一种晶片载片旋转式清洁装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及半导体加工领域，具体涉及一种晶片载片旋转式清洁装置，包括固定架，用于固定载盘，包括相对设置的第一挡板和第二挡板、固定连接第一挡板和第二挡板的若干根第一横杆、设置在第一挡板和第二挡之间的第二横杆，载盘置于第一横杆之间围成的空腔内，且与第一挡板和第二挡板平行设置；若干根支撑柱，用于支撑固定架，支撑柱一端活动连接于第二横杆上，支撑柱另一端作为支撑点，使固定架呈悬空状；驱动机构，用于驱动固定架进行旋转，与第二横杆传动连接，带动第二横杆进行旋转，本发明专利技术通过改变支撑方式，取消了石墨承载板，减少了其遮挡热能，可以使烤盘热量扩散的更为均匀，从而达到烤盘更干净的效果。

A rotary cleaning device for wafer carrier

【技术实现步骤摘要】
一种晶片载片旋转式清洁装置
本专利技术涉及半导体加工领域，具体涉及一种晶片载片旋转式清洁装置。
技术介绍
半导体领域目前使用的高温真空烤炉是用来烤掉MOCVD机台磊晶生长后的石墨盘上的杂质，其烤炉腔体均为桶装水平放置，内部安装有石墨支撑住、石墨承载板、烤架等治具，以用来承载固定不同直径的石墨盘等相关备件。目前，LED领域所使用的高温真空烤炉均是带有石墨承载板、烤架等治具来盛放石墨盘，但就是因为有承载板的存在，所以使烤炉内部的热量无法均匀扩散，进而使石墨盘高温烤时局部温度不能达到一致，烤盘会出现局部不干净的现象。因而，找到一种新型的烤架，取代目前使用的石墨承载板+烤架的配套装置，是迫在眉睫的事情。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供晶片载片旋转式清洁装置，该清洁装置通过改变支撑方式，取消了石墨承载板，减少了其遮挡热能，可以使烤盘热量扩散的更为均匀，从而达到烤盘更干净的效果。为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：一种晶片载片旋转式清洁装置，包括：固定架，用于固定载盘，包括相对设置的第一挡板和第二挡板、固定连接第一挡板和第二挡板的若干根第一横杆、设置在第一挡板和第二挡之间的第二横杆，载盘置于第一横杆之间围成的空腔内，且与第一挡板和第二挡板平行设置；若干根支撑柱，用于支撑固定架，支撑柱一端活动连接于第二横杆上，支撑柱另一端作为支撑点，使固定架呈悬空状；驱动机构，用于驱动固定架进行旋转，与第二横杆传动连接，带动第二横杆进行旋转。作为晶片载片旋转式清洁装置的一种优选方案，驱动机构包括第一齿轮、第二齿轮、转动轴和和驱动马达，第一齿轮固定在第二横杆上，第一齿轮啮合有第二齿轮，第二齿轮固定在转动轴上，转动轴的一端固定有第二齿轮，转动轴的另一端与驱动马达传动连接。作为晶片载片旋转式清洁装置的一种优选方案，第一横杆上设置若干个卡槽，载盘放置于卡槽内。作为晶片载片旋转式清洁装置的一种优选方案，第一挡板和第二挡板上均设置有通孔，第一横杆的两端分别插入通孔内并通过螺栓固定在第一挡板和第二挡板上。作为晶片载片旋转式清洁装置的一种优选方案，第一横杆相对于固定架中心的位置通过调整第一横杆在通孔中的位置来调节，调节第一横杆相对固定架中心的位置可以夹持不同尺寸的晶片载盘。作为晶片载片旋转式清洁装置的一种优选方案，第一横杆在第一挡板和第二挡板上均匀分布。本专利技术的有益效果：通过改变支撑方式，取消了石墨承载板，减少了其遮挡热能，可以使烤盘热量扩散的更为均匀；通过调整第二横杆的固定位置或者更换第二横杆，从而烤不同尺寸、不同形状的晶片载盘；通过加装齿轮和转轴可以根据不同的烤盘工艺，设定不同的转速已达到烤更加干净的目的；旋转式的烤架烤盘，可使烤盘过程中出现的镓源滴，利用惯性甩出，从而达到烤盘更干净的效果。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对本专利技术实施例中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面所描述的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术提供的晶片载片旋转式清洁装置的结构示意图图2为本专利技术提供的晶片载片旋转式清洁装置中固定架的结构示意图；图3为本专利技术提供的晶片载片旋转式清洁装置中固定架的侧视图；图4为本专利技术提供的晶片载片旋转式清洁装置中第一齿轮、第二齿轮的结构示意图；图5为本专利技术提供的晶片载片旋转式清洁装置中真空烤炉、烤架的结构示意图。图中：100-固定架；110-第一挡板；111-通孔；120-第一横杆；121-螺栓；122-卡槽；130-第二横杆；140-第二挡板；200-载盘；300-支撑柱；400-驱动机构；410-第一齿轮；420-转动轴；421-第二齿轮；430-驱动马达；500-外壁；510-真空加热腔室。具体实施方式为使本专利技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本专利技术。作为本专利技术的一个实施例，本专利技术提出一种晶片载片旋转式清洁装置，包括固定架，用于固定载盘，包括相对设置的第一挡板和第二挡板、固定连接第一挡板和第二挡板的若干根第一横杆、设置在第一挡板和第二挡之间的第二横杆，载盘置于第一横杆之间围成的空腔内，且与第一挡板和第二挡板平行设置；若干根支撑柱，用于支撑固定架，支撑柱一端活动连接于第二横杆上，支撑柱另一端作为支撑点，使固定架呈悬空状；驱动机构，用于驱动固定架进行旋转，与第二横杆传动连接，带动第二横杆进行旋转。通过该清洁装置的设计，调节衬锅的高度，缩小衬锅与火山口之间的间隙，改善了在蒸镀过程中相邻蒸镀源间的交叉污染现象，减少因镀源污染造成的片源异常，降低异常率，减少镀源交叉污染导致镀源无法继续使用，造成镀源的浪费，有效地降低成本；在蒸镀过程中，由于衬锅底部远离坩埚容器底部，因此减弱了坩埚底部对衬锅内镀源的冷却作用，从而减小镀膜时的功率输出，进一步节省生产成本。下面结合本专利技术的较佳实施例对该清洁装置进行说明。请参阅图1至图5，该清洁装置用于旋转清洁晶片载盘200，其至少包括固定载盘用的固定架100、位于固定架100两端的支撑固定架100的复数个支撑柱300、以及使固定架100旋转的驱动机构400；支撑柱300将固定撑起呈悬空状态，驱动机构400驱动固定架100进行旋转。固定架100包括相对设置的第一挡板110和第二挡板140、可拆卸固定连接第一挡板110和第二挡板140的复数个第一横杆120、分别固定连接于第一挡板110和第二挡板140外侧的第二横杆130，载盘200放置于复数个第一横杆120围成的空腔内，且与第一挡板110和第二挡板140平行。为了使第一横杆120能更好的固定载盘200，本实施例优选的在第一横杆120的内侧设置复数个卡槽122，每一第一横杆120上卡槽122的个数及大小均相同，载盘200位于卡槽122内，一般为了固定载盘200，载盘200固定于第一横杆120围成的空腔内固定架100上第一横杆120的个数不少于3个，以便围成一个空腔放置载盘200。具体他，第一挡板110和第二挡板140上均设置有通孔111，第一横杆120的两端分别插入通孔111内并通过螺栓121固定在第一挡板110和第二挡板140上，第一横杆120相对于固定架100中心的位置通过调整第一横杆120在通孔111中的位置来调节，通过调节烤架相对固定架100中心的位置以便使第一横杆120围成不同面积的空隙，用于放置不同尺寸的晶片载盘200。第一挡板110和第二挡板140外侧的中心均设置有一第二横杆130，第二横杆130可以与第一挡板110和第二挡板140一体成型，也可以通过螺栓121连接于第一挡板110和第二挡板140上。第二横杆130的一端固定于第一挡板110上，另一端指向固定架100的外侧。，第二横杆130置于支撑柱300的一端上，每一第二横杆130上至少设置有2个支撑柱300，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种晶片载片旋转式清洁装置，其特征在于，包括：/n固定架（100），用于固定载盘（200），包括相对设置的第一挡板（110）和第二挡板（140）、固定连接第一挡板（110）和第二挡板（140）的若干根第一横杆（120）、设置在第一挡板（110）和第二挡之间的第二横杆（130），载盘（200）置于第一横杆（120）之间围成的空腔内，且与第一挡板（110）和第二挡板（140）平行设置；/n若干根支撑柱（300），用于支撑固定架（100），支撑柱（300）一端活动连接于第二横杆（130）上，支撑柱（300）另一端作为支撑点，使固定架（100）呈悬空状；/n驱动机构（400），用于驱动固定架（100）进行旋转，与第二横杆（130）传动连接，带动第二横杆（130）进行旋转。/n

【技术特征摘要】
1.一种晶片载片旋转式清洁装置，其特征在于，包括：
固定架（100），用于固定载盘（200），包括相对设置的第一挡板（110）和第二挡板（140）、固定连接第一挡板（110）和第二挡板（140）的若干根第一横杆（120）、设置在第一挡板（110）和第二挡之间的第二横杆（130），载盘（200）置于第一横杆（120）之间围成的空腔内，且与第一挡板（110）和第二挡板（140）平行设置；
若干根支撑柱（300），用于支撑固定架（100），支撑柱（300）一端活动连接于第二横杆（130）上，支撑柱（300）另一端作为支撑点，使固定架（100）呈悬空状；
驱动机构（400），用于驱动固定架（100）进行旋转，与第二横杆（130）传动连接，带动第二横杆（130）进行旋转。


2.根据权利要求1所述的晶片载片旋转式清洁装置，其特征在于，驱动机构（400）包括第一齿轮（410）、第二齿轮（421）、转动轴（420）和和驱动马达（430），第一齿轮（410）固定在第二横杆（130）上，第一齿轮（410）啮合有第二齿轮（421），第二齿轮（421）固定在...

【专利技术属性】
技术研发人员：李响，
申请(专利权)人：苏师大半导体材料与设备研究院邳州有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32