一种电磁屏蔽膜、显示屏外壳以及显示屏制造技术

本实用新型专利技术提供了一种电磁屏蔽膜、显示屏外壳以及显示屏，所述电磁屏蔽薄膜包括透明并由低导电系数材料制成且呈薄膜结构的结构底膜层、与结构底膜层叠设置并由单层石墨烯薄膜制成的电磁屏蔽膜层、设于结构底膜层和所述电磁屏蔽膜层之间且呈分散状布置的铁纳米线以及设于结构底膜层和所述电磁屏蔽膜层之间且呈分散状布置的镍纳米线。本实用新型专利技术提供的电磁屏蔽膜避免了使用金属网作电磁屏蔽，提高透光率的同时，增强了电磁屏蔽性能。

An electromagnetic shielding film, a display shell and a display screen

【技术实现步骤摘要】
一种电磁屏蔽膜、显示屏外壳以及显示屏
本技术涉及电磁屏蔽器件，具体涉及一种电磁屏蔽膜、显示屏外壳以及显示屏。
技术介绍
随着电子工业的发展和电子设备的广泛应用，电磁波辐射被认为是继水污染、噪音污染、空气污染后的第四大公害。电磁辐射在LED显示屏内会频繁发生，导致LED显示屏内的电子器件发生非正常运转。LED显示屏在户外及室内应用中，一般会考虑显示屏电磁屏蔽方面的设计，避免对外界电子设备造成电磁干扰，或被外界影响以致失效。现有技术中，对于LED显示屏正面灯面部分的电磁辐射，目前所采用的措施是使用金属网作为正面的电磁屏蔽，但是金属网的透光率非常低，会降低灯面亮度，导致用户使用体验不佳。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种电磁屏蔽膜，以解决现有技术中存在的使用金属网作电磁屏蔽影响光的透过率，导致灯面亮度达不到标准的技术问题。为实现上述目的，本技术采用的技术方案是：提供一种电磁屏蔽膜，包括透明并由低导电系数材料制成且呈薄膜结构的结构底膜层、与所述结构底膜层叠设置并由单层石墨烯薄膜制成的电磁屏蔽膜层、设于所述结构底膜层和所述电磁屏蔽膜层之间且呈分散状布置的铁纳米线以及设于所述结构底膜层和所述电磁屏蔽膜层之间且呈分散状布置的镍纳米线，其中，所述铁纳米线和所述镍纳米线的分散度均为0.5-2毫克/平方米。进一步地，所述铁纳米线和所述镍纳米线的平均长度均为10-60微米。进一步地，所述铁纳米线和所述镍纳米线的平均直径则均为直径50-200纳米。进一步地，所述结构底膜层为由玻璃、PET或亚克力制成的结构底膜层。本技术提供的电磁屏蔽膜的有益效果在于，与现有技术相比，本技术通过在LED显示屏外部安装上述电磁屏蔽膜，该电磁屏蔽膜包括高透光性的结构底膜层和由单层石墨烯薄膜制成的电磁屏蔽膜层，以及设于所述结构底膜层和所述电磁屏蔽膜层之间且呈分散状布置的铁纳米线和镍纳米线，提高透光率的同时，增强了电磁屏蔽性能。本技术的目的还在于提供一种显示屏外壳，以解决现有技术中存在的使用金属网作电磁屏蔽影响光的透过率，导致灯面亮度达不到标准的技术问题。为实现上述目的，本技术所采用的目的是提供一种显示屏外壳，用于收纳显示模组，包括：金属后壳，于其前侧开设用于收容所述显示模组的开口腔；连接前框，呈回环型结构，并设于所述开口腔内，所述连接前框的外框形状与所述开口腔的开口形状相匹配，所述连接前框通过紧固件与所述金属后壳连接；电磁屏蔽膜，通过导电胶连接于所述连接前框，包括透明并由低导电系数材料制成且呈薄膜结构的结构底膜层、与所述结构底膜层叠设置并由单层石墨烯薄膜制成的电磁屏蔽膜层、设于所述结构底膜层和所述电磁屏蔽膜层之间且呈分散状布置的铁纳米线以及设于所述结构底膜层和所述电磁屏蔽膜层之间且呈分散状布置的镍纳米线，其中，所述铁纳米线和所述镍纳米线的分散度均为0.5-2毫克/平方米。进一步地，所述显示屏外壳还包括从所述连接前框外侧边沿向前延伸形成的限位环。进一步地，所述铁纳米线和所述镍纳米线的平均长度均为10-60微米。进一步地，所述铁纳米线和所述镍纳米线的平均直径均为50-200纳米。进一步地，所述结构底膜层为由玻璃、PET或亚克力制成的结构底膜层。本技术提供的显示屏外壳的有益效果在于，与现有技术相比，本技术通过在LED显示屏外壳中设置电磁屏蔽膜，避免了使用金属网作LED显示屏正面的电磁屏蔽，结构轻便，并且提高了光线的透过率。本技术还提供了一种显示屏，包括上述的电磁屏蔽膜或者上述显示屏外壳。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术实施例提供的电磁屏蔽膜的整体结构示意图；图2为本技术实施例提供的铁纳米线和镍纳米线的结构示意图；图3为本技术实施例提供的显示屏外壳的结构示意图其中，图中各附图标记：标号名称标号名称10电磁屏蔽膜11结构底膜层12电磁屏蔽膜层13铁纳米线14镍纳米线20显示屏外壳21金属后壳210开口腔22连接前框220限位环221回形凹槽23导电胶具体实施方式为了使本技术所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。请参阅图1和图2，现对本技术提供的电磁屏蔽膜10进行说明，所述电磁屏蔽膜10包括透明并由低导电系数材料制成且呈薄膜结构的结构底膜层11、与结构底膜层11叠设置并由单层石墨烯薄膜制成的电磁屏蔽膜层12、设于结构底膜层11和电磁屏蔽膜10层之间且呈分散状布置的铁纳米线13以及设于结构底膜层11和电磁屏蔽膜10层之间且呈分散状布置的镍纳米线14，其中，铁纳米线13和镍纳米线14的分散度均为0.5-2毫克/平方米。电磁屏蔽膜层12由石墨烯材料制成，石墨烯是一种只有单个原子厚度的准二维材料，具有极高的电子迁移率和透光率，由石墨烯材料制成的石墨烯薄膜透光率可达到90％并且具有优良的弯曲性能，可用于LED显示屏正面的电磁屏蔽。纳米线与镍纳米线14增强了电磁屏蔽膜10的磁导率，使电流规避石墨烯薄膜的缺陷，实现电荷快速传导，增加整个电磁屏蔽膜10的导电性，提高屏蔽性能，并且具有低成本的优点。进一步地，铁纳米线13与镍纳米线14的平均长度均为10-60微米，既满足透光性的要求又能提高电磁屏蔽效能。进一步地，铁纳米线13与镍纳米线14的平均直径为50-200纳米，既满足透光性的要求又能提高电磁屏蔽效能。进一步地，结构底膜层11为由玻璃、PET或亚克力制成的结构底膜层11，玻璃、PET塑料、亚克力都具有高透光率，满足透光性要求。请参阅图3，现对本技术提供的显示屏外壳20进行说明，所述显示屏外壳20用于收纳显示模组，包括：金属后壳21，于其前侧开设用于收容所述显示模组的开口腔210；连接前本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电磁屏蔽膜，其特征在于，包括透明并由低导电系数材料制成且呈薄膜结构的结构底膜层、与所述结构底膜层叠设置并由单层石墨烯薄膜制成的电磁屏蔽膜层、设于所述结构底膜层和所述电磁屏蔽膜层之间且呈分散状布置的铁纳米线以及设于所述结构底膜层和所述电磁屏蔽膜层之间且呈分散状布置的镍纳米线，其中，所述铁纳米线和所述镍纳米线的分散度均为0.5-2毫克/平方米。/n

【技术特征摘要】
1.一种电磁屏蔽膜，其特征在于，包括透明并由低导电系数材料制成且呈薄膜结构的结构底膜层、与所述结构底膜层叠设置并由单层石墨烯薄膜制成的电磁屏蔽膜层、设于所述结构底膜层和所述电磁屏蔽膜层之间且呈分散状布置的铁纳米线以及设于所述结构底膜层和所述电磁屏蔽膜层之间且呈分散状布置的镍纳米线，其中，所述铁纳米线和所述镍纳米线的分散度均为0.5-2毫克/平方米。


2.如权利要求1所述电磁屏蔽膜，其特征在于，所述铁纳米线和所述镍纳米线的平均长度均为10-60微米。


3.如权利要求1所述电磁屏蔽膜，其特征在于，所述铁纳米线和所述镍纳米线的平均直均为50-200纳米。


4.如权利要求1所述电磁屏蔽膜，其特征在于，所述结构底膜层为由玻璃、PET或亚克力制成的结构底膜层。


5.一种显示屏外壳，用于收纳显示模组，其特征在于，包括：
金属后壳，于其前侧开设用于收容所述显示模组的开口腔；
连接前框，呈回环型结构，并设于所述开口腔内，所述连接前框的外框形状与所述开口腔的开口形状相匹配，所述连接前框通过紧固件与所述金属后壳连接；<...

【专利技术属性】
技术研发人员：王占明，陈文冰，徐亚威，周旭，张新庆，
申请(专利权)人：深圳市大族元亨光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44