包括设计组的光谱装置制造方法及图纸

技术编号:23563722 阅读:64 留言:0更新日期:2020-03-25 08:10
提供了一种光谱装置。光谱装置包括在基底上的多个设计组。每个设计组包括被基底的裸露区域分隔的多个倒塌组,其中,每个设计组的边缘被配置为增强溶剂干燥线在设计组的边缘处的钉扎。每个倒塌组包括至少两个柔性立柱状结构,并且每个柔性立柱状结构包括金属帽。

Spectrum device including design team

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包括设计组的光谱装置
技术介绍
传感器可以被构造成基于由纳米级金属粒子的等离子体共振产生的强局部电场。一种类型的传感器使用被纳米级窄间隙分隔的相邻金属纳米粒子的等离子体共振。纳米级间隙是由包括金属帽的柔性纳米柱倒塌成倒塌组产生的。柔性纳米柱的倒塌是由蒸发流体的微毛细管力引起的。为了增强倒塌的可靠性,柱是由高纵横比柱制成的,这会给制造和材料带来挑战。因此,需要用于控制倒塌的增强技术。附图说明在以下详细描述中参照附图描述了某些示例性实施例。图1是基底支撑用于形成柔性纳米柱的立柱层的示例的图。图2是形成在基底上的柔性纳米柱的两个设计组的示例的图。图3是金属层沉积在柔性纳米柱和基底上从而在每个柔性纳米柱的顶部形成金属帽的示例的图。图4是使设计组上的流体蒸发的示例的示意图,示出了设计组的边缘处的溶剂钉扎的效果。图5是每个设计组中的倒塌组的示例的图。图6是控制倒塌组形成的溶剂钉扎的示例的显微照片。图7(A)至图7(C)是可以在流体蒸发过程中增加纳米柱的倒塌的设计组的潜在布局的示例的图。<br>图8(A)和图本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光谱装置,包括分析芯片,所述分析芯片包括在基底上的多个设计组,其中:/n每个设计组包括被基底的裸露区域分隔的多个倒塌组,其中,每个设计组的边缘被配置为增强溶剂干燥线在所述设计组的边缘处的钉扎;/n每个倒塌组包括至少两个柔性立柱状结构;并且/n每个柔性立柱状结构包括金属帽。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光谱装置,包括分析芯片,所述分析芯片包括在基底上的多个设计组,其中:
每个设计组包括被基底的裸露区域分隔的多个倒塌组,其中,每个设计组的边缘被配置为增强溶剂干燥线在所述设计组的边缘处的钉扎;
每个倒塌组包括至少两个柔性立柱状结构;并且
每个柔性立柱状结构包括金属帽。


2.如权利要求1所述的光谱装置,其中,设计组包括以圆形样式布置的多个倒塌组,其中,所述圆形样式被裸露区域包围。


3.如权利要求1所述的光谱装置,其中,设计组包括以三角形样式布置的多个倒塌组,其中,所述三角形样式被裸露区域包围。


4.如权利要求1所述的光谱装置,其中,设计组包括以正方形样式布置的多个倒塌组,其中,所述正方形样式被裸露区域包围。


5.如权利要求1所述的光谱装置,其中,所述金属帽包含贵金属、金、铜、铝、或银、或其任何组合。


6.如权利要求1所述的光谱装置,包括分光光度计,所述分光光度计被配置为将电磁辐射的激发束引导到所述分析芯片上,并检测从所述分析芯片发射的电磁辐射束。


7.如权利要求6所述的光谱装置,其中,所述分光光度计包括表面增强拉曼分光光度计。


8.如权利要求6所述的光谱装置,其中,所述分光光度计包括荧光计或红外分光光度计。


9.一种制造光谱装置的方法,包括:
在基底上形成多个设计组,其中,每个设计组包括形成在所述基底上的多个...

【专利技术属性】
技术研发人员:S·巴塞洛A·罗卡斯
申请(专利权)人:惠普发展公司有限责任合伙企业
类型:发明
国别省市:美国;US

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