用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置制造方法及图纸

本申请公开了一种用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置，包括圆柱状的高度调节螺丝、基座、孔径调节器和垫块，所述高度调节螺丝和孔径调节器的圆周面分别加工有外螺纹，所述基座的两侧端面分别凹设有与所述高度调节螺丝和孔径调节器对应设置的第一螺纹孔和第二螺纹孔，所述孔径调节器背离所述基座的一端凹设有与垫块对应设置的通孔。本实用新型专利技术设计合理，使用方便快捷，易于操作使用，适用于常规样品和非常规样品的双面磨平，应用范围广。

Sample double side grinding device for nanoindentation tester

【技术实现步骤摘要】
用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置
本技术涉及材料研究领域，具体是一种纳米压痕仪检测用样品双面磨平装置。
技术介绍
纳米压痕仪测试时，必须要确保被检测面在同一水平高度，这就要求样品的被检测面和其对应的底面要相互平行。对于半导体、玻璃等行业，由于生产工艺能确保双面平行，且被检测面不需要磨抛处理，因此不存在这类问题。而对于钢铁行业，由于样品形状复杂，通常需要将样品镶嵌后单面磨平或直接将检测面磨平，然后用切割机或线切割切出与被检测面相互平行的底面。但这种方法在实际操作过程中很难确保被检测面和其对应的底面相互平行，具有可操作性不强、使用便捷性差等诸多缺点。故此需要提出改进。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置，以克服现有技术中的不足。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：本申请实施例公开了一种用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置，包括圆柱状的高度调节螺丝、基座、孔径调节器和垫块，所述高度调节螺丝和孔径调节器的圆周面分别加工有外螺纹，所述基座的两侧端面分别凹设有与所述高度调节螺丝和孔径调节器对应设置的第一螺纹孔和第二螺纹孔，所述孔径调节器背离所述基座的一端凹设有与垫块对应设置的通孔。优选的，在上述的用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置中，所述基座为外径为100mm，所述通孔的直径径为40mm或30mm或10mm。优选的，在上述的用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置中，所述第一螺纹孔的螺纹间距小于0.2mm。优选的，在上述的用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置中，所述高度调节螺丝背离所述孔径调节器的一侧端面中心有一字通孔。优选的，在上述的用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置中，所述孔径调节器设有通孔的一侧端面至少凹设有两个方孔，所述方孔以所述通孔的中轴线为中心等间距阵列设置。优选的，在上述的用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置中，所述高度调节螺丝、基座、孔径调节器和垫块共轴设置。优选的，在上述的用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置中，所述第二螺纹孔的底面和通孔的内壁的粗糙度优于Ra0.1mm，所述垫块的外表面的表面粗糙度优于Ra0.1mm。与现有技术相比，本技术的优点在于：(1)本技术结构简单，使用方便，操作安全，制样效率高，对人员无特殊要求，适用范围广；(2)可研磨规则和不规则样品，对样品类型也没有限制，制备出样品能够确保双面平行，提高纳米压痕测试结果的准确性。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1所示为本技术具体实施例中用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置的结构示意图。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行详细的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。参图1所示，本实施例中的用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置，包括包括圆柱状的高度调节螺丝、基座、孔径调节器和垫块，所述高度调节螺丝和孔径调节器的圆周面分别加工有外螺纹，所述基座的两侧端面分别凹设有与所述高度调节螺丝和孔径调节器对应设置的第一螺纹孔和第二螺纹孔，所述孔径调节器背离所述基座的一端凹设有与垫块对应设置的通孔；基座直径为100mm，孔径调节器内孔径为40mm、30mm和10mm三种，对应三种直径分别为40mm、30mm和10mm的垫块；其中，第一螺纹孔的螺纹间距小于0.2mm；高度调节螺丝背离孔径调节器的一侧端面中心有一字通孔，可以用一字螺丝刀旋转高度调节螺丝；孔径调节器设有通孔的一侧端面凹设有两个方孔，可供螺丝刀旋转用；高度调节螺丝、基座、孔径调节器和垫块共轴设置；第二螺纹孔的底面和通孔的内壁的粗糙度优于Ra0.1mm，垫块的外表面的表面粗糙度优于Ra0.1mm。使用过程中，按如下步骤对该装置进行操作：1)、将孔径调节器装入基座，垫块的一面用石蜡固定需要磨平的样品，另一面推入孔径调节器的通孔中；2)、调节高度调节螺丝，使样品的待磨面略超出基座0.5mm左右；3)、将待磨面放置在砂纸上，推动磨平装置在砂纸上移动，直至待磨面超出基座部分被完全磨去；4)、调节高度调节螺丝，使得待磨面略超出基座平面，重复步骤2和3直到被磨面的表面平整；5)、重复1-3步骤，将被磨面相对应的面也磨至表面平整，即可制得双面平行的样品。综上所述，本技术结构简单，使用方便，操作安全，制样效率高，对人员无特殊要求，适用范围广；可研磨规则和不规则样品，对样品类型也没有限制，制备出样品能够确保双面平行，提高纳米压痕测试结果的准确性。需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。以上所述仅是本申请的具体实施方式，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置，其特征在于，包括圆柱状的高度调节螺丝、基座、孔径调节器和垫块，所述高度调节螺丝和孔径调节器的圆周面分别加工有外螺纹，所述基座的两侧端面分别凹设有与所述高度调节螺丝和孔径调节器对应设置的第一螺纹孔和第二螺纹孔，所述孔径调节器背离所述基座的一端凹设有与垫块对应设置的通孔。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置，其特征在于，包括圆柱状的高度调节螺丝、基座、孔径调节器和垫块，所述高度调节螺丝和孔径调节器的圆周面分别加工有外螺纹，所述基座的两侧端面分别凹设有与所述高度调节螺丝和孔径调节器对应设置的第一螺纹孔和第二螺纹孔，所述孔径调节器背离所述基座的一端凹设有与垫块对应设置的通孔。


2.根据权利要求1所述的用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置，其特征在于：所述基座为外径为100mm，所述通孔的直径为40mm或30mm或10mm。


3.根据权利要求1所述的用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置，其特征在于：所述第一螺纹孔的螺纹间距小于0.2mm。


4.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：金传伟，张珂，吴园园，
申请(专利权)人：江苏省沙钢钢铁研究院有限公司，江苏沙钢集团有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32