【技术实现步骤摘要】
一种高抑制比光陷阱
本专利技术属于杂散光抑制技术,具体涉及一种高抑制比光陷阱。
技术介绍
光陷阱顾名思义是用于困住/俘获光线的器件。在杂散光测试中,光陷阱主要用于收集光线,并将其衰减,达到抑制背景辐射、提高系统测试精度的目的。光陷阱抑制的对象有方向随机性的入射光,如测试系统或待测设备的表面散射光;也有平行光或准平行光,主要是入射信号光的残余光束。传统的光陷阱有牛角型或锥形的结构,其内壁通常喷涂黑漆或粘贴黑色消光布、黑色消光薄膜,内壁经消光处理后,表面近似服从朗伯体散射,光谱吸收效率可介于95%~98%之间,入射光进入光陷阱后经过一次(一次散射水平在5%~2%之间)或多次散射后再返回入射光传输空间。传统的光陷阱不管是对随机入射光还是平行光都适用,缺点是没有针对性,光线散射路径不可控,难以满足高精度的杂散光测试需求。而且随着内壁消光材料吸收率的提高,成本大幅增加,这些材料价格大概在每平方分米几百到几千元人民币的范围。
技术实现思路
为了解决现有光陷阱对随机入射光和平行光无针对性,入射光难以满足高精度的 ...
【技术保护点】
1.一种高抑制比光陷阱,其特征在于:包括底面(1)、第一反射面(2)、第二反射面(3)以及平行设置的两个等腰直角三角形侧面(4);/n所述底面(1)、第一反射面(2)、第二反射面(3)、等腰直角三角形侧面(4)的内壁材均为黑色玻璃;/n所述第一反射面(2)、第二反射面(3)形状相同,底面(1)、第一反射面(2)、第二反射面(3)依次尾首连接,形成三角柱框架;/n所述两个等腰直角三角形侧面(4)分别位于三角柱框架的两侧开口处,形成一个密封腔室;/n所述底面(1)上设有通光孔(11),该通光孔(11)靠近第一反射面(2);/n经通光孔(11)进入的平行光或准平行光依次经第一反射 ...
【技术特征摘要】
1.一种高抑制比光陷阱,其特征在于:包括底面(1)、第一反射面(2)、第二反射面(3)以及平行设置的两个等腰直角三角形侧面(4);
所述底面(1)、第一反射面(2)、第二反射面(3)、等腰直角三角形侧面(4)的内壁材均为黑色玻璃;
所述第一反射面(2)、第二反射面(3)形状相同,底面(1)、第一反射面(2)、第二反射面(3)依次尾首连接,形成三角柱框架;
所述两个等腰直角三角形侧面(4)分别位于三角柱框架的两侧开口处,形成一个密封腔室;
所述底面(1)上设有通光孔(11),该通光孔...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈钦芳,薛要克,刘阳,林上民,刘美莹,马占鹏,
申请(专利权)人:中国科学院西安光学精密机械研究所,
类型:发明
国别省市:陕西;61
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。