低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法技术

技术编号:23619682 阅读:68 留言:0更新日期:2020-03-31 18:58
本发明专利技术提出低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法。鞋材表面处理后通过进料输送机构将鞋材输送至中转机构,中转机构将鞋材输送至密闭的等离子腔室内,等离子腔室内设有等离子发生器,对等离子腔室抽真空,向等离子发生器的电极板间供入含氧气的工作气体,打开等离子发生器后通过等离子电场电离氧气形成等离子体,等离子体朝向鞋材处喷射,开启电源为等离子体施加使等离子体发散的偏置电场以使得等离子体均匀作用于鞋材表面,中转机构携带被处理后的鞋材移动至中转位置,待第二批鞋材被输送至等离子腔室内时,中转机构携带被处理后的鞋材移动至出料工位。优点:操作简单,无污染,工作效率高,成本低,处理效果好、产品质量高。

【技术实现步骤摘要】
低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法
本专利技术涉及低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法。
技术介绍
目前,鞋子的质量受到越来越多的关注,制鞋过程中,鞋底与鞋面之间的粘接质量是鞋子质量的关键,粘接不好容易出现开胶等问题。而现有的大多数鞋材,尤其是鞋底材料,均为高分子聚合材料,如EVA、TPR、TPU、ETPU,这些材料是没有极性的,其粘接能力差,因此需要在与鞋面粘接之前对鞋底进行预处理。现有对于鞋底材料的处理工艺多采用人工,通过在鞋材表面涂刷UV处理剂,加热烘烤,然后UV照射,在紫外光照射下,UV处理剂中的物质发生裂变,释放自由基,引发自由基与鞋材表面发生接枝共聚反应,增强鞋材表面极性,从而提高其与鞋面之间的粘合力,避免鞋面与鞋底配合处开胶。传统处理方式一般需要8-10人配合操作、效率低下、费时费力、成本高、人力劳动量大、污染严重,药水含有挥发性有机物,危害职工健康;工艺自动化水平低,效率低下;运行成本高,药水消耗量大,且由于会排放VOCs,不仅危害工人身体健康还会污染环境,导致企业成本增加且面临整治风险。
技术实现思路
本专利技术提出一种低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法,以解决现有UV处理方式费时费力、成本高、效率低、污染环境的技术问题。本专利技术的技术方案是这样实现的:低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法包括以下步骤:S10、对鞋材表面进行清理;S20、通过进料输送机构将鞋材输送至中转机构,中转机构将鞋材输送至密闭的等离子腔室内,等离子腔室内设有等离子发生器,对等离子腔室抽真空,向等离子发生器的电极板间供入含氧气的工作气体,打开等离子发生器后通过等离子电场电离氧气形成等离子体,等离子体通过喷枪朝向鞋材处喷射,开启电源为等离子体施加使等离子体发散的偏置电场以使得等离子体均匀作用于鞋材表面,中转机构携带被处理后的鞋材移动至中转位置,待第二批鞋材被输送至等离子腔室内时,中转机构携带被处理后的鞋材移动至出料工位。进一步地,调整等离子发生器的功率至500~1200W,调整电压至8~13V,对鞋材的处理时间为20~120s。进一步地,工作气体包括氧气和氩气。进一步地,在S20中,进料输送机构的进料工位和出料工位共用一个工位以方便单人操作。进一步地,对等离子腔室抽真空时,将腔体压力抽至20~35Pa。进一步地,工作气体中,氧气的含量不低于20%。进一步地,在等离子腔室内设置两层金属网板,上层金属网板上的鞋材的待处理表面朝上设置,下层金属网板上的鞋材的待处理表面朝下设置,等离子发生器的两个电极板分别设置在等离子腔室的上部和下部。有益效果:由于等离子发生器的电极板分别设置在上、下方,将两层鞋材的待处理表面分别朝向所靠近的一侧的电极板,从而起到更好的处理效果。进一步地,在S10中,对鞋材表面的清理包括打磨和水洗。进一步地,在S20之前,根据选择的不同的鞋材的材质选择不同的气体配方。进一步地,等离子腔室的底板由中转机构构成,等离子发生器的其中一个电极板位于中转机构上。采用了上述技术方案,本专利技术的有益效果为:(1)操作简单,相对于传统技术,省略了涂覆化学试剂、加热烘烤、UV照射等工序,只需将鞋材放在进料输送机构的进料工位上即可,设备自动处理完成后即可从出料工位送出,操作十分方便;(2)无污染,整个处理过程中无需涂覆有毒有污染的化学试剂,工作气体中也不含有毒有害的物质,处理过程中也不会产生新的有毒有害物质,对环境十分友好,操作人员也不会吸入有毒有害物质,无需轮班倒以避免吸入过多有害气体,大大改善工作环境;(3)工作效率高,相对于传统人工一个个涂刷化学试剂以及后续的多个工序的方法,一方面其一次可以处理一批鞋材,另一方面,其工序少且对每个鞋材的处理速度变快,整体工作效率显著提高;(4)成本低,传统方式需要8~10人配合进行操作,人工成本较高且处理速度慢,本方法仅需1~2人操作即可完成且处理速度更快,因此可大大降低生产成本;(5)处理效果好、产品质量高,采用等离子技术,等离子体中的粒子能量在10~20eV,鞋材聚合物中大部分的键能在0~10eV,能够破坏聚合物表面的化学键,并形成新的活性基团,而采用氧气作为工作气体,可形成羟基,提高比表面积,将鞋材的极性从无极改为有极,提高鞋材表面粘力和亲水性能;更重要的是,通过在等离子腔室内设置偏置电场,可提高冲击速度和离子活性,并改变等离子体走向,使得等离子体分布更加均匀,从而起到对鞋材表面整体处理的目的,不会出现局部处理不到位而导致开胶的问题。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术的低温等离子技术处理鞋材表面的工艺流程框图;图2为等离子处理设备的立体图;图3为等离子处理设备的主视图;图4为等离子处理设备的纵剖主视图;图5为图2中的内部核心部件的立体图;图6为图5的纵剖结构图;图7为中转机构的立体图;图8为等离子腔室的上部主体部分的立体图;图9为等离子处理设备的整机工作流程框图;其中:1-机架,11-主机体,111-导向杆,12-副机体,2-上料输送机构,3-中转机构,4-等离子腔室,41-进气孔,42-排气孔,5-回流输送机构,201-链轮,202-链条,203-导向条,6-电极板,7-触摸显示屏。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。本专利技术的低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法的具体实施例:如图1所示,主要包括以下步骤:1)打磨;2)水洗;打磨与水洗为现有技术中对鞋材表面的预处理方式,有些鞋材也可不设置打磨工序,这两步的目的是清理鞋材表面的沾污、污垢等。本实施例中,之后步骤中的操作均在等离子处理设备中完成,下面先介绍等离子处理设备的具体结构,如图2所示,等离子处理设备包括机架1、上料输送机构2、中转机构3、等离子腔室4、托盘(图中未示出,为金属网板制作而成的框式结构)、回流输送机构5等,其中上料输送机构2和回流输送机构5结构相同,均包括电机、链轮201、链条202、导向条203等,托盘放在其上后,电机驱动链轮201旋转,链轮201带动链条202转动,链条202带动置于其上的托盘移动,导向条203对称设置,设置在托盘两边,用于为托盘导向,上料输送机构2和回流输送机构5分别设置在主机体11的两侧,主机体11高度是两个副机体12的两倍,主机体本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法,其特征在于,包括以下步骤:/nS10、对鞋材表面进行清理;/nS20、通过进料输送机构将鞋材输送至中转机构,中转机构将鞋材输送至密闭的等离子腔室内,等离子腔室内设有等离子发生器,对等离子腔室抽真空,向等离子发生器的电极板间供入含氧气的工作气体,打开等离子发生器后通过等离子电场电离氧气形成等离子体,等离子体通过喷枪朝向鞋材处喷射,开启电源为等离子体施加使等离子体发散的偏置电场以使得等离子体均匀作用于鞋材表面,中转机构携带被处理后的鞋材移动至中转位置,待第二批鞋材被输送至等离子腔室内时,中转机构携带被处理后的鞋材移动至出料工位。/n

【技术特征摘要】
1.低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法,其特征在于,包括以下步骤:
S10、对鞋材表面进行清理;
S20、通过进料输送机构将鞋材输送至中转机构,中转机构将鞋材输送至密闭的等离子腔室内,等离子腔室内设有等离子发生器,对等离子腔室抽真空,向等离子发生器的电极板间供入含氧气的工作气体,打开等离子发生器后通过等离子电场电离氧气形成等离子体,等离子体通过喷枪朝向鞋材处喷射,开启电源为等离子体施加使等离子体发散的偏置电场以使得等离子体均匀作用于鞋材表面,中转机构携带被处理后的鞋材移动至中转位置,待第二批鞋材被输送至等离子腔室内时,中转机构携带被处理后的鞋材移动至出料工位。


2.根据权利要求1所述的低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法,其特征在于,调整等离子发生器的功率至500~1200W,调整电压至8~13V,对鞋材的处理时间为20~120s。


3.根据权利要求1或2所述的低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法,其特征在于,工作气体包括氧气和氩气。


4.根据权利要求1或2所述的低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法,其特征在于,在S20中,进料输送机构的进料工位和出料工位共用一个工位...

【专利技术属性】
技术研发人员:王毅
申请(专利权)人:河南先途智能科技有限公司
类型:发明
国别省市:河南;41

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