元件基板、显示面板以及它们的制造方法技术

一种元件基板、显示面板以及它们的制造方法，得到可靠性优异的元件基板和显示面板。构成显示面板(10)的元件基板(30)具备：导电膜(31)；绝缘膜(32)，其设置在导电膜(31)的上层，覆盖其侧面和上表面；以及透明电极膜(37)，其设置在绝缘膜(32)的上层，在元件基板(30)中，以包含电极部(55)和覆盖部(56)的方式形成透明电极膜(37)，电极部(55)与导电膜(31)电连接而构成电极，覆盖部(56)与电极部(55)分开设置，与导电膜(31)和电极部(55)电绝缘，并且与导电膜(31)和覆盖导电膜(31)的绝缘膜(32)重叠。

Component substrate, display panel and their manufacturing methods

【技术实现步骤摘要】
元件基板、显示面板以及它们的制造方法
通过本说明书所公开的技术涉及元件基板、显示面板以及它们的制造方法。
技术介绍
已知在相对配置的一对基板之间密封有液晶等电光物质的构成的显示面板。其中一个基板被设为元件基板，至少具备作为开关元件发挥功能的TFT(ThinFilmTransistor，薄膜晶体管)、以及隔着绝缘膜配置在比TFT靠上层侧的像素电极。在元件基板的显示区域内，包括栅极配线和源极配线的信号线设置为格子状，在各信号线的交叉部配置TFT，在由各信号线包围的格子内配置像素电极，从而形成了作为显示单位的像素。TFT构成为具有：包括导电膜的栅极电极和源极电极，其连接到各信号线；包括导电膜的漏极电极，其连接到像素电极；以及包括半导体膜的沟道区域，其将源极电极与漏极电极之间连接。在这种显示面板中，当从外部供应到各信号线的电信号经由TFT在规定的定时传送到像素电极，电光物质被施加电场时，电光物质的光学特性会发生变化，而在显示区域内显示图像。一般地，在元件基板或与元件基板相对配置的相对基板中的至少任意一个中，在非像素区域即例如栅极配线和源极配线的配设区域、以及与TFT的配设区域重叠的区域中配设遮光层。在要求显示图像的高清晰化和高亮度化的形势下，为了缩小遮光层的配设区域，提高开口率，优选使各配线等变细来减小TFT等的配设区域。但是，如果简单地使配线等变细，则可能会使导电电阻增大。为此，例如在下述专利文献1中公开了一种半导体装置，其为了使各配线低电阻化，由包含导电电阻小的铝(Al)的层叠膜形成了配线。现有技术文献专利文献专利文献1：特开2005-317983号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题作为用于在不使开口率下降的情况下实现各配线等的低电阻化的其它方法，可以考虑使它们的厚度尺寸变大。例如，如果使形成TFT的栅极电极的栅极金属膜变厚，则能够使栅极电阻低电阻化。然而，如果栅极金属膜变厚，则由此形成的台阶会变大，覆盖栅极金属膜的侧面和上表面的栅极绝缘膜无法充分地追随台阶，有时会产生裂缝。形成在基板上的导电膜通常是其侧面和上表面被绝缘膜覆盖，因此，即使水分从元件基板的上方浸入，也会被绝缘膜阻挡，几乎不会到达导电膜。然而，如果在绝缘膜产生了裂缝，则水分很可能通过该裂缝而到达导电膜，给导电性能带来影响。例如，如果如上所述在栅极绝缘膜产生了裂缝，则有可能栅极电阻等发生变化而致使TFT不正常动作。此外，虽然为了不在绝缘膜产生裂缝，也可以考虑使绝缘膜的厚度尺寸变大，但如果使在基板上以几乎满面状形成的绝缘膜变厚，则有由绝缘膜产生的应力变大而产生基板翘曲等问题之虞。本技术是基于上述这样的情况而完成的，其目的在于，提供一种抑制水分到达导电膜，可靠性优异的元件基板。用于解决问题的方案(1)本说明书公开的技术的一个实施方式是一种元件基板，具备：导电膜；绝缘膜，其设置在上述导电膜的上层，覆盖上述导电膜的侧面和上表面；以及透明电极膜，其设置在上述绝缘膜的上层，上述透明电极膜包含：电极部，其与上述导电膜电连接而构成电极；以及覆盖部，其与上述电极部分开设置，与上述导电膜和上述电极部电绝缘，并且与上述导电膜和覆盖上述导电膜的上述绝缘膜重叠。(2)另外，本说明书所公开的技术的某实施方式是一种元件基板，在上述(1)的构成的基础上，上述导电膜的厚度尺寸大于上述绝缘膜的厚度尺寸。(3)另外，本说明书所公开的技术的某实施方式是一种元件基板，在上述(1)或(2)的构成的基础上，还具有：半导体膜，其设置在上述绝缘膜的上层；其它导电膜，其设置在上述半导体膜上；以及其它绝缘膜，其设置在上述其它导电膜的上层，上述透明电极膜设置在上述其它绝缘膜的上层，上述元件基板具备晶体管，上述晶体管包含：栅极电极，其包括上述导电膜；源极电极和漏极电极，其包括上述其它导电膜，在上述半导体膜上空开间隔地配置；以及沟道区域，其包括上述半导体膜，形成在上述源极电极与上述漏极电极的连接部分之间。(4)另外，本说明书所公开的技术的某实施方式是一种显示面板，具备上述(1)至上述(3)中的任意一项所述的元件基板。(5)另外，本说明书所公开的技术的某实施方式是一种元件基板的制造方法，包含：(A)导电膜形成工序，在基板上形成导电膜；(B)绝缘膜形成工序，在上述导电膜的上层，以覆盖上述导电膜的侧面和上表面的方式形成绝缘膜；以及(C)透明电极膜形成工序，在上述绝缘膜的上层，以包含覆盖部和电极部的方式形成透明电极膜，上述覆盖部与上述导电膜和覆盖上述导电膜的上述绝缘膜重叠，上述电极部与上述覆盖部分开设置。(6)另外，本说明书所公开的技术的某实施方式是元件基板的制造方法，在上述(5)的构成的基础上，通过使用一个图案来将上述透明电极膜图案化，从而同时形成上述覆盖部和上述电极部。(7)另外，本说明书所公开的技术的某实施方式是一种显示面板的制造方法，包含上述(5)或(6)所述的元件基板的制造工序。专利技术效果根据本技术，能得到驱动电力小且可靠性优异的显示面板。附图说明图1是示出实施方式的液晶面板的显示区域中的截面构成的概略的示意图。图2是示出形成于元件基板的显示区域内的像素的平面构成的概略的示意图。图3是示出TFT配设部分中的截面构成的概略的示意图。图4是示出作为比较的不具有覆盖部的元件基板的TFT配设部分中的截面构成的概略的示意图。附图标记说明10…液晶面板(显示面板的一个例子)，20…CF基板，30、130…元件基板，31…第1金属膜(导电膜的一个例子)，32…栅极绝缘膜(绝缘膜的一个例子)，33…半导体膜，34…第2金属膜(其它导电膜的一个例子)，35…保护绝缘膜(其它绝缘膜的一个例子)，36…有机绝缘膜(其它绝缘膜的另一个例子)，37…透明电极膜，38…取向膜，40…液晶层，51…栅极配线，52…源极配线，53…电容配线，55…像素电极(电极部)，56…覆盖部，60…TFT(晶体管的一个例子)，61…栅极电极，62…源极电极，63…漏极电极，64…沟道区域，BM…黑矩阵，CR…裂缝，GS…玻璃基板(基板)，PX…像素，WT…水分，t31…第1金属膜的厚度尺寸，t32…栅极绝缘膜的厚度尺寸。具体实施方式＜实施方式＞通过图1至图4来说明实施方式。在本实施方式中，例示了液晶面板(显示面板的一个例子)10。此外，在各附图的一部分中示出了X轴、Y轴以及Z轴，各轴方向在各图中描绘为同一个方向。以下，有时将关于各结构物、区域的沿着X轴的尺寸记载为X尺寸，将关于各结构物、区域的沿着Y轴的尺寸记载为Y尺寸。此外，将图1的上侧设为前侧或前面侧(将图1的下侧设为后侧或背面侧)，关于多个相同构件，有时对一个构件标注附图标记而省略其它构件的附图标记。另外，在各附图中，为了便于说明，有时简化各结构物的形状，将一部分的尺寸以与其它不同的尺度来示出。本实施方式的液晶面板10例如用于构成智能手机、平板电脑等便携终端的显示装置的显示本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种元件基板，其特征在于，具备：/n导电膜；/n绝缘膜，其设置在上述导电膜的上层，覆盖上述导电膜的侧面和上表面；以及/n透明电极膜，其设置在上述绝缘膜的上层，/n上述透明电极膜包含：/n电极部，其与上述导电膜电连接而构成电极；以及/n覆盖部，其与上述电极部分开设置，与上述导电膜和上述电极部电绝缘，并且与上述导电膜和覆盖上述导电膜的上述绝缘膜重叠。/n

【技术特征摘要】
20180831 US 62/725,2951.一种元件基板，其特征在于，具备：
导电膜；
绝缘膜，其设置在上述导电膜的上层，覆盖上述导电膜的侧面和上表面；以及
透明电极膜，其设置在上述绝缘膜的上层，
上述透明电极膜包含：
电极部，其与上述导电膜电连接而构成电极；以及
覆盖部，其与上述电极部分开设置，与上述导电膜和上述电极部电绝缘，并且与上述导电膜和覆盖上述导电膜的上述绝缘膜重叠。


2.根据权利要求1所述的元件基板，
上述导电膜的厚度尺寸大于上述绝缘膜的厚度尺寸。


3.根据权利要求1或权利要求2所述的元件基板，
还具有：
半导体膜，其设置在上述绝缘膜的上层；
其它导电膜，其设置在上述半导体膜上；以及
其它绝缘膜，其设置在上述其它导电膜的上层，
上述透明电极膜设置在上述其它绝缘膜的上层，
上述元件基板具备晶体管，上述晶体管包含：
栅极电极，其包括上述导电膜；
源极...

【专利技术属性】
技术研发人员：北川英树，原义仁，前田昌纪，川崎达也，平田义晴，今井元，大东彻，
申请(专利权)人：夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP