用于对预组装和后组装的绝缘玻璃单元中的涂层进行激光烧蚀/划线的技术和/或相关方法技术

技术编号:23473896 阅读:44 留言:0更新日期:2020-03-06 14:50
本发明专利技术的某些示例性实施方案涉及用于对预层压或后层压组件、预组装或后组装绝缘玻璃单元和/或其他产品中的玻璃或其他基底上的涂层(例如,低辐射率、镜或其他涂层)的周边边缘进行激光烧蚀/划线,以便减缓或防止涂层的腐蚀的技术。例如,1064nm或其他波长的激光可用于将线刻划到低辐射率的金属和/或类金属层中,或设置在已经层压或已经组装的绝缘玻璃单元或其他产品中的其他涂层中,例如围绕其周边。划线降低了从涂层的中心到环境的电子移动性,并且从而减缓并且有时甚至防止电化学腐蚀的发生。本文还设想了与其相关的相关产品、方法和套件。

Techniques and / or related methods for laser ablation / scribing of coatings in pre assembled and post assembled insulating glass units

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于对预组装和后组装的绝缘玻璃单元中的涂层进行激光烧蚀/划线的技术和/或相关方法
本专利技术的某些示例性实施方案涉及对预层压和后层压的组件、预组装和后组装的绝缘玻璃单元、和/或其他产品中的涂层进行激光烧蚀/划线的技术,以及相关方法。更具体地讲,本专利技术的某些示例性实施方案涉及用于对预层压或后层压的组件、预组装或后组装的绝缘玻璃单元和/或其他产品中的玻璃或其他基底上的涂层(例如,低辐射率、镜面或其他涂层)的周边边缘进行激光烧蚀/划线,以便减缓或防止涂层和/或相关产品的腐蚀的技术。
技术介绍

技术实现思路
层压产品已用于多种应用中,包括例如低辐射率(低E)、镜和其他应用。图1为示例性层压产品100的剖视图。图1示例性层压产品100包括与层压材料104层压在一起的基本上平行的间隔开的第一基底102a和第二基底102b(例如玻璃基底),其有时也被称为夹层。典型的层压材料包括,例如,PVB、EVA、PET、PU等。取决于应用,层压材料104可以为光学“透明的”,即,其可具有高可见光透射率。一个或多个涂层可形成于第一基底102a和/或第二基底10本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种制备绝缘玻璃单元(IG单元)的方法,所述方法包括:/n取得中间产品,所述中间产品包括与周边边缘垫片连接在一起的基本上平行的间隔开的第一玻璃基底和第二玻璃基底,在所述第一基底和所述第二基底之间限定间隙,所述第一玻璃基底具有形成于其上的多层薄膜涂层,所述涂层包括至少一个含金属层并且易于腐蚀;以及/n通过在制备所述IG单元时使所述中间产品暴露于激光源而在所述涂层中激光划出线,所述线形成其相对侧之间的电子传输的阻隔件。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170710 US 15/645,4481.一种制备绝缘玻璃单元(IG单元)的方法,所述方法包括:
取得中间产品,所述中间产品包括与周边边缘垫片连接在一起的基本上平行的间隔开的第一玻璃基底和第二玻璃基底,在所述第一基底和所述第二基底之间限定间隙,所述第一玻璃基底具有形成于其上的多层薄膜涂层,所述涂层包括至少一个含金属层并且易于腐蚀;以及
通过在制备所述IG单元时使所述中间产品暴露于激光源而在所述涂层中激光划出线,所述线形成其相对侧之间的电子传输的阻隔件。


2.根据权利要求1所述的方法,其中所述激光源为1064nm激光源。


3.根据任一前述权利要求所述的方法,所述方法还包括在所述第二基底为至少90%透射的波长下操作所述激光源。


4.根据任一前述权利要求所述的方法,其中所述涂层为包括包含Ag的层的低辐射率涂层。


5.根据权利要求4所述的方法,其中所述涂层包括至少一个包含Ni、Cr和/或Ti的层,所述至少一个包含Ni、Cr和/或Ti的层形成于所述包含Ag的层上并且与所述包含Ag的层物理接触。


6.根据权利要求4至5中任一项所述的方法,其中所述包含Ag的层被夹在包含Ni、Cr和/或Ti的第一层和第二层之间并且与包含Ni、Cr和/或Ti的第一层和第二层直接物理接触。


7.根据权利要求4至5中任一项所述的方法,其中所述包含Ag的层形成于包含氧化锌的层上并且与包含氧化锌的层直接物理接触。


8.根据任一前述权利要求所述的方法,所述方法还包括执行所述激光划线以完全溶解邻近所述线的所述涂层。


9.根据权利要求1至7中任一项所述的方法,所述方法还包括执行所述激光划线以溶解邻近所述线的仅一部分所述涂层。


10.根据任一前述权利要求所述的方法,所述方法还包括执行所述激光划线以溶解邻近所述线的至少一部分所述涂层,将来自所述涂层的溶解部分的材料重新沉积,使得其不导电。


11.根据任一前述权利要求所述的方法,其中所述涂层包括在所述第一玻璃基底正上方的底部电介质层,并且所述方法还包括:
执行所述激光划线以溶解所述涂层的包括所述至少一个含金属层但不包括所述底部电介质层的部分。


12.根据权利要求12所述的方法,其中所述涂层的溶解部分至少部分地溶解于所述底部电介质层中。


13.根据任一前述权利要求所述的方法,所述方法还包括控制由激光划线产生的热,以避免损坏在其上形成所述涂层的基底的表面。


14.根据权利要求13所述的方法,所述方法还包括中断所述激光划线和冷却所述中间产品和/或使所述中间产品在所述中断期间冷却,以便有助于控制所产生的热。


15.根据权利要求13至14中任一项所述的方法,所述方法还包括控制所述激光源的占空比和/或操作功率以便有助于控制所产生的热。


16.根据任一前述权利要求所述的方法,其中所述线具有至少100um至800um的宽度。


17.根据任一前述权利要求所述的方法,其中所述线围绕中间制品的周边形成,所述阻隔件围绕所述中间制品的周边限定。


18.根据任一前述权利要求所述的方法,其中所述激光划线结合所述激光源的多次重叠扫描来实施。


19.根据任一前述权利要求所述的方法,其中执行所述激光划线以产生亚10微微A的电隔离阻隔件。


20.根据任一前述权利要求所述的方法,其中在所述激光划线期间,所述第二...

【专利技术属性】
技术研发人员:维贾延·S·维拉萨米罗伯特·A·凡达尔
申请(专利权)人:佳殿玻璃有限公司
类型:发明
国别省市:美国;US

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