清洁液组合物和使用该清洁液组合物的聚合装置的清洁方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种清洁液组合物和使用该清洁液组合物清洁聚合装置的方法，更具体地，涉及一种包含由化学式1表示的过渡金属化合物(参见本发明专利技术的详细说明)；和烃类溶剂的清洁液组合物。

Cleaning solution composition and cleaning method of polymerization device using the cleaning solution composition

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】清洁液组合物和使用该清洁液组合物的聚合装置的清洁方法
相关申请的交叉引用本申请要求在韩国知识产权局于2017年10月31日提交的韩国专利申请No.10-2017-0143126和于2018年8月28日提交的韩国专利申请No.10-2018-0101358的优先权，这两项专利申请的公开内容通过引用全部并入本说明书中。
本专利技术涉及一种清洁液组合物，更具体地，涉及一种清洁液组合物和使用该清洁液组合物清洁聚合装置的方法。
技术介绍
有利于制备高分子量聚合物的溶液聚合方法主要用于使包含二烯的单体聚合成高分子量聚合物。例如，高分子量聚合物如溶液苯乙烯丁二烯橡胶(SSBR)、丁二烯橡胶(BR)或苯乙烯丁二烯苯乙烯嵌段共聚物(SBS)等通过溶液聚合法聚合而成。然而，当使用溶液聚合法聚合为高分子量聚合物时，高分子量聚合物在聚合反应器中积聚，从而引起聚合反应器中的热交换效率降低、由于积聚的高分子量聚合物导致聚合反应器内部的体积减小而引起生产率降低、以及积聚的聚合物流入聚合反应器的下端而阻碍反应产物传输的问题。因此，为了解决上述问题，进行喷射清洁，其中，通过定期地直接向反应器提供人力用高压水物理地除去积聚的高分子量聚合物。然而，在喷射清洁的过程中，需要平均5天的除去时间，因此，在相应的时间期间，包括相应聚合反应器的生产设备的操作停止，这对生产率具有不利影响。此外，由于直接对聚合反应器提供人力，因此，总是存在安全事故的可能性，并且存在的问题在于在喷射清洁中使用水，因此在清洁结束之后为了重新开始溶液聚合，特别是阴离子聚合，需要另外的除水等工艺。因此，作为除去积聚在聚合反应器中的高分子量聚合物的方法，需要一种能够确保生产率和安全性两者的清洁方法来代替诸如喷射清洁的物理方法。因此，本专利技术提出一种利用能够除去积聚的橡胶的催化剂的化学方法。
技术实现思路
技术问题本专利技术的一个目的是提供一种使用清洁液组合物清洁聚合装置的方法，其中，使用清洁液组合物以化学方式而不是物理方式除去在聚合反应器中积聚的高分子量聚合物。即，做出本专利技术以解决现有技术的上述问题，在聚合反应器中添加用于清洁聚合装置的清洁液组合物，以化学方式使在聚合装置中积聚的高分子量聚合物分解并除去，并且一个目的是确保对于直接提供人力的安全性，并且通过缩短聚合装置的清洁时间来确保生产率。技术方案在一个总的方面，清洁液组合物包含：由下面化学式1表示的过渡金属化合物；和烃类溶剂：[化学式1]在化学式1中，M可以是钌或锇，R1和R2可以各自独立地是氢原子或由下面化学式2表示的取代基，R1和R2中的至少一个可以是由下面化学式2表示的取代基，X1和X2可以各自独立地是卤素原子，Ph可以是苯基，[化学式2]在化学式2中，R3和R4可以各自独立地是C1至C10烷基；或者R3和R4可以彼此连接形成饱和或不饱和的5元环。在另一总的方面，聚合装置的清洁方法包括：用烃类溶剂溶胀在聚合装置中的二烯类聚合物(S10)；以及在步骤(S10)中溶胀的二烯类聚合物的存在下，添加上述清洁液组合物和乙烯基类单体并且搅拌，从而使所述二烯类聚合物低聚化(S20)。有益效果当使用根据本专利技术的清洁液组合物清洁聚合装置时，可以以化学方式除去在聚合装置中积聚的高分子量聚合物，因此，可以在短时间内进行清洁，而不会引起由于直接提供人力而引起的安全问题，从而缩短聚合反应器的重新操作时间，提高生产率。附图说明图1是示出通过使用在本专利技术的实施例2和实施例3以及比较例1中制备的各个清洁液组合物分解和过滤橡胶，然后通过凝胶渗透色谱法测量在溶液中残留的低聚物而得到的重均分子量的曲线图。具体实施方式在本说明书和权利要求书中使用的术语和词语不应理解为常规的或字典中的含义，而是应当基于专利技术人可以适当地定义术语的概念，以便以最佳方式描述他们自己的专利技术的原则，理解为符合本专利技术的技术构思的含义和概念。下文中，将更详细地描述本公开内容以帮助理解本专利技术的技术构思。根据本专利技术，提供一种用于解决上述问题的清洁液组合物。根据本专利技术的一个实施方案，所述清洁液组合物可以包含：由下面化学式1表示的过渡金属化合物；和烃类溶剂：[化学式1]在化学式1中，M可以是钌或锇，R1和R2可以各自独立地是氢原子或由下面化学式2表示的取代基，R1和R2中的至少一个可以是由下面化学式2表示的取代基，X1和X2可以各自独立地是卤素原子，Ph可以是苯基，[化学式2]在化学式2中，R3和R4可以各自独立地是C1至C10烷基；或者R3和R4可以彼此连接形成饱和或不饱和的5元环。根据本专利技术的一个实施方案的清洁液组合物中包含的由化学式1表示的过渡金属化合物可以是用于分解在聚合装置中积聚的高分子量聚合物的过渡金属化合物。作为一个具体的实例，所述过渡金属化合物可以是通过进行烯烃交叉复分解反应将高分子量聚合物分解成具有低分子量的低聚物的催化剂，在所述烯烃交叉复分解反应中，在聚合装置中积聚的高分子量聚合物中存在的重复单元中的碳-碳双键被分解并且重新结合。即，根据本专利技术的一个实施方案的清洁液组合物可以是清洁液催化剂组合物。当由上面化学式1表示的过渡金属化合物用作用于分解聚合物的催化剂时，化学稳定性优异，并且对聚合物中存在的重复单元中除了碳-碳双键之外的其它官能团和取代基的影响小，从而在清洁聚合装置时得到优异的清洁效率，并且可以进行稳定清洁。在本专利技术中，化合物中包含的术语“原子”，如氢原子、卤素原子等，可以指原子本身，或者可以指形成共价键的自由基或形成配位键的配体。换言之，根据本专利技术的一个实施方案，氢原子可以指氢自由基，并且卤素原子可以指卤素配体。此处，卤素原子可以指选自F、Cl、Br和I中的一种卤素原子。本专利技术中的术语“饱和或不饱和的5元环”可以指由包含化学式2中所示的N原子的五个原子形成的饱和或不饱和的环基，其中，饱和环基可以指环中没有双键，不饱和环基可以指环中有一个或多个双键。此处，所述饱和或不饱和的5元环可以指除了化学式2中所示的氮(N)原子之外，形成5元环的所有原子都是碳原子，或者除了碳原子之外，还可以包含选自氧(O)、氮(N)和硫(S)中的一种或多种杂原子。此外，所述饱和或不饱和的5元环可以被诸如一价烃基或包含杂原子的一价烃基等的取代基取代或未被取代。根据本专利技术的一个实施方案，作为由化学式1表示的过渡金属化合物的具体实例，在上面化学式1中，M可以是钌或锇，R1和R2可以各自独立地是由化学式2表示的取代基，X1和X2可以是Cl或Br，并且在化学式2中，R3和R4可以各自独立地是C1至C5烷基；或者R3和R4可以彼此连接形成饱和或不饱和的5元环。作为由化学式1表示的过渡金属化合物的更具体的实例，在化学式1中，M可以是钌，R1和R2可以各自独立地是由化学式2表示的取代基，X1和X2可以是Cl，并且在化学式2中，R3和R4可以彼此连接本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种清洁液组合物，包含：/n由下面化学式1表示的过渡金属化合物；和烃类溶剂：/n[化学式1]/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171031 KR 10-2017-0143126;20180828 KR 10-2018-011.一种清洁液组合物，包含：
由下面化学式1表示的过渡金属化合物；和烃类溶剂：
[化学式1]



在化学式1中，
M是钌或锇，R1和R2各自独立地是氢原子或由下面化学式2表示的取代基，R1和R2中的至少一个是由下面化学式2表示的取代基，X1和X2各自独立地是卤素原子，Ph是苯基，
[化学式2]



在化学式2中，
R3和R4各自独立地是C1至C10烷基；或者R3和R4彼此连接形成饱和或不饱和的5元环。


2.根据权利要求1所述的清洁液组合物，
M是钌或锇，R1和R2各自独立地是由化学式2表示的取代基，X1和X2是Cl或Br，
R3和R4各自独立地是C1至C5烷基；或者R3和R4彼此连接形成饱和或不饱和的5元环。


3.根据权利要求1所述的清洁液组合物，
M是钌，R1和R2各自独立地是由化学式2表示的取代基，X1和X2是Cl，
R3和R4彼此连接形成饱和或不饱和的5元环。


4.根据权利要求1所述的清洁液组合物，其中，所述由化学式1表示的过渡金属化合物是由下面化学式3表示的过渡金属化合物：
[化学式3]



在化学式3中，
M是钌或锇，R1和R2各自独立地是氢原子或由下面化学式2表示的取代基，R1和R2中的至少一个是由下面化学式2表示的取代基，Ph是苯基，
[化学式2]



在化学式2中，
R3和R4各自独立地是C1至C10烷基；或者R3和R4彼此连接形成饱和或不饱和的5元环。


5.根据权利要求4所述的清洁液组合物，其中，所述由化学式3表示的过渡金属化合物是由下面化学式3-1至化学式3-8表示的过渡金属化合物中的任意一种：
[化学式3-1]



[化学式3...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵大濬，崔源文，李恩京，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国;KR