【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】与防散射准直器相结合的参考检测器元件
技术介绍
本文所公开的主题涉及采用包括基于半导体的检测器在内的防散射栅格的检测器的使用。非侵入式成像技术允许非侵入地获得受检者(患者、制造商品、行李、包裹或乘客)的内部结构或特征的图像。具体地，此类非侵入式成像技术依赖于各种物理原理(诸如X射线光子通过目标体积的差分传输或声波的反射)，以获取数据和构建图像或以其它方式表示受检者的内部特征。例如，在基于X射线的成像技术中，X射线辐射跨越感兴趣的受检者(诸如人类患者)，并且一部分辐射影响收集强度数据的检测器。在数字X射线系统中，检测器产生表示影响检测器表面的离散像素区域的辐射的量或强度的信号。然后可以处理信号以生成可显示以供查看的图像。在一种这样的基于X射线的技术(称为计算机断层摄影(CT))中，扫描仪可以在围绕被成像的对象(诸如患者)的多个视角位置处投射来自X射线源的扇形或锥形X射线束。X射线束在其穿过对象时衰减并且由一组检测器元件检测，该组检测器元件产生表示检测器上的入射X射线强度的强度的信号。处理信号以产生表示对象的线性衰减系数沿X射线路径的...
【技术保护点】
1.一种辐射检测器组件，所述辐射检测器组件包括：/n防散射准直器，所述防散射准直器包括按一维几何形状或二维几何形状布置的X射线衰减隔膜；/n辐射检测器面板，所述辐射检测器面板包括：/n主像素的阵列，所述主像素的阵列被定位以便不位于所述防散射准直器的所述隔膜下方；和/n至少一个参考像素，所述至少一个参考像素与一个或多个相应的主像素相邻并且定位在相应的隔膜或隔膜的交叉口下方。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170508 US 15/589,4121.一种辐射检测器组件，所述辐射检测器组件包括：
防散射准直器，所述防散射准直器包括按一维几何形状或二维几何形状布置的X射线衰减隔膜；
辐射检测器面板，所述辐射检测器面板包括：
主像素的阵列，所述主像素的阵列被定位以便不位于所述防散射准直器的所述隔膜下方；和
至少一个参考像素，所述至少一个参考像素与一个或多个相应的主像素相邻并且定位在相应的隔膜或隔膜的交叉口下方。
2.根据权利要求1所述的辐射检测器，其中所述至少一个参考像素的面积小于相应的主像素的面积。
3.根据权利要求1所述的辐射检测器组件，所述辐射检测器组件包括读出电子器件，所述读出电子器件被配置成当电荷共享事件发生时将来自所述至少一个参考像素的信号和相应的主像素组合。
4.根据权利要求1所述的辐射检测器组件，其中所述至少一个参考像素包括设置在所述隔膜或隔膜交叉口中的一者或多者下方的多个参考像素。
5.根据权利要求1所述的辐射检测器组件，其中所述至少一个参考像素包括多个参考像素，其中每个参考像素与至少一个主像素相邻。
6.根据权利要求1所述的辐射检测器组件，其中所述至少一个参考像素包括多个参考像素，并且其中所述多个参考像素成对地布置在所述X射线衰减隔膜的至少一部分下方，使得一对参考像素的第一参考像素与第一主像素相邻，同时一对参考像素的第二参考像素与第二主像素相邻。
7.根据权利要求1所述的辐射检测器组件，其中所述辐射检测器面板为直接转换检测器面板。
8.一种用于X射线信号更正的方法，所述方法包括：
从一个或多个参考像素读出信号，其中所述一个或多个参考像素定位在邻近检测器面板定位的防散射准直器的X射线衰减隔膜或隔膜交叉口下方；
分析所述信号的电荷共享事件或X射线焦点失准中的一者或两者的指示；
基于所述分析，对所述电荷共享事件或X射线焦点失准中的一者或两者执行更正。
9.根据权利要求8所述的方法，其中分析所述信号包括分析所述信号的指示X射线焦点失准的信号图案；并且还包括：
如果未检测到信号图案，则不采取更正措施；并且
如果检测到信号图案，则基于所述信号图案来估计X射线焦点位置。
10.根据权利要求8所述的方法，其中读出所述一个或多个参考像素是在空气扫描期间执行的，并且还包括：
生成更正所述X射线焦点的失准的校准因子；
使用所述校准因子来调节在后续读出操作中从所述检测器面板的多个主像素读出的数据，以补偿X射线焦...
【专利技术属性】
技术研发人员：芮雪，付赓，金燕南，郭建军，彼得·迈克尔·伊迪克，布莱恩·大卫·亚诺夫，
申请(专利权)人：通用电气公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
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