【技术实现步骤摘要】
一种高比表面积、高导电性碳纳米管材料及其制备方法
本专利技术属于碳纳米材料制备
,具体涉及一种高比表面积、高导电性碳纳米管材料及其制备方法。
技术介绍
碳纳米管形状为一维的圆柱形中空结构,也可以理解为是石墨片层结构卷曲而成。其直径为几个至数百纳米左右,长度一般在微米级,为直径数倍,由此碳纳米管具有较大的长径比。从制备方面说,碳纳米管的制备方法包括电弧放电、激光蒸发、气相化学沉积等方法。目前碳纳米管厂家主要采用气相化学沉积(CVD法)法,即先制备含铁、钴或镍等过渡金属元素为活性物质的催化剂,然后将催化剂放入管式炉中,在高温下通入含碳原子气体,即可在催化剂表面生长出碳纳米管粉体。从性能来看,碳纳米管具有良好的导热、导电及力学强度,其可用于复合材料、添加剂等,增强材料的强度、导电性等。高比表面积及高导电性碳纳米管在使用过程中具有明显的优势,例如用于锂电池,可以提高电池的倍率、循环等性能,也可用于复合导电材料、储氢材料等领域。通过CVD法制备高比表面积及高导电性碳纳米管目前主要有两种途径,一是通过调控催化剂的制 ...
【技术保护点】
1.一种高比表面积、高导电性碳纳米管材料,其特征在于,该高比表面积、高导电性碳纳米管是以碳纳米管为基底生长的碳纳米管材料,其管径为5nm~200nm、比表面积为100m
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种高比表面积、高导电性碳纳米管材料,其特征在于,该高比表面积、高导电性碳纳米管是以碳纳米管为基底生长的碳纳米管材料,其管径为5nm~200nm、比表面积为100m2/g~500m2/g、含碳量为98%以上;外观呈黑色粉体。
2.如权利要求1所述的一种高比表面积、高导电性碳纳米管材料的制备方法,其特征在于,该制备方法按以下步骤进行:
一、将含碳纳米管的分散液涂布在基体上,涂布厚度为0.05mm~0.5mm,然后在温度为100~200℃烘干;
二、将步骤一后的基体进行真空溅射镀膜,溅射镀膜参数为:电流为0.2A~20A,真空度为10-4Pa~10Pa,起辉后真空溅射镀膜10s~300s;
三、将步骤二后的基体放入管式炉中,通入惰性气体,在温度为400~1000℃的条件下,保温5min~60min,然后在温度为550~1000℃的条件下,通入碳原子气体与惰性气体的混合气体,并在此条件下保温20min~120min,得到高比表面积、高导电性碳纳米管材料。
3.根据权利要求2所述的一种高比表面积、高导电性碳纳米管材料的制备方法,其特征在于,步骤一中所述的分散液中碳纳米管的质量分数为5%~20%。
技术研发人员:何斌,时浩,刘强,李朋,张超,
申请(专利权)人:哈尔滨金纳科技有限公司,
类型:发明
国别省市:黑龙;23
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