一种真空炉旋转提拉密封结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种真空炉旋转提拉密封结构，其特征在于：包括具有安装腔(2)的密封套(1)，由上至下依次安装在安装腔(2)内的压紧装置、第一TC唇型密封圈(8)以及第二TC唇型密封圈(9)；所述第二TC唇型密封圈(9)和第一TC唇型密封圈(8)的安装方向相反；所述密封套(1)底部开设有与安装腔(2)连通的通孔。本实用新型专利技术的第一TC唇型密封圈和第二TC唇型密封圈的安装方向相反，因此本实用新型专利技术能实现真空炉的正负压同时密封。本实用新型专利技术设置有第一压环和第二压环，其能够减少密封端盖与TC唇型密封圈的摩擦，提高TC唇型密封圈的使用寿命。

A rotary lifting sealing structure for vacuum furnace

【技术实现步骤摘要】
一种真空炉旋转提拉密封结构
本技术涉及人工晶体生长领域，具体提供一种真空炉旋转提拉密封结构。
技术介绍
单晶炉是制备硅、锗、砷化镓、YAG、LSO等人工晶体的专用设备，是集机械、电气、计算机、空气动力、流体动力、热动力学等学科于一体的综合系统。由于人工晶体生长所用的发热体不管是石墨、钼、钨或铱等材质，其在高温且有氧氛为的情况下都及易被氧化，且生成的氧化物及易污染用于晶体生长的高纯原料，从而影响晶体的使用性能，甚至不能完成晶体生长。现在人工晶体生长大多数情况下都是在高真空加保护气氛的环境下生长，且晶体的生长过程离不开旋转及提拉运动，为了确保晶体生长环境的真空度，对运动部位的密封一直是真空设备密封的一个难题。传统的密封方式一般采用真空波纹管进行密封，但是波纹管结构及加工工艺复杂、成本高、且占用空间大，不利于缩小设备的体积及对设备的维护。因此，提供一种专门对上提拉法或下降法的单晶生长设备的旋转及提拉运动部位进行密封的密封结构，其不仅可以使设备达到高真空的密封效果，而且能简化结构解决传统密封的一些弊端。技术内容本技术的目本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空炉旋转提拉密封结构，其特征在于：包括具有安装腔(2)的密封套(1)，由上至下依次安装在安装腔(2)内的压紧装置、第一TC唇型密封圈(8)以及第二TC唇型密封圈(9)；所述第二TC唇型密封圈(9)和第一TC唇型密封圈(8)的安装方向相反；所述密封套(1)底部开设有与安装腔(2)连通的通孔。/n

【技术特征摘要】
1.一种真空炉旋转提拉密封结构，其特征在于：包括具有安装腔(2)的密封套(1)，由上至下依次安装在安装腔(2)内的压紧装置、第一TC唇型密封圈(8)以及第二TC唇型密封圈(9)；所述第二TC唇型密封圈(9)和第一TC唇型密封圈(8)的安装方向相反；所述密封套(1)底部开设有与安装腔(2)连通的通孔。


2.根据权利要求1所述的一种真空炉旋转提拉密封结构，其特征在于：所述压紧装置包括由上至下依次安装在安装腔(2)内的密封端盖(5)、第二压环(7)、第一压环(6)；所述密封端盖(5)、第二压环(7)以及第一压环(6)上均设置有通孔，且密封端盖(5)与密封套(1)螺纹连接。
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【专利技术属性】
技术研发人员：官伟明，王宇，梁振兴，
申请(专利权)人：眉山博雅新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：四川;51