一种显示基板、其制作方法及母板、显示面板、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种显示基板、其制作方法及母板、显示面板、显示装置，包括：衬底基板，在衬底基板上依次设置的无机膜层、平坦层和阳极；其中，衬底基板具有显示区域，包围显示区域的切割区域，以及位于显示区域与切割区域之间的过渡区域；阳极设置于显示区域内；无机膜层覆盖衬底基板且在切割区域被减薄处理；过渡区域的无机膜层上具有源漏极金属残留；平坦层至少设置于显示区域和过渡区域且包覆源漏极金属残留。通过设置平坦层包覆源漏极金属残留，使得后续在制作阳极的过程中，平坦层可将源漏极金属残留与刻蚀液中的阳极金属离子(例如Ag

A display base plate, its manufacturing method, motherboard, display panel and display device

【技术实现步骤摘要】
一种显示基板、其制作方法及母板、显示面板、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示基板、其制作方法及母板、显示面板、显示装置。
技术介绍
相关技术中，一般通过在母板上制作多个显示基板，并采用激光切割母板以获得显示基板。通常的设计是在切割区域使用一薄层无机膜层如硅的氮氧化合物来保护衬底基板，防止激光烧焦衬底基板的表面。并通过对无机膜层进行减薄，以防切割过程中造成无机膜层裂开。然而，减薄处理后的无机膜层存在一定的高度差，再进行后续工艺段如源漏极金属(Ti/Al/Ti)的蒸镀与刻蚀时，在无机膜层的台阶处会具有源漏极金属的残留。而后续在阳极(Ag/ITO/Ag)的湿法刻蚀工艺的过程中，游离的Ag+会与残留的源漏极金属中的Al发生置换反应，置换出Ag单质，Ag单质被刻蚀液带到显示区域，造成显示不良。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术实施例提供一种显示基板、其制作方法及母板、显示面板、显示装置，用以提高显示品质。因此，本专利技术实施例提供的一种显示基板，包括：衬底基板，在所述衬底基板上依次设置的无机膜层、平坦层和阳极；其中，...

【技术保护点】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：衬底基板，在所述衬底基板上依次设置的无机膜层、平坦层和阳极；其中，/n所述衬底基板具有显示区域，包围所述显示区域的切割区域，以及位于所述显示区域与所述切割区域之间的过渡区域；/n所述阳极设置于所述显示区域内；/n所述无机膜层覆盖所述衬底基板，且所述无机膜层在所述切割区域被减薄处理；/n所述过渡区域的所述无机膜层上具有源漏极金属残留；/n所述平坦层至少设置于所述显示区域和所述过渡区域，且所述平坦层包覆所述源漏极金属残留。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：衬底基板，在所述衬底基板上依次设置的无机膜层、平坦层和阳极；其中，
所述衬底基板具有显示区域，包围所述显示区域的切割区域，以及位于所述显示区域与所述切割区域之间的过渡区域；
所述阳极设置于所述显示区域内；
所述无机膜层覆盖所述衬底基板，且所述无机膜层在所述切割区域被减薄处理；
所述过渡区域的所述无机膜层上具有源漏极金属残留；
所述平坦层至少设置于所述显示区域和所述过渡区域，且所述平坦层包覆所述源漏极金属残留。


2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述平坦层在所述衬底基板上的正投影与所述显示区域和所述过渡区域完全重叠，并与所述切割区域部分重叠。


3.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述切割区域的所述无机膜层包括刻蚀阻挡层，所述显示区域和所述过渡区域的所述无机膜层包括在所述衬底基板上依次层叠设置的所述刻蚀阻挡层、缓冲层、第一绝缘层和第二绝缘层。


4.如权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述刻蚀阻挡层在所述切割区域的厚度小于其在所述显示区域和所述过渡区域的厚度。


5.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板上整面涂覆无机材料层，并对切割区域的所述无机材料层进行减薄处理，形成无机膜层；
在所述无机膜层上形成位于显示区域的源漏极，以及位于过渡区域的源漏极金属残留；
在所述源漏极所...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩林宏，张毅，秦世开，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11