硝酸型蚀刻液制造技术

本发明专利技术公开了一种硝酸型蚀刻液，包括：硝酸，氢离子补充剂、溶铜促进剂、阴极去极化剂、烟雾抑制剂和水。本发明专利技术的有益效果是：解决了现有的蚀刻液产生污染的氯化铜的问题，实现零排放的清洁生产；蚀刻速度快，蚀刻槽液置換次数少，作业温度低，节能增效。

Nitric acid etching solution

【技术实现步骤摘要】
硝酸型蚀刻液
本专利技术涉及线路板处理领域，特别是一种印制线路板(PCB)制珵中蚀刻工艺专用的硝酸型蚀刻液。
技术介绍
随着PCB产业不断发展,至今为止，印制线路板蚀刻工艺过程所使用过的蚀刻液，已经更新至第四代产品。也就是自1975年专利技术以来至今，目前用的最为广泛的—氯化铜型蚀刻液。(氯化铜型蚀刻液按性质来分,分为酸性蚀刻液和碱性蚀刻液两大类。酸性蚀刻液又可分为：单液型酸性蚀刻液、双液型酸性蚀刻液。)蚀刻液质量好坏的评定,通常从蚀刻系数、蚀刻速率和溶铜量三个方面来衡量。现有技术中的氯化铜型蚀刻液特性汇总表：综上，现有的蚀刻液的缺陷在于：蚀刻速率低；蚀刻系数小，侧蚀大；药效不稳定，不能连续运转和再生；溶铜量偏低；工艺条件范围窄，且不能有效地实行自动控制；产生的污水难处理。
技术实现思路
针对上述技术问题，本专利技术提供一种硝酸型蚀刻液，是通过如下技术方案实现的。硝酸型蚀刻液，包括：包括：硝酸，氢离子补充剂、溶铜促进剂、阴极去极化剂、烟雾抑制剂和水。与现有技术相比，本专利技术的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.硝酸型蚀刻液，其特征在于，包括：/n硝酸；/n氢离子补充剂；/n溶铜促进剂；/n阴极去极化剂；/n烟雾抑制剂；和/n水。/n

【技术特征摘要】
1.硝酸型蚀刻液，其特征在于，包括：
硝酸；
氢离子补充剂；<...

【专利技术属性】
技术研发人员：戴泽民，杨国雄，苑伟东，
申请(专利权)人：深圳市中南环保科技控股有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44