【技术实现步骤摘要】
显示装置及其显示方法
本专利技术涉及显示
,更具体地,涉及一种显示装置及其显示方法。
技术介绍
现有设计中,各类显示屏会根据客户需求设计显示区大小,该设计的显示区即为最终显示区域。例如当显示屏被用作为手表表盘,该表盘显示区域即为实际显示区设计大小。在一些需要各组成部件精确对位的制品(其中一个是显示屏)生产过程中,因各类工艺精度及设备偏差,部件对位发生偏差,即偏位问题;例如,一些手表制品中,表盘使用显示屏,而指针为实体指针,常会出现指针与表盘(显示屏)中心发生偏位的问题;在现有设计中,当偏位距离较大时(即确定影响用户体验),由于没有合适的方法进行修正,偏位样品会面临返工处理或者被判定为不良样品进行报废,不仅浪费资源,还直接影响生产良率,增大损失。因此,提供一种可解决因工艺等原因造成的偏位问题,且设计简单,可实施性强,提高产品生产良率的显示装置及其显示方法,是本领域技术人员亟待解决的技术问题。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术提供了一种显示装置及其显示方法,以解决现有技术中一些需要各组成部件精确对位的显示装置在生产过程中因工艺等原因造成显示偏位,影响生产良率的问题。本专利技术提供的一种显示装置,包括:相对设置的显示面板和标识结构,标识结构位于显示面板出光面一侧;显示面板包括显示区,显示区包括多个阵列排布的子像素,沿第一方向,多个子像素形成多个子像素列;显示区包括第一显示区和围绕第一显示区设置的第二显示区;沿第一方向,第二显示区包括位于第一显示区相对两侧的第一子显示区和第二子显示 ...
【技术保护点】
1.一种显示装置,其特征在于,包括:相对设置的显示面板和标识结构,所述标识结构位于所述显示面板出光面一侧;/n所述显示面板包括显示区,所述显示区包括多个阵列排布的子像素,沿第一方向,多个所述子像素形成多个子像素列;/n所述显示区包括第一显示区和围绕所述第一显示区设置的第二显示区;/n沿所述第一方向,所述第二显示区包括位于所述第一显示区相对两侧的第一子显示区和第二子显示区,所述第一子显示区和所述第二子显示区分别包括至少一列所述子像素列;/n所述标识结构包括至少一个指针。/n
【技术特征摘要】
1.一种显示装置,其特征在于,包括:相对设置的显示面板和标识结构,所述标识结构位于所述显示面板出光面一侧;
所述显示面板包括显示区,所述显示区包括多个阵列排布的子像素,沿第一方向,多个所述子像素形成多个子像素列;
所述显示区包括第一显示区和围绕所述第一显示区设置的第二显示区;
沿所述第一方向,所述第二显示区包括位于所述第一显示区相对两侧的第一子显示区和第二子显示区,所述第一子显示区和所述第二子显示区分别包括至少一列所述子像素列;
所述标识结构包括至少一个指针。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,沿第二方向,多个所述子像素形成多个子像素行;其中,所述第一方向和所述第二方向相交;
沿所述第二方向,所述第二显示区还包括位于所述第一显示区相对两侧的第三子显示区和第四子显示区,所述第三子显示区和所述第四子显示区分别包括至少一行所述子像素行。
3.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述第一显示区内的所述子像素和所述第二显示区内的所述子像素均与同一个驱动电路电连接。
4.根据权利要求3所述的显示装置,其特征在于,所述驱动电路包括多个第一控制端和多个第二控制端,所述第一控制端与所述第一显示区内的所述子像素电连接,所述第二控制端与所述第二显示区内的所述子像素电连接。
5.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述第一显示区内的所述子像素与第一驱动电路电连接,所述第二显示区内的所述子像素与第二驱动电路电连接。
6.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述标识结构至少包括第一指针和第二指针,沿所述第一方向,所述第一指针和所述第二指针的交点到所述显示面板两侧的距离不相等。
7.一种显示装置的显示方法,其特征在于,
所述显示装置包括:相对设置的显示面板和标识结构,所述标识结构位于所述显示面板出光面一侧;
所述显示面板包括显示区,所述显示区包括多个阵列排布的子像素,沿第一方向,多个所述子像素形成多个子像素列;
所述显示区包括第一显示区和围绕所述第一显示区设置的第二显示区;
沿所述第一方向,所述第二显示区包括位于所述第一显示区相对两侧的第一子显示区和第二子显示区,所述第一子显示区和所述第二子显示区分别包括至少一列所述子像素列;
所述标识结构包括至少一个指针;所述显示区用于显示围绕所述指针的多个刻度;
所述显示方法至少包括:第一显示阶段、判断阶段、第二显示阶段;
在所述第一显示阶段,所述第一显示区用于显示围绕所述指针的多个第一刻度;
在所述判断阶段,通过检测设备进行偏位距离监控,所述偏位距离包括沿所述第一方向,所述指针与所述第一刻度之间的第一偏位距离Lx;
根据生产需求,设定偏位不良距离m,其中,沿所述第一方向,m的值大于或等于一个所述子像素的宽度;
当...
【专利技术属性】
技术研发人员:许明洁,金慧俊,
申请(专利权)人:上海中航光电子有限公司,
类型:发明
国别省市:上海;31
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