一种污水中持久性有机污染物的处理装置及处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种污水中持久性有机污染物的处理装置及处理方法，该装置包括反应器，所述反应器从下至上依次分为污水流经区、泡沫富集区和气体逸出区；在所述反应器上设有进水口、出水口、鼓气口和排气口，在所述反应器内设有用于放置放射源的放射源通道，所述放射源通道为透明通道。通过所述进水口向所述反应器内通入含有持久性有机污染物的污水；并通过所述鼓气口向所述反应器内鼓气，以在污水的液面上形成富含持久性有机污染物的泡沫层；利用所述放射源对所述泡沫层进行辐照，以降解所述泡沫层中富集的持久性有机污染物，本发明专利技术可以显著提高持久性有机污染物的处理效率。

A treatment device and method of persistent organic pollutants in sewage

【技术实现步骤摘要】
一种污水中持久性有机污染物的处理装置及处理方法
本专利技术涉及污水处理
，更具体地，涉及一种污水中持久性有机污染物的处理装置及处理方法。
技术介绍
持久性有机污染物是指长期存在于环境中，具有长期残留性、生物富集性和毒性，对人类健康和环境具有严重危害的有机污染物，如全氟表面活性剂、溴代阻燃剂等。其在各种工业生产和日常生活中广泛使用，会通过污水排放、产品废弃等途径进入环境中。目前针对水体中持久性有机污染物的处理方式主要分为两类：一类是利用物理过程对持久性有机污染物进行分离，包括吸附、膜分离、离子交换、泡沫分离等方式。物理过程虽然可以将持久性有机污染物从水体中去除，但普遍需要后续的处理工艺实现污染物的彻底降解。另一类方式是通过生物、化学等过程直接对含有持久性有机污染物的污水进行处理，从而将表面活性剂降解、乃至矿化从而去除污水中的持久性有机污染物，常见的处理方法有微生物降解、超声降解、光化学降解、辐照降解和直接化学氧化等。伽马射线辐照水溶液可以产生羟基自由基、水合电子等具有极强氧化还原性的活性物质，在无需加入任何化学试剂的情况下，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种污水中持久性有机污染物的处理装置，其特征在于，包括：反应器，所述反应器从下至上依次分为污水流经区、泡沫富集区和气体逸出区；/n在所述反应器上设有用于进污水的进水口、用于排出污水的出水口、用于向反应器内鼓气的鼓气口和用于排气的排气口，在所述反应器内设有用于放置放射源的放射源通道，所述放射源通道为透明通道。/n

【技术特征摘要】
1.一种污水中持久性有机污染物的处理装置，其特征在于，包括：反应器，所述反应器从下至上依次分为污水流经区、泡沫富集区和气体逸出区；
在所述反应器上设有用于进污水的进水口、用于排出污水的出水口、用于向反应器内鼓气的鼓气口和用于排气的排气口，在所述反应器内设有用于放置放射源的放射源通道，所述放射源通道为透明通道。


2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述排气口设置在所述气体逸出区；所述进水口、出水口和鼓气口均设置在所述污水流经区；优选地，所述排气口设置在所述反应器的顶端，与所述气体逸出区连通；所述进水口与所述排气口的垂直距离小于所述出水口与所述排气口的垂直距离，所述鼓气口与所述排气口的垂直距离大于所述进水口与所述排气口的垂直距离。


3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述反应器底部设有放射源进口，所述放射源通道的底部与所述放射源进口连通，所述放射源通道的顶部延伸至所述泡沫富集区，所述放射源放置在放射源通道的顶部内，优选地，所述放射源为伽马射线源；所述进水口连接有进水管道、所述出水口连接有排水管道以及所述鼓气口连接有导气管，所述进水管道上设有进水流量调节阀，所述排水管道上设有出水流量调节阀，所述导气管上设有气体流量调节阀，所述鼓气口通过气管与设置在反应器内的气体分散装置连接，所述气体分散装置设置在污水流经区内，优选地，所述气体分散装置为不锈钢或陶瓷材质的致密多孔结构，孔径为2～20μm。


4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述排气口与所述气体流量调节阀的进气口连通。


5.根据权利要求3或4所述的装置，其特征在于，所述反应器为圆柱形反应器，所述反应器的直径为180mm，高度为500mm，...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕先谨，马致远，吕建芳，刘勇，周吉奎，饶金山，胡红喜，
申请(专利权)人：广东省资源综合利用研究所，
类型：发明
国别省市：广东;44