一种实验室研磨台排水装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种实验室研磨台排水装置。所述实验室研磨台排水装置包括：研磨台和室内排水沟；引流机构，所述引流机构设置于所述研磨台上；净水机构，所述净水机构设置于所述研磨台的下方，所述净水机构包括沉淀槽、净水槽、沉淀网槽、两个连接块、两个压力传感器、沉淀槽溢流口和排水管道，所述沉淀槽位于所述研磨台的下方，所述净水槽设置于所述沉淀槽的左侧，所述沉淀网槽设置于所述沉淀槽的内部。本实用新型专利技术提供的实验室研磨台排水装置，能够防止残渣在管路中积留，避免出现管路排水不畅的情况，且减少纯水使用量，纯水使用量每月同比可减少45％，并且减少处理站废水处理量，减少对排水管路的不利因素。

A drainage device of laboratory grinding table

【技术实现步骤摘要】
一种实验室研磨台排水装置
本技术涉及机电领域，尤其涉及一种实验室研磨台排水装置。
技术介绍
截止目前，晶圆实验检测是半导体产业生产过程中不可或缺的一部分，用于检测发现异常产品生产过程中某个环节出现问题，以便改善制程方法，提高良率，其异常产品晶圆研磨使用过程中，因刀片切磨产生颗粒状粉尘，采用纯水喷淋防止粉尘扩散空气，研磨台底部接排水管设计，将颗粒物残渣利用水流输送至处理站。但产生的晶圆残渣，会堵塞排水管，同时对纯水的使用量需求较大，据有效统计，现使用研磨台排水装置使用一个月，易造成排水管流通不畅，需增加纯水使用量或清理管道残渣，残渣清理不但造成纯水资源的浪费和人力资源的浪费，同时对输送管路的质量亦会产生不利因素，不符合环境政策中节约能源、持续减废。因此，有必要提供一种实验室研磨台排水装置解决上述技术问题。
技术实现思路
本技术提供一种实验室研磨台排水装置，解决了现有的实验室研磨台排水装置，残渣在管路中积留，造成管路排水不畅的问题。为解决上述技术问题，本技术提供的实验室研磨台排水装置包括：研磨台和室内排水沟；引流机构，所述引流机构设置于所述研磨台上；净水机构，所述净水机构设置于所述研磨台的下方，所述净水机构包括沉淀槽、净水槽、沉淀网槽、两个连接块、两个压力传感器、沉淀槽溢流口和排水管道，所述沉淀槽位于所述研磨台的下方，所述净水槽设置于所述沉淀槽的左侧，所述沉淀网槽设置于所述沉淀槽的内部，两个所述连接块相对的一侧分别固定于所述沉淀槽的两侧的顶部；进水管，所述进水管设置于所述研磨台的正上方。优选的，两个所述压力传感器分别设置于两个所述连接块的顶部，两个所述压力传感器的顶部分别与所述沉淀网槽的底部的两侧接触。优选的，所述沉淀槽溢流口开设于所述沉淀槽的一侧的顶部，所述排水管道的一端连通于所述净水槽的一侧，所述排水管道的另一端位于所述室内排水沟的正上方。优选的，所述引流机构包括Y型引流口、引流管和电动排水隔断阀，所述Y型引流口设置于所述研磨台上，所述引流管的一端连通于所述Y型引流口的底部，所述引流管的另一端位于所述沉淀槽的正上方，所述电动排水隔断阀设置于所述引流管上。优选的，所述连接块的顶部的一侧设置有报警机构，所述报警机构包括触杆、按压式开关和警报器，所述触杆的顶部固定于所述沉淀网槽的底部的一侧，所述按压式开关的底部固定于所述连接块的顶部的一侧，所述警报器的顶部固定于所述连接块的底部。优选的，所述连接块的顶部的一侧设置有支撑机构，所述支撑机构包括支撑框、支撑柱和弹簧，所述支撑框的底部固定于所述连接块的顶部的一侧，所述支撑柱的顶部固定于所述沉淀网槽的底部的一侧，所述弹簧设置于所述支撑框的内部，所述弹簧的顶部与所述支撑柱的底部接触。与相关技术相比较，本技术提供的实验室研磨台排水装置具有如下有益效果：本技术提供一种实验室研磨台排水装置，切割研磨的残渣随着水流经过Y型引流口，经过电动排水隔断阀(常开状态)，流至沉淀网槽，再沉淀网槽内一次沉底，残渣和水分离，水经过网孔进入沉淀槽，二次沉淀，当沉淀网槽积累残渣量超过二十五千克，压力传感器自动报警，同时电动排水隔断阀自动关闭，清理沉淀网槽，清理结束后再将沉淀网槽放置沉淀槽内，电动排水隔断阀自动开启，水通过沉淀槽上的沉淀槽溢流口流经净水槽，净水槽的澄清水利用水的重力流至室内排水沟，最后流至处理站，能够防止残渣在管路中积留，避免出现管路排水不畅的情况，且减少纯水使用量，纯水使用量每月同比可减少45％，并且减少处理站废水处理量，减少对排水管路的不利因素。附图说明图1为本技术提供的实验室研磨台排水装置的第一实施例的结构示意图；图2为图1所示的A部放大示意图；图3为本技术提供的实验室研磨台排水装置的第二实施例的结构示意图；图4为图3所示的B部放大示意图。图中标号：1、研磨台，2、进水管，3、引流机构，31、Y型引流口，32、引流管，33、电动排水隔断阀，4、净水机构，41、沉淀槽，42、净水槽，43、沉淀网槽，44、连接块，45、压力传感器，46、沉淀槽溢流口，47、排水管，5、室内排水沟，6、报警机构，61、触杆，62、按压式开关，63、警报器，7、支撑机构，71、支撑框，72、支撑柱，73、弹簧。具体实施方式下面结合附图和实施方式对本技术作进一步说明。请结合参阅图1、图2、图3和图4，其中，图1为本技术提供的实验室研磨台排水装置的第一实施例的结构示意图；图2为图1所示的A部放大示意图；图3为本技术提供的实验室研磨台排水装置的第二实施例的结构示意图；图4为图3所示的B部放大示意图。本技术提出一种实验室研磨台排水装置。第一实施例请参照图1-2，在本技术的第一实施例中，实验室研磨台排水装置包括：研磨台1和室内排水沟5；引流机构3，所述引流机构3设置于所述研磨台1上；净水机构4，所述净水机构4设置于所述研磨台1的下方，所述净水机构4包括沉淀槽41、净水槽42、沉淀网槽43、两个连接块44、两个压力传感器45、沉淀槽溢流口46和排水管道47，所述沉淀槽41位于所述研磨台1的下方，所述净水槽42设置于所述沉淀槽41的左侧，所述沉淀网槽43设置于所述沉淀槽41的内部，沉淀网槽43上开设有网孔，两个所述连接块44相对的一侧分别固定于所述沉淀槽41的两侧的顶部；进水管2，所述进水管2设置于所述研磨台1的正上方。两个所述压力传感器45分别设置于两个所述连接块44的顶部，两个所述压力传感器45的顶部分别与所述沉淀网槽43的底部的两侧接触，压力传感器45的型号为PT124-35Mpa。所述沉淀槽溢流口46开设于所述沉淀槽41的一侧的顶部，所述排水管道47的一端连通于所述净水槽42的一侧，所述排水管道47的另一端位于所述室内排水沟5的正上方。所述引流机构3包括Y型引流口31、引流管32和电动排水隔断阀33，所述Y型引流口31设置于所述研磨台1上，所述引流管32的一端连通于所述Y型引流口31的底部，所述引流管32的另一端位于所述沉淀槽41的正上方，所述电动排水隔断阀33设置于所述引流管32上。本技术提供的实验室研磨台排水装置的工作原理如下：异常产品检测时，首先打开进水管2上的出水阀，切割研磨的残渣随着水流经过Y型引流口31，经过电动排水隔断阀33(常开状态)，流至沉淀网槽43，再沉淀网槽43内一次沉底，残渣和水分离，水经过网孔进入沉淀槽41，二次沉淀，当沉淀网槽43积累残渣量超过二十五千克，压力传感器45自动报警，同时电动排水隔断阀33自动关闭，清理沉淀网槽43，清理结束后再将沉淀网槽43放置沉淀槽41内，电动排水隔断阀33自动开启，水通过沉淀槽41上的沉淀槽溢流口46流经净水槽42，净水槽42的澄清水利用水的重力流至室内排水沟5，最后流至处理站。与相关技术相比较，本技术提供的实验室研磨台排水装置有如下有益效果：切割研磨的残渣随着水流经过Y型引本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种实验室研磨台排水装置，其特征在于，包括：/n研磨台和室内排水沟；/n引流机构，所述引流机构设置于所述研磨台上；/n净水机构，所述净水机构设置于所述研磨台的下方，所述净水机构包括沉淀槽、净水槽、沉淀网槽、两个连接块、两个压力传感器、沉淀槽溢流口和排水管道，所述沉淀槽位于所述研磨台的下方，所述净水槽设置于所述沉淀槽的左侧，所述沉淀网槽设置于所述沉淀槽的内部，两个所述连接块相对的一侧分别固定于所述沉淀槽的两侧的顶部；/n进水管，所述进水管设置于所述研磨台的正上方。/n

【技术特征摘要】
1.一种实验室研磨台排水装置，其特征在于，包括：
研磨台和室内排水沟；
引流机构，所述引流机构设置于所述研磨台上；
净水机构，所述净水机构设置于所述研磨台的下方，所述净水机构包括沉淀槽、净水槽、沉淀网槽、两个连接块、两个压力传感器、沉淀槽溢流口和排水管道，所述沉淀槽位于所述研磨台的下方，所述净水槽设置于所述沉淀槽的左侧，所述沉淀网槽设置于所述沉淀槽的内部，两个所述连接块相对的一侧分别固定于所述沉淀槽的两侧的顶部；
进水管，所述进水管设置于所述研磨台的正上方。


2.根据权利要求1所述的实验室研磨台排水装置，其特征在于，两个所述压力传感器分别设置于两个所述连接块的顶部，两个所述压力传感器的顶部分别与所述沉淀网槽的底部的两侧接触。


3.根据权利要求1所述的实验室研磨台排水装置，其特征在于，所述沉淀槽溢流口开设于所述沉淀槽的一侧的顶部，所述排水管道的一端连通于所述净水槽的一侧，所述排水管道的另一端位于所述室内排水沟的正上方。
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【专利技术属性】
技术研发人员：汤方宝，
申请(专利权)人：合肥新汇成微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34