于所述第一像素凹槽内并将所述第一像素凹槽至少分隔成两个第二像素凹槽，且所述像素定义层主体的高度大于所述像素隔离柱的高度；/n所述像素定义层主体远离所述TFT基板的表面、及所述像素隔离柱远离所述TFT基板的表面均经过氟等离子体处理形成疏水层。/n

【技术特征摘要】
1.一种像素结构，其特征在于，包括：
TFT基板；
像素定义层，包括形成于所述TFT基板上的像素定义层主体和像素隔离柱；所述像素定义层主体上设有多个第一像素凹槽，所述像素隔离柱位于所述第一像素凹槽内并将所述第一像素凹槽至少分隔成两个第二像素凹槽，且所述像素定义层主体的高度大于所述像素隔离柱的高度；
所述像素定义层主体远离所述TFT基板的表面、及所述像素隔离柱远离所述TFT基板的表面均经过氟等离子体处理形成疏水层。


2.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述像素定义层主体高于所述像素隔离柱的部分侧壁也经过氟等离子体处理形成疏水层。


3.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述像素定义层主体的高度为0.8μm～1.5μm，所述像素隔离柱的高度为0.2μm～0.5μm。


4.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述像素隔离柱的侧壁与所述TFT基板的夹角为25°～65°。


5.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述疏水层与水的接触角大于100°，所述第二像素凹槽的底部与水的接触角小于10°。


6.一种像素结构的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
提供TFT基板；
于所述TFT基板上沉积形成像素定义层，所述像素定义层包括像素定义层主体和像素隔离柱；所述像素定义层主体上设有多个第一像素凹槽，所述像素隔离柱位于所述第一像素凹槽内并将所述第一像素凹...

【专利技术属性】
技术研发人员：高卓，唐卫东，杨曦，
申请(专利权)人：广东聚华印刷显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44