【技术实现步骤摘要】
一种屏下摄像头结构
本专利技术涉及新的全面屏设计领域，尤其涉及一种增加面板摄像头部分区域透光率的全面屏结构。
技术介绍
随着显示技术的日益发展，各种新型技术不断涌现，透明显示技术因其透明的显示面板这一特性及其独特的应用，越来越受到人们的关注。透明显示技术的核心是透明显示面板，透明显示板是一种能够显示图像的透明面板，它与双面显示板不同，双面显示板是一种能够在显示面板两侧同时显示图像的显示器件。而透明显示板在关闭时，面板就仿佛一块透明玻璃，当其工作时，观看者不仅能够观看到在面板上显示的内容，同时还能透过面板观看到面板后的物体。智能手机发展到现在，能实现的功能已经越来越多，人们已经逐渐习惯用手机来进行社交、玩游戏和看视频等日常生活中必不可少的活动，与此同时人们也越来越喜欢可视角度大，大屏幕的手机，但前置摄像头占据了很多屏幕位置，为了达到更高的屏占比，提高显示效果，全面屏的概念应运而生。全面屏的“全面”，可以说是我们的美好愿望，但由于种种技术原因，全面屏无法达到真全面，虽然视觉趋向性让自动弹出、推滑盖的机械式设计大行...
【技术保护点】
1.一种屏下摄像头结构，包括显示屏，所述显示屏包括OLED面板，所述面板下设置有镜头模组，所述OLED面板通过如下步骤制得，/n在基板上成膜缓冲层，在薄膜晶体管区的缓冲层上图案化有源层，在有源层之上图案化栅极绝缘层，并整体成膜第一导电膜层及栅极层，在电容区蚀刻所有栅极金属，在薄膜晶体管区保留栅极金属及第一导电膜层，在其他区域根据图案化需要蚀刻栅极金属及导电膜层；图案化第二绝缘层，使得暴露薄膜晶体管区的有源层，并遮覆电容区的第一导电膜层；先后成膜第二导电膜层及电极层，在电容区蚀刻所有电极金属，在薄膜晶体管区保留源漏极和第二导电膜层，所述源漏极通过第二导电膜层与有源层接触，还包...
【技术特征摘要】
1.一种屏下摄像头结构，包括显示屏，所述显示屏包括OLED面板，所述面板下设置有镜头模组，所述OLED面板通过如下步骤制得，
在基板上成膜缓冲层，在薄膜晶体管区的缓冲层上图案化有源层，在有源层之上图案化栅极绝缘层，并整体成膜第一导电膜层及栅极层，在电容区蚀刻所有栅极金属，在薄膜晶体管区保留栅极金属及第一导电膜层，在其他区域根据图案化需要蚀刻栅极金属及导电膜层；图案化第二绝缘层，使得暴露薄膜晶体管区的有源层，并遮覆电容区的第一导电膜层；先后成膜第二导电膜层及电极层，在电容区蚀刻所有电极金属，在薄膜晶体管区保留源漏极和第二导电膜层，所述源漏极通过第二导电膜层与有源层接触，还包括制作步骤，制作钝化层并蚀刻暴露出漏极金属，再设置平坦层及画素定义层，蚀刻电容区上的平坦层和画素定义层。
2.根据权利要求1所述的屏下摄像头结构，其特征在于，在电容区蚀刻所有栅极金属，在薄膜晶体管区保留栅极金属及第一导电膜层，在其他区域根据图案化需要蚀刻栅极金...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈宇怀，黄志杰，苏智昱，
申请(专利权)人：福建华佳彩有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35
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