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一种Si/MoS制造技术

技术编号:23485718 阅读:31 留言:0更新日期:2020-03-10 12:56
本发明专利技术公开了一种Si/MoS

A kind of Si/MoS

【技术实现步骤摘要】
一种Si/MoS2电极材料制备方法
本专利技术属于电极材料制备领域,具体涉及一种Si/MoS2电极材料制备方法。
技术介绍
Si量子点是近年来研究出来的一种具有很多优点的物质,较低的制备成本为Si量子点快速应用于生产实际奠定基础,较小的毒性为Si量子点进行实验研究提供安全保障,良好的化学性能为它在电学性能方面的研究提供支撑。片层状结构的过渡金属二硫化钼(MoS2)是一种有光泽的黑色粉末,层间与层内分别存在共价键和范德华力,是一种极具研究价值的材料,由于弱范德华力的存在使电解质离子易进入MoS2中。此外Mo离子很多种价态,这对法拉第反应的发生起到促进作用。此外,片层状的结构使MoS2与电解质溶液有更加良好的接触,从而实现了离子的快速传输,然而MoS2作为赝电容材料存在着电导率较差的问题,从能量传输的角度来说,这较大程度的限制了它在电容器储能方面的发展。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服上述不足,提供一种Si/MoS2电极材料制备方法,将Si量子和MoS2复合,复合后的MoS2电化学性能有了较大的改善。为了本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种Si/MoS

【技术特征摘要】
1.一种Si/MoS2电极材料制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤一,制备Si量子点;
步骤二,将钼酸铵和尿素混合,加入Si量子点,作为一份混合液;
步骤三,将混合液进行水热反应,降至室温后进行离心清洗,对沉淀物进行干燥,制备出Si/MoS2复合材料。


2.根据权利要求1所述的一种Si/MoS2电极材料制备方法,其特征在于,步骤一中,Si量子点的制备方法如下:
将3.75mL抗坏血酸钠溶液和1mLN-氨乙基-γ-氨丙基三甲氧基硅烷加入到12mL去离子水中,室温条件下搅拌均匀,获得一份Si量子点。


3.根据权利要求2...

【专利技术属性】
技术研发人员:郑佳红牛世峰张润梅
申请(专利权)人:长安大学
类型:发明
国别省市:陕西;61

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