降低电子级硫酸易氧化物的硫酸生产装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种降低电子级硫酸易氧化物的硫酸生产装置及方法，该装置包括三氧化硫原料储罐，其与汽化器的进料口连接，臭氧发生器出口经管道连接至浓硫酸槽中，管道出口位于浓硫酸液面以下，浓硫酸槽的气体出口通过管道连接至汽化器进料口；汽化器顶部出口连接至除雾器，除雾器的顶部出口连接至吸收塔，吸收塔下部出料口连接至缓冲槽，缓冲槽经管道及循环酸泵连接至吸收塔顶部；循环酸泵与吸收塔之间的管道上设有成品酸采出管线。本发明专利技术采用臭氧与三氧化硫中的二氧化硫反应，从原料中去除二氧化硫，不引入新的杂质，不仅解决产品还原性物质问题，同时还能解决因二氧化硫穿透内衬材质造成损坏设备、管道的问题。

Sulphuric acid production equipment and method for reducing electronic grade sulphuric acid oxide

【技术实现步骤摘要】
降低电子级硫酸易氧化物的硫酸生产装置及方法
本专利技术属于电子化学品领域，具体涉及一种降低电子级硫酸中易氧化物（SO2）含量的装置及方法。
技术介绍
电子级硫酸又称超纯硫酸，属于超净高纯试剂。是工业上用量最大的湿电子化学品，主要用于硅晶片、印刷电路板的蚀刻和清洗，可有效除去晶片上杂质颗粒、无机残留物和碳沉积物。电子级硫酸用于硅晶片的清洗已有40多年的历史。在半导体工业中属于不可缺少的关键基础化学试剂。其纯度直接影响着集成电路成品率。目前，中国已经成为世界IT工业和液晶显示器需求增长最快的国家，未来几年将要上马数条高世代线，极大拉动了对湿电子化学品的需求，预估产业每年以15%的速度增长。从全球平板显示产业格局来看，目前最主流的大屏显示板是TFT-LCD显示器，中国大陆平板显示产业正在快速崛起。从液晶平板显示产业规模分析，2013年国内液晶面板产值已达845亿美金，2014年已达852亿美金，已成为电子产业中重要的领域。如今更是进入了纳米时代，半导体14nm制程已经投入量产。在如此精确的半导体制程中，对用于清洗、蚀刻的硫酸纯度要求也非常高，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.降低电子级硫酸易氧化物的硫酸生产装置，其特征在于：包括三氧化硫原料储罐（3），其与蒸发器（5）的进料口连接，臭氧发生器（1）出口经管道连接至浓硫酸槽（2）中，管道出口位于浓硫酸液面以下，浓硫酸槽（2）的气体出口通过管道连接至蒸发器（5）进料口；蒸发器顶部出口连接至除雾器（6），除雾器的顶部出口连接至吸收塔（7），吸收塔下部出料口连接至缓冲槽（8），缓冲槽经管道及循环酸泵（9）连接至吸收塔顶部；循环酸泵与吸收塔之间的管道上设有成品酸采出管线。/n

【技术特征摘要】
1.降低电子级硫酸易氧化物的硫酸生产装置，其特征在于：包括三氧化硫原料储罐（3），其与蒸发器（5）的进料口连接，臭氧发生器（1）出口经管道连接至浓硫酸槽（2）中，管道出口位于浓硫酸液面以下，浓硫酸槽（2）的气体出口通过管道连接至蒸发器（5）进料口；蒸发器顶部出口连接至除雾器（6），除雾器的顶部出口连接至吸收塔（7），吸收塔下部出料口连接至缓冲槽（8），缓冲槽经管道及循环酸泵（9）连接至吸收塔顶部；循环酸泵与吸收塔之间的管道上设有成品酸采出管线。


2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：所述三氧化硫原料储罐（3）通过原料泵及管道连接至蒸发器（5）。


3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：所述蒸发器及缓冲槽内均设有蛇形盘管换热器，蒸发器为304或316L不锈钢衬PTFE或PFA中的一种。


4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：除雾器（6）底部设有气体分布器，气体分布器的上方还设有填料层。


5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：吸收塔（7）连接有吸收用水管道。...

【专利技术属性】
技术研发人员：李少平，杨着，郭岚峰，杜林，汪鹏，廖义，周建国，
申请(专利权)人：湖北兴福电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42