【技术实现步骤摘要】
快速等离子双送丝随动控制系统及其控制方法
本专利技术属于快速等离子熔融沉积
，涉及一种高效率双送丝随动控制系统，本专利技术还涉及上述双送丝随动控制系统的控制方法。
技术介绍
快速等离子熔融沉积技术(RapidPlasmaDeposition，RPD)是利用等离子弧作为能量源，在基材上形成稳定熔池，同时将送入熔池的金属丝材熔化，进而沉积凝固成形。等离子弧和电子束、激光同属为高能束，但等离子弧相较于电子束和激光的成本低，且比自由态电弧的能量密度高、刚直性好，因而近年来被各研究机构和企业用于金属构件的低成本快速制造。但由于等离子弧熔融沉积技术的热输入量大，熔池尺寸大，单层的沉积高度也相对其他技术较高，这就导致其成形构件的精度低，表面质量差，易产生缺陷。其次，在进行零件的等离子熔融沉积成形前，需要进行切片分层处理，且切片层厚和路径已设为定值，而在沉积成形过程中，因为送丝枪将丝送入熔池的角度是固定不变的，在不同方向的沉积宽度和沉积高度与理论设计有一定的偏差，且随处则沉积过程的进行，该偏差不断累积放大，最终导致沉积过程无法进行，甚...
【技术保护点】
1.快速等离子双送丝随动控制系统，其特征在于，包括设置在伺服电机(2)左右两侧的送丝机b(1)和送丝机a(3)，所述伺服电机(2)下方连接有旋转电机(7)，所述旋转电机(7)下方设置有固定板和等离子枪(11)、所述等离子枪(11)位于旋转电机(7)中心位置、所述固定板位于等离子枪(11)后方；/n在所述固定板的两端、等离子枪(11)的两侧对称设置有一对竖直导轨，在两个竖直导轨上分别设置有滑块b(14)和滑块a(8)，所述滑块b(14)上安装着转角电机b(13)、转角电机b(13)上安装着送丝枪b(12)；所述滑块a(8)上安装着转角电机a(9)、转角电机a(9)上安装着送丝...
【技术特征摘要】
1.快速等离子双送丝随动控制系统，其特征在于，包括设置在伺服电机(2)左右两侧的送丝机b(1)和送丝机a(3)，所述伺服电机(2)下方连接有旋转电机(7)，所述旋转电机(7)下方设置有固定板和等离子枪(11)、所述等离子枪(11)位于旋转电机(7)中心位置、所述固定板位于等离子枪(11)后方；
在所述固定板的两端、等离子枪(11)的两侧对称设置有一对竖直导轨，在两个竖直导轨上分别设置有滑块b(14)和滑块a(8)，所述滑块b(14)上安装着转角电机b(13)、转角电机b(13)上安装着送丝枪b(12)；所述滑块a(8)上安装着转角电机a(9)、转角电机a(9)上安装着送丝枪a(10)；
所述送丝机b(1)为送丝枪b(12)送丝，所述送丝机a(3)为送丝枪a(10)送丝；所述等离子枪(11)连着等离子电源；
所述旋转电机(7)上还设置有用于控制旋转电机旋转角度的限位装置，所述限位装置通过导线和计算机连接，所述旋转电机(7)的侧壁上还标记有初始标定位置，旋转电机所在位置就是初始标定位置的对应位置；
所述伺服电机(2)、送丝机b(1)和送丝机a(3)均设置在三坐标数控机床上。
2.根据权利要求1所述的快速等离子双送丝随动控制系统，其特征在于，所述限位装置包括正限位传感器(4)、零位传感器(5)和负限位传感器(6)，所述正限位传感器(4、)零位传感器(5)和负限位传感器(6)均设置在旋转电机(7)顶部固定盖边缘位置，所述正限位传感器(4)、负限位传感器(6)和零位传感器(5)通过导线和计算机连接。
3.根据权利要求2所述的快速等离子双送丝随动控制系统，其特征在于，所述正限位传感器(4)、零位传感器(5)和负限位传感器(6)均通过设置在旋转电机(7)顶部固定盖上的支架固定。
4.根据权利要求2所述的快速等离子双送丝随动控制系统，其特征在于，所述负限位传感器(6)和正限位传感器(4)用于限定旋转电机(7)的运动最大范围，所述零位传感器(5)作为标定位置。
5.快速等离子双送丝随动控制系统的控制方...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨东辉，彭博，杨炳森，贺智锋，
申请(专利权)人：西安铂力特增材技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：陕西;61
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