一种低光泽度仿古砖及其抛光方法技术

本发明专利技术公开了一种低光泽度仿古砖的抛光方法，其包括：首先采用100‑500目的树脂磨片进行粗磨，然后采用600‑2000目的树脂磨片进行细磨，最后采用150‑300目的纤维磨轮进行抛光；其中，粗磨过程中通入水；细磨和抛光过程中通入抛光液。抛光液主要由以下重量份的原料制备而成：改性氧化铝5‑15份，二氧化硅20‑30份，水55‑65份，硅烷偶联剂2‑5份，分散剂5‑8份，表面活性剂0.5‑5份，有机碱1‑5份，钝化剂0.5‑5份。本发明专利技术的抛光方法，降低了仿古砖表面的粗糙度，提升了其防污性能；但不提升仿古砖表面的光泽度，使得其仿天然石效果更加逼真，装饰性能突出。

A low gloss antique brick and its polishing method

【技术实现步骤摘要】
一种低光泽度仿古砖及其抛光方法
本专利技术涉及陶瓷砖
，尤其涉及一种低光泽度仿古砖及其抛光方法。
技术介绍
仿古砖是一种带有仿古效果釉面的砖，其釉面独特，常带有古典风味，是颇受消费者欢迎的产品。随着技术的进步，仿古砖逐渐扩展出了各种各样的釉面效果，如木材仿古砖、地毯复古砖、天然石复古砖；目前主要的研究方向是仿天然石材纹路。然而天然石的光泽度分布较广，在2-60度内均有分布；如何通过工艺、配方调节，得到各种光泽度的仿古砖，是需要解决的技术难题。另一方面，就光泽度而言，目前市场上有亚光砖、柔光砖和亮光砖；所谓亚光砖，一般是指光泽度为10-30度的砖；柔光砖是指光泽度为30-60度的砖；亮光砖则指光泽度＞60度的砖；其中，柔光砖和亚光砖多以仿古砖为主，以及少量的抛光砖。而亮光砖则主要以抛光砖、全抛釉为主。目前改变陶瓷砖表面光泽度的主要方法是抛光，一般采用不同目数的磨头和水对陶瓷砖表面釉层进行抛光，以得到不同光泽度的陶瓷砖釉面。然而，传统的抛光工艺，为了达到更高的光泽度(＞60度)，对陶瓷砖表面抛磨量较高，产生了大量的废渣，同时也使得瓷砖表面过分光滑，不耐污。为了改进，陶瓷业开发了半抛(柔抛)技术，得到的砖体光泽度较低，如柔光砖、亚光砖(缎光砖)等。然而，现有的生产技术，还是难以通过抛光生产光泽度为2-10度的陶瓷砖。此外，对于抛光工艺而言，除了保证光泽度，还需要保证考虑抛光后表面的粗糙度、表面是否有波纹等。本领域普通技术人员的技术常识是：只有提升抛光次数以及降低研磨介质的粒度，才能降低粗糙度和光泽度；即光泽度和粗糙度是同步变化的。即光泽度较低的砖，其表面粗糙度较高，防滑性能更好，耐污性能较差；而光泽度较高的砖，其表面粗糙度较低，防滑性能相对较差，耐污性能较好。即现有技术难以同时实现低光泽度和低粗糙度。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于，提供一种低光泽度仿古砖的抛光方法，其可对仿古砖釉面进行有效抛光，使得仿古砖釉面光泽度≤10度，表面粗糙度≤200nm。本专利技术还要解决的技术问题在于，提供一种低光泽度的仿古砖。为了解决上述技术问题，本专利技术公开了一种低光泽度仿古砖的抛光方法，其包括：(1)提供仿古砖坯体，所述仿古砖坯体包括底坯层以及依次设于所述底坯层上的底釉层、图案层和粒子釉层；(2)采用100-500目的树脂磨片对所述仿古砖坯体进行粗磨；粗磨过程中通入水；(3)采用600-2000目的树脂磨片对所述仿古砖坯体进行细磨；细磨过程中通入抛光液；(4)采用150-300目的纤维磨轮对所述仿古砖坯体进行抛光，得到低光泽度仿古砖；抛光过程中通入抛光液；其中，所述抛光液主要由以下重量份的原料制备而成：改性氧化铝5-15份，二氧化硅20-30份，水55-65份，硅烷偶联剂2-5份，分散剂5-8份，表面活性剂0.5-5份，有机碱1-5份，钝化剂0.5-5份。作为上述技术方案的改进，步骤(2)中，依次采用240目、300目、400目的树脂磨片对所述仿古砖坯体进行粗磨；粗磨过程中树脂磨片的转速为1000-3000rpm，树脂磨片对所述仿古砖坯体的压力为0.2-0.5MPa，通入水的流量为300-1000mL/min。作为上述技术方案的改进，步骤(3)中，依次采用600目、800目、1000目、1200目的树脂磨片对所述仿古砖坯体进行细磨；细磨过程中树脂磨片的转速为1000-3000rpm，树脂磨片对所述仿古砖坯体的压力为0.1-0.3MPa，通入抛光液的流量为100-500mL/min。作为上述技术方案的改进，步骤(4)中，依次采用180目、240目的纤维磨轮对所述仿古砖坯体进行抛光；抛光过程中纤维磨轮的转速为2000-5000rpm，纤维磨轮对所述仿古砖坯体的压力为0.1-0.3MPa，通入抛光液的流量为50-200mL/min。作为上述技术方案的改进，所述仿古砖坯体的光泽度为2-5度，表面粗糙度≥10μm；抛光后所述仿古砖坯体的光泽度为2-10度，表面粗糙度≤200nm。作为上述技术方案的改进，所述改性氧化铝由以下重量百分比的原料制成：氧化铝70-85％，氨基硅烷偶联剂0.5-5％，有机溶剂8-15％，水2-10％；其中，所述改性氧化铝的平均粒径为10-100nm，所述改性二氧化硅的平均粒径为5-20nm；其制备方法包括：(1)将氨基硅烷偶联剂、水和有机溶剂混合均匀在50-80℃下混合反应20-60min，得到混合液；(2)将混合液与氧化铝混合，在60-90℃下搅拌混合20-40分钟，即得到改性氧化铝。作为上述技术方案的改进，所述有机溶剂选用甲醇、乙醇、丙醇、丙酮中的一种或多种；所述氨基硅烷偶联剂选用γ-氨丙基三甲氧基硅烷、γ-氨丙基三乙氧基硅烷、N-(β-氨乙基)-γ-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、N-(β-氨乙基)-γ-氨丙基三甲氧基硅烷、γ-氨丙基甲基二乙氧基硅烷中的一种或多种。作为上述技术方案的改进，所述硅烷偶联剂选用γ-巯丙基三甲氧基硅烷和/或γ-巯丙基三乙氧基硅烷；所述分散剂选用乙二醇、甘油、聚乙二醇中的一种或多种；所述表面活性剂选用脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚、聚氧乙烯烷醇酰胺、十二烷基苯磺酸钠、十二烷基硫酸钠中的一种或多种；所述有机碱选用二羟基乙基乙二胺、二乙烯三胺、乙二胺、二乙醇胺中的一种或多种；所述钝化剂选用苯并三氮唑。作为上述技术方案的改进，所述抛光液的制备方法包括：(1)制备改性氧化铝；(2)将二氧化硅、硅烷偶联剂、分散剂混合均匀，并球磨负载0.2-1h，得到处理后二氧化硅；(3)将改性氧化铝、处理后二氧化硅混合均匀，并加热至90-120℃，反应0.5-1h，得到复合磨粒；(4)在水中加入表面活性剂，搅拌均匀后加入复合磨粒，然后边搅拌边加入钝化剂和有机碱，即得到仿古砖抛光液成品。相应的，本专利技术还提供了一种低光泽度仿古砖，其由上述的抛光方法处理而得；所述低光泽度仿古砖的光泽度为2-10度，表面粗糙度≤200nm。实施本专利技术，具有如下有益效果：本专利技术提供了一种仿古砖抛光方法，其通过采用不同抛光液、不同粒度的抛光磨片/磨轮依次对仿古砖表面进行粗磨、细磨和抛光，降低了仿古砖表面的粗糙度，提升了其防污性能；但不提升仿古砖表面的光泽度，使得其仿天然石效果更加逼真，装饰性能突出。附图说明图1是本专利技术一种低光泽度仿古砖抛光方法的流程图；图2是本专利技术抛光液的制备方法流程图。具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术作进一步地详细描述。仅此声明，本专利技术在文中出现或即将出现的上、下、左、右、前、后、内、外等方位用词，仅以本专利技术的附图为基准，其并不是对本专利技术的具体限定。参考图1，本专利技术提供了一种低光泽度仿古砖的抛光方法，其包括以下步本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低光泽度仿古砖的抛光方法，其特征在于，包括：/n(1)提供仿古砖坯体，所述仿古砖坯体包括底坯层以及依次设于所述底坯层上的底釉层、图案层和粒子釉层；/n(2)采用100-500目的树脂磨片对所述仿古砖坯体进行粗磨；粗磨过程中通入水；/n(3)采用600-2000目的树脂磨片对所述仿古砖坯体进行细磨；细磨过程中通入抛光液；/n(4)采用150-300目的纤维磨轮对所述仿古砖坯体进行抛光，得到低光泽度仿古砖；抛光过程中通入抛光液；/n其中，所述抛光液主要由以下重量份的原料制备而成：/n改性氧化铝5-15份，二氧化硅20-30份，水55-65份，硅烷偶联剂2-5份，分散剂5-8份，表面活性剂0.5-5份，有机碱1-5份，钝化剂0.5-5份。/n

【技术特征摘要】
1.一种低光泽度仿古砖的抛光方法，其特征在于，包括：
(1)提供仿古砖坯体，所述仿古砖坯体包括底坯层以及依次设于所述底坯层上的底釉层、图案层和粒子釉层；
(2)采用100-500目的树脂磨片对所述仿古砖坯体进行粗磨；粗磨过程中通入水；
(3)采用600-2000目的树脂磨片对所述仿古砖坯体进行细磨；细磨过程中通入抛光液；
(4)采用150-300目的纤维磨轮对所述仿古砖坯体进行抛光，得到低光泽度仿古砖；抛光过程中通入抛光液；
其中，所述抛光液主要由以下重量份的原料制备而成：
改性氧化铝5-15份，二氧化硅20-30份，水55-65份，硅烷偶联剂2-5份，分散剂5-8份，表面活性剂0.5-5份，有机碱1-5份，钝化剂0.5-5份。


2.如权利要求1所述的低光泽度仿古砖的抛光方法，其特征在于，步骤(2)中，依次采用240目、300目、400目的树脂磨片对所述仿古砖坯体进行粗磨；
粗磨过程中树脂磨片的转速为1000-3000rpm，树脂磨片对所述仿古砖坯体的压力为0.2-0.5MPa，通入水的流量为300-1000mL/min。


3.如权利要求1所述的低光泽度仿古砖的抛光方法，其特征在于，步骤(3)中，依次采用600目、800目、1000目、1200目的树脂磨片对所述仿古砖坯体进行细磨；
细磨过程中树脂磨片的转速为1000-3000rpm，树脂磨片对所述仿古砖坯体的压力为0.1-0.3MPa，通入抛光液的流量为100-500mL/min。


4.如权利要求1所述的低光泽度仿古砖的抛光方法，其特征在于，步骤(4)中，依次采用180目、240目的纤维磨轮对所述仿古砖坯体进行抛光；
抛光过程中纤维磨轮的转速为2000-5000rpm，纤维磨轮对所述仿古砖坯体的压力为0.1-0.3MPa，通入抛光液的流量为50-200mL/min。


5.如权利要求1-4任一项所述的低光泽度仿古砖的抛光方法，其特征在于，所述仿古砖坯体的光泽度为2-5度，表面粗糙度≥10μm；
抛光后所述仿古砖坯体的光泽度为2-10度，表面粗糙度≤200nm。


6.如权利要求1所述的低光泽...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢岳荣，霍振辉，徐鹏飞，钟鹏，
申请(专利权)人：肇庆乐华陶瓷洁具有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44