一种图案化电致变色器件以及电致变色玻璃制造技术

本实用新型专利技术提供了一种图案化电致变色器件以及电致变色玻璃，所述图案化电致变色器件包括依次叠合的第一导电层、电致变色层、电解质层、离子存储层以及第二导电层，所述电致变色层和/或离子存储层上设置有预制图案；通过在电致变色层和/或离子存储层上设置预设图案，使器件具备常规性能的前提下，还具有变色时间短以及反射率高等优点；且无需破坏反射层、保护层或导电层，通过电压控制或者在恒定电压下，使图案的显示变化能够呈现层次感以及渐变感；此外在反射层上设置盲点图标，克服了现有技术中预设图案设置在导电层或玻璃层上需要满足所有元素需贯通的缺点，可以预设含封闭元素的图案化，从而能够实现盲点显示技术的断点兼容效果。

A patterned electrochromic device and electrochromic glass

【技术实现步骤摘要】
一种图案化电致变色器件以及电致变色玻璃
本技术属于电致变色
，涉及一种图案化电致变色器件以及电致变色玻璃。
技术介绍
目前市面上的电致变色产品价格昂贵，例如电致变色后视镜、天窗、玻璃幕墙等产品。且市面上电致变色产品由于技术限制无法在变色层上做出各种图案化，例如目前电致变色后视镜上的警示语、变道辅助加热图标，使用蚀刻或丝印破坏反射层的方式实现，减少了视野区域。目前已有人提出使用一种可变色固态薄膜作为变色层的电致变色产品，基于固态电致变色技术我们可以通过在特定变色层上预设图案，在无需破坏镜面反射层或腐蚀玻璃的情况下，通过电压控制变色层透过率的变化达到图案的显示变化。可应用于建筑用玻璃、摄像头模组、舞台灯组和汽车后视镜、天窗、车窗玻璃等领域。CN108008587A公开了一种以图案化ITO作为透明导电层的电致玻璃及制作方法，该制作方法具体过程如下：在第一玻璃基底上镀有一层ITO层，通过光刻，显影腐蚀等步骤得到图案化的第一透明导电层，在图案化的第一透明导电层表面镀上电致变色层；在第二玻璃基底镀上ITO层，通过光刻，显影腐蚀等步骤得到图案化的第二透明导电层，在图案化的第二透明导电层表面镀上离子储存层后，在离子储存层和电致变色层之间制备电解质层，获得以图案化ITO作为透明导电层的电致变色玻璃。该专利技术用图案化ITO制作透明导电层，使电致变色玻璃的响应时间减少，循环寿命增长，颜色对比度增加，但是其显示效果单一，无法呈现层次感或渐变感。CN103676392A公开了一种图案化膜层的制造方法，所述制造方法包含以下步骤：提供基材，基材具有第一面以及相对于第一面的第二面；提供材料源，基材的第一面朝向材料源，且材料源用以提供多个带电粒子；提供磁性元件，第二面设置于磁性元件与第一面之间；以及借由磁性元件，将带电粒子沉积于第一面上，而形成一图案化膜层；该方法制备的图案化层具有较高的可靠度，但是其会对基材造成破坏，从而影响视野区域。因此，开发一种视野区域广，且图案显示变化能呈现层次感和渐变感的电致变色器件非常有必要。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种图案化电致变色器件以及电致变色玻璃，通过在电致变色层和/或离子存储层上设置预设图案，使器件具备常规性能的前提下，还具有变色时间短以及反射率高等优点；且无需破坏反射层、保护层或导电层，通过电压控制或者在恒定电压下，使图案的显示变化能够呈现层次感以及渐变感；此外在反射层上设置盲点图标，克服了现有技术中预设图案设置在导电层或玻璃层上需要满足所有元素需贯通的缺点，可以预设含封闭元素的图案化，从而能够实现盲点显示技术的断点兼容效果。为达到此技术目的，本技术采用以下技术方案：本技术的目的之一在于提供一种图案化电致变色器件，所述图案化电致变色器件包括依次叠合的第一导电层、电致变色层、电解质层、离子存储层以及第二导电层，所述电致变色层和/或离子存储层上设置有预制图案。本技术中图案化电致变色器件通过在电致变色层和/或离子存储层上设置预设图案，在无需破坏反射层、保护层或导电层的情况下，除了通过电压控制变色层透过率的变化达到图案的显示变化，且图案的显示变化能够呈现层次感以及渐变感，还可以在恒定电压下，通过图案化材料自身电阻的变化使电流发生变化，从而使图案显示变化在恒定电压下能够呈现层次感以及渐变感。本技术中通过在电致变色层和/或离子存储层上设置预设图案，克服了现有技术中将预设图案设置在导电层或玻璃层上所有元素需贯通的缺点，具有处理工艺易实现，可以预设含封闭元素的各种图案的优点，示例性地如：设置O型图案，现有技术中，O型图案内部以及外部的电致变色材料需要处于连通状态，即需要在O型图案上设置一个缝隙，使O型图案内部以及外部的电致变色材料处于连通状态，而本技术中通过设置预设图案，使O型图案内部以及外部的材料无需处于连通状态，即能实现盲点显示技术的断点兼容效果。在本技术中，所述第一导电层和第二导电层的厚度各自独立地25-200μm，例如25μm、40μm、50μm、60μm、70μm、80μm、90μm、100μm、110μm、120μm、130μm、140μm、150μm、160μm、170μm、180μm、190μm、200μm等。本技术中第一导电层和第二导电层的作用是为电致变色层以及离子储存层提供导通。在本技术中，所述第一导电层为材质是氧化物、导电银浆或导电石墨的第一导电层。在本技术中，所述第二导电层为材质是氧化物、导电银浆或导电石墨的第二导电层。在本技术中，所述氧化物包括铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、镓锌氧化物(GZO)或铝锌氧化物(AZO)中的任意一种或至少两种的组合。在本技术中，所述电致变色层的厚度为0.1-100μm，例如0.1μm、1μm、5μm、10μm、15μm、20μm、25μm、30μm、35μm、40μm、45μm、50μm、55μm、60μm、65μm、70μm、75μm、80μm、85μm、90μm、95μm、100μm等。在本技术中，所述电致变色层为材质是聚苯胺类电致变色材料、聚吡咯类电致变色材料、聚噻吩类电致变色材料、聚呋喃类电致变色材料或聚吲哚类电致变色材料的电致变色层。在本技术中，所述离子存储层的厚度为0.1-100μm，例如0.1μm、1μm、5μm、10μm、15μm、20μm、25μm、30μm、35μm、40μm、45μm、50μm、55μm、60μm、65μm、70μm、75μm、80μm、85μm、90μm、95μm、100μm等。在本技术中，所述离子存储层为材质是二茂铁、普鲁士蓝、三氧化钨或二氧化钛的离子存储层。在本技术中，所述电解质层的厚度为1-200μm，例如1μm、5μm、10μm、20μm、30μm、40μm、50μm、60μm、70μm、80μm、90μm、100μm、110μm、120μm、130μm、140μm、150μm、160μm、170μm、180μm、190μm、200μm等。在本技术中，所述电解质层为全固态聚合物电解质层；优选地，所述全固态聚合物电解质层为材质是聚碳酸酯基电解质、聚合物锂单离子导体基电解质或聚氧化乙烯基电解质的电解质层。在本技术中，所述电致变色层和/或离子存储层上预设图案的厚度各自独立地为0.1-100μm，例如0.1μm、1μm、5μm、10μm、20μm、30μm、40μm、50μm、60μm、70μm、80μm、90μm、100μm等。作为本领域公知，预设图案的厚度小于等于电致变色层和/或离子存储层的厚度，其中预设图案的厚度在0.1-100μm之间变化，其厚度可以为一个恒定的值，也可以为一个范围值，具体设置本领域技术人员可根据实际需要进行调整。本技术中，通过在电致变色层和/或离子存储层上预设图案是为了调节输出图案的显示效果。在本技术中，所述预设图案为材本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种图案化电致变色器件，其特征在于，所述图案化电致变色器件包括依次叠合的第一导电层、电致变色层、电解质层、离子存储层以及第二导电层，所述电致变色层和/或离子存储层上设置有预制图案。/n

【技术特征摘要】
1.一种图案化电致变色器件，其特征在于，所述图案化电致变色器件包括依次叠合的第一导电层、电致变色层、电解质层、离子存储层以及第二导电层，所述电致变色层和/或离子存储层上设置有预制图案。


2.根据权利要求1所述的图案化电致变色器件，其特征在于，所述第一导电层和第二导电层的厚度各自独立地为25-200μm。


3.根据权利要求1所述的图案化电致变色器件，其特征在于，所述电致变色层的厚度为0.1-100μm。


4.根据权利要求1所述的图案化电致变色器件，其特征在于，所述离子存储层的厚度为0.1-100μm。


5.根据权利要求1所述的图案化电致变色器件，其特征在于，所述电解质层的厚度为1-200μm。


6.根据权利要求1所述的图案化电致变色器件，其特征在于，所述电致变色层和/或离子存储层上...

【专利技术属性】
技术研发人员：王宏，何嘉智，
申请(专利权)人：深圳市光羿科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44