膜及其制备方法技术

本申请公开了膜及其制备方法。膜包括：基底层、设置于所述基底层表面的第一阻挡层以及设置于所述第一阻挡层表面的第二阻挡层，其中：所述第二阻挡层中包括二维纳米材料以及高分子材料。由于二维纳米材料的材料粒径属于纳米级，相较于第一阻挡层，使得第二阻挡层的致密性较高，孔径大小较小，在第一阻挡层上增加该第二阻挡层能够增加膜整体的密封性能，从而解决现有技术中的问题。

Membrane and its preparation

【技术实现步骤摘要】
膜及其制备方法
本申请涉及材料加工
，尤其涉及膜及其制备方法。
技术介绍
随着社会的不断发展，在食物、饮料瓶、药品、光学和电子工业等的密封过程中，通常需要用到塑料膜、金属箔等膜。现有的膜受限于制备材料、制备工艺等，通常会在表面形成微小的孔隙、针孔、裂缝等，从而影响膜的密封性能。因此需要提供一种密封性能更加优良的膜，以解决现有技术中的问题。
技术实现思路
本申请实施例提供膜及其制备方法，用于解决现有技术中的膜密封性能较差的问题。本申请实施例提供了一种膜的制备方法，包括：提供一基底层，其中所述基底层上包括第一阻挡层；利用二维纳米材料与高分子材料的混合材料，在所述第一阻挡层表面生成第二阻挡层。优选的，所述二维纳米材料包括如下任意一种或多种材料：石墨烯；官能化石墨烯；氧化石墨烯；官能化氧化石墨烯；还原的氧化石墨烯；官能化的还原的氧化石墨烯。优选的，所述高分子材料具体包括：溶胀比低于预设阈值的高分子材料和/或添加了抑制溶胀添加剂的高分子材料。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种膜的制备方法，其特征在于，包括：/n提供一基底层，其中所述基底层上包括第一阻挡层；/n利用二维纳米材料与高分子材料的混合材料，在所述第一阻挡层表面生成第二阻挡层。/n

【技术特征摘要】
1.一种膜的制备方法，其特征在于，包括：
提供一基底层，其中所述基底层上包括第一阻挡层；
利用二维纳米材料与高分子材料的混合材料，在所述第一阻挡层表面生成第二阻挡层。


2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述二维纳米材料包括如下任意一种或多种材料：
石墨烯；
官能化石墨烯；
氧化石墨烯；
官能化氧化石墨烯；
还原的氧化石墨烯；
官能化的还原的氧化石墨烯。


3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述高分子材料具体包括：溶胀比低于预设阈值的高分子材料和/或添加了抑制溶胀添加剂的高分子材料。


4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，利用二维纳米材料与高分子材料的混合材料，在所述第一阻挡层表面生成第二阻挡层，具体包括：
利用氧化石墨烯与聚醚酰亚胺的混合材料，在所述第一阻挡层表面生成第二阻挡层。


5.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于，利用氧化石墨烯与聚醚酰亚胺的混合材料，在所述第一阻挡层表面生成第二阻挡层，具体包括：
将聚醚酰亚胺溶于二甲基乙酰胺中制备出聚醚酰亚胺溶液；
将氧化石墨烯分散于二甲基乙...

【专利技术属性】
技术研发人员：林小锋，
申请(专利权)人：苏州普希环保科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32