【技术实现步骤摘要】
一种含锆膜层的单银Low-E膜层的镀膜玻璃
本专利技术涉及镀膜玻璃表面膜层的防护
,特别涉及一种含锆膜层的镀膜玻璃。
技术介绍
镀膜玻璃由于其优良的性能已经在各领域得到了广泛的应用,然后,其在运输和储藏过程中,基片膜层容易划伤,摩损,并且其镀银层容易被破坏,如切片、磨边、夹层等处理后,物理化学性能容易发生改变,针对此问题目前国内大部分玻璃加工企业使用PE有机贴膜保护基片膜层,它可以起到一定的保护效果。然而,使用基片时,需要人工揭膜,而且保护膜不能重复利用,单位平米的玻璃就需要单平米的PE膜,成本较高,对环境造成严重的负面影响。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术中镀膜玻璃贴附保护膜存在的上述问题,提供一种一种含锆膜层的单银Low-E膜层的镀膜玻璃,使制备的镀膜玻璃免去贴保护膜的过程,自身具备防划伤、防磨损的防护特性。专利技术的目的是这样实现的,一种含锆膜层的单银Low-E膜层的镀膜玻璃,通过如下过程制得:在玻璃基片表面的镀功能膜层,在功能膜层表面的镀锆混合掺杂膜层,各膜层自 ...
【技术保护点】
1.一种含锆膜层的单银Low-E膜层的镀膜玻璃,通过如下过程制得/n在玻璃基片表面的镀功能膜层,在功能膜层表面的镀锆混合掺杂膜层,/n各膜层自玻璃基向外依次包括:/n镀制在玻璃基片上的基层电介质层,所述基层电介质层的材料为氧化钛,厚度约为12nm;/n在基层电介质层上镀第1阻挡层,膜层材料是镍铬合金,厚度约为4nm;/n在第1阻挡层上镀功能层,膜层材料为单质银,厚度为12nm;/n在功能层上镀第2阻挡层,膜层材料为镍铬合金,厚度为1 nm;/n在第2阻挡层上镀顶层电介质层,膜层材料为氧化硅,厚度为10nm;/n在顶层电介质层上表面镀锆混合掺杂膜层,使用的靶材为SiNx和Zr ...
【技术特征摘要】
1.一种含锆膜层的单银Low-E膜层的镀膜玻璃,通过如下过程制得
在玻璃基片表面的镀功能膜层,在功能膜层表面的镀锆混合掺杂膜层,
各膜层自玻璃基向外依次包括:
镀制在玻璃基片上的基层电介质层,所述基层电介质层的材料为氧化钛,厚度约为12nm;
在基层电介质层上镀第1阻挡层,膜层材料是镍铬合金,厚度约为4nm;
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